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光学活性化合物的工业合成 总被引:9,自引:0,他引:9
本文介绍了光学活性化合物研究现状及发展趋势。并从技术和经济角度论述了工业合成光学活性化合物的可能性 相似文献
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采用溶剂热法,以K2Se:SnCl2·2H2O∶Se∶en=1∶1∶4∶48的摩尔比,在150 ℃下反应5d,生成黄色透明柱状晶体[(enH2)2Sn2Se6·en]。该晶体属于三斜晶系 ,空间群为Pl^-,晶胞参数,a=0.8659(2)nm,b=1.1055(2)nm,c=0.66360(10)nm, a=104.44(3)°,β=110.93(3)°,γ=79.74(3)°,V=0.57198(19)nm^3,Z=1.[ (enH2)Sn2Se6]晶体由质子化的乙二胺正离子(enH)^+,(enH2)^2+和二聚硒代锡根 负离子(Sn2Se6)^4-堆积而成。在AxSn2Se6系列化合物,正离子A的大小对晶体结 构的类型产生重要的影响。研究表明,此晶体具有1.76eV的能隙(Eg),是个半导 体,对太阳辐射具有选择吸收特性,在温度低于180℃时是稳定的。 相似文献
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二茂铁液晶因其独特的稳定性和易于衍生化受到研究人员的青睐[1- 8] 。我们曾经报道过一类单取代二茂铁液晶的合成与介晶性[9] 。这里我们报道另外一类二茂铁单取代液晶 ,并对分子的长度、溴原子取代对介晶性的影响进行探讨。合成路线如下 :1 实验部分BruckerACE -2 0 0spectrometer,CDCl3作溶剂。NicoletMagna-IR 5 0 0Spectrometer,SeriesⅡ ,KBr压片。WRS -IA ,CarloErba 1 1 0b。Perkin -Elmer 7Series热分析仪 ,分温速度 1 0℃ /mi… 相似文献
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三甲基硅化合物在阳离子引发中的应用 总被引:1,自引:0,他引:1
介绍了三甲基硅化合物在阳离子聚合引发反应中的应用,对两类三甲基硅化合物(三甲基硅酯和三甲基硅卤化物)及其阳离子引发体系方面的研究进展分别作了详细阐述。 相似文献
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