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991.
采用低压金属有机化学气相沉积(LP-MOCVD)技术,两步生长法在InP衬底上制备In0.82Ga0.18As材料.研究缓冲层InxGa1-xAs的In组分对In0.82Ga0.18As结晶质量和表面形貌的影响.X射线衍射(XRD)用于表征材料的组分和结晶质量.用扫描电子显微镜(SEM)观察样品的表面形貌.实验结果表明,低温生长的缓冲层InxGa1-xAs的In组分影响高温生长的外延层In0.82Ga0.18As的结晶质量和表面形貌.测量得到四个样品的外延层In0.82Ga0.18As的X射线衍射谱峰半峰全宽(FWHM)为0.596°,0.68°,0.362°和0.391°,分别对应缓冲层In组分x=0.28,0.53,0.82,0.88,当缓冲层In组分是0.82时,FWHM最窄,表明样品的结晶质量最好.SEM观察四个样品的表面形貌,当缓冲层In组分是0.82时,样品的表面平整,没有出现交叉平行线或蚀坑等缺陷,表面形貌最佳. 相似文献
992.
利用含砷废酸制备亚砷酸铜,并将所得亚砷酸铜应用到铜电解液的净化。研究结果表明:使用NaOH溶液调节废酸pH值为6.0时,废酸中Pb,Cu,Fe和Mg杂质的去除率达到90%以上,砷保留率为89.0%;除杂后,加入CuSO4和NaOH溶液,当pH=8,n(Cu):n(As)=2:1,反应温度为20℃,反应时间为1h时,亚砷酸铜的产率达到98.2%;所得亚砷酸铜为非晶体,其中Cu与As的物质的量比为2.15;当铜电解液中加入20g/L亚砷酸铜时,铜电解液中Sb和Bi分别从0.65g/L和0.15g/L降到0.30g/L和0.07g/L,Sb和Bi去除率分别达到53.85%和53.33%。 相似文献
993.
催化动力学测定痕量砷(Ⅲ)的研究 总被引:2,自引:0,他引:2
在硫酸介质中,发现痕量砷(Ⅲ)能灵敏地催化高碘酸钾氧化中性红褪色的指标反应,研究了该催化反应的最佳条件与动力学参数,建立了一种新的测定痕量砷(Ⅲ)的方法.该法的线性范围0~40 μg/L As(Ⅲ),检测限为2.1×10-6g/L,用于环境水样中砷(Ⅲ)的测定,获得了满意的结果. 相似文献
994.
刘秀铭 《理化检验(化学分册)》2000,36(2):83-83
当钢中含有砷时 ,会干扰用磷铋钼蓝光度法测定磷。近几年来 ,不少资料报道了采用硫代硫酸钠掩蔽砷能排除此干扰 ,并进一步用此进行磷、砷的连续测定 ,这种方法确实有简单易行操作方便等优点 ,但对于能否掩蔽彻底尚存争议。因此 ,在参考有关文献的基础上 ,采用如下方式进行钢中磷、砷连续测定。本法仍基于磷 (砷 )铋钼蓝光度法连续测定磷和砷含量。试样用稀硝酸溶解 ,高氯酸氧化 ,氢溴酸 -盐酸混合液挥砷 ,蒸发至盐状 ,再用硫硝混合酸溶解盐类并显色测磷。同时 ,另称一份试样 ,在相同的条件下操作 ,但不作挥砷处理 ,比较两次所测的吸光度 ,用… 相似文献
995.
996.
InGaAs(P)/InP量子阱混合处理对其光电特性的影响 总被引:1,自引:0,他引:1
用离子注入诱导无序(IICD)和无杂质空位扩散诱导无序(IFVD)方法研究了InGaAs(P)/InP量子阱结构的混合造成材料光电特性变化,带隙蓝移的规律。研究结果发现,IICD造成的带隙蓝移与离子注入的种类、剂量、注入后退火温度,时间有关,也和样品存在的应力有关。具有压应力的样品产生的蓝移量比具有应力的大。IFVD方法造成的带隙蓝移量与介质膜的种类,后继退火温度,退火时间有关。同时还发现,蓝移量与半导体盖层成分和介质层成分的组合有关,InGaAs与SiO2组合产生的蓝移比InP与SiO2组合的大。介质层的掺杂也影响蓝移量,掺P的SiOxPyNx可以产生高达224meV的蓝移,目前尚未见其他报道,二次离子质谱(SIMS)研究说明,量子阱层元素的互扩散可能是造成带隙蓝移的主要原因。 相似文献
997.
998.
研究了应用废料生产“钡餐”,即胃肠道X光透视用造影剂——药用硫酸钡的新工艺。该法将工业氯化钡及氢氧化钡的下脚料用盐酸浸溶后,调整pH值以除砷、硫等杂质,控制反应温度、酸度等条件,最终获得合格产品。 相似文献
999.
石墨炉原子吸收光谱法测定食品添加剂中微量As,Cd,Cu和Pb 总被引:6,自引:0,他引:6
用于灰化法处理,石墨炉原子吸收光谱法测定食品添加剂复合粉中微量As、Cd、Cu、Pb。结果满意,相对标准偏差为5.2%;回收率为90~102%。方法灵敏、准确、快速。 相似文献
1000.
用50-200mm的同步辐射对AsH3超声束进行了光电离研究。通过测量AsH3光电离及解离电 生的各种离子的光电离效率曲线,获得了AsH^+3的绝热电离势和AsH^+2,AsH^+的出现势,并由此估算出体系中有关离子的标准生成焓,自由基的质子亲合势和分子或自由基及其离子的键能。 相似文献