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101.
双包层椭圆光波导解析解   总被引:3,自引:0,他引:3  
董建峰  聂秋华 《光学学报》1997,17(1):06-111
解析求解了双包层椭圆光纤中的波动方程,得到了模式精确解有模式特征方程。对基模的特征方程进行了数值计算,给出了不同椭圆比下的归一化双折射和模间色散随归一化频率的变化关系曲线,并与高斯近似解的结果进行了比较。  相似文献   
102.
地下含水层热储井位置选择和布置   总被引:2,自引:0,他引:2  
地下含水层热储开发技术面临一系列问题,寻找适合热储用的含水层和合理布置热储井是解决问题的第一步.综合考虑含水层的地质结构特征,适合热储的含水层应该是承压含水层,热储应该采用同层方式.单个热储井的影响半径可以通过热平衡和热扩散原理求得.合理布置热储井间的相对位置,可以有效抵消原有地下水的流动以及渗流系数不一致的影响.利用井之间的渗流耦合作用,在热储井之间布置调节井,主动控制热储水的波及范围,可以实现热储井布置的相对"紧凑".  相似文献   
103.
朱玮 《甘肃科技纵横》2005,34(6):11-11,64
叙述了电力电缆护层厚度详细的计算方法,以及在计算过程中注意的问题、解决的方法.  相似文献   
104.
根据电解剥离原理,采用Cygnal F020单片机为智能部件,研制出的镀铜板镀铜量检测分析仪.本仪器采用微分电位法,使各层界面自动分层难题得到了解决,同时对双电层电容充电电流所引起的测量误差作了修正.该仪器通过USB接口与上位机配合使用,具有小型轻便、操作界面友好和检测数据精确等特点,并具有本机显示和打印测量结果的功能.  相似文献   
105.
ZrC/ZrB2 multilayered coatings with bilayer periods of 3.5-40nm are synthesized by rf magnetron sputtering. Analyses of x-ray diffraction, scanning electron microscopy and nanoindentation indicate that multilayered coatings possess much higher hardness and greater fracture resistance than monolithic ZrC and ZrB2 coatings. A maximum hardness (41.TCPa) and a critical fracture load (73.7mN) are observed in the multilayer with A = 32 nm deposited at the substrate bias -40 V. Higher residual stress built in the ZrC layer can be released by periodic insertion of ZrB2 into the ZrC layer. A clear multilayered structure with mixed ZrB2(001), ZrB2 (002) and ZrC (111) orientations should be responsible for the enhanced mechanical properties.  相似文献   
106.
黄伟旗 《科技资讯》2005,(23):44-45
钢筋混凝土结构是由钢筋和混凝土两种性质截然不同的材料组成的,因其具有诸多的优点而广泛应用于土木工程中。把多层钢筋混凝土框架结构应用于建筑中会遇到的一些具体问题,我们展开了一系列基础性及应用性的理论研究与工程实践。  相似文献   
107.
108.
在《建筑抗震设计规范(GBJ11-89)》中与底层框架砖房有关的条文规定和大量实际工程设计的基础上,对底部2层框架砖房的抗震设计问题进行探讨。  相似文献   
109.
李娟  华玉林  牛霞  王奕  吴晓明 《发光学报》2002,23(2):171-174
对以MEH-PPV为发光层的单层聚合物有机发光二极管(OLED)器件在最佳条件下进行真空热处理,并用金相显微镜观察施加电压后器件的阴极表面形貌。发现处理后的器件阴极表面的气泡及黑斑明显减少。器件的发光性能显著提高。与未经处理的器件相比,最大相对发光强度提高了一个数量级、启亮电压降低了2.0V,半寿命提高了12.7倍。初步分析表明热处理方法提高器件发光性能的主要原因在于有效地减少了器件在工作过程中由于焦耳热产生的某些气体,从而减少阴极表面气泡及黑斑的出现,另一方面,热处理方法也增强了有机发光层与阴极接触界面的结合力,提高电子注入水平。  相似文献   
110.
溅射功率对多层膜质量的影响   总被引:5,自引:1,他引:4  
用磁控溅射技术制备薄膜,用X射线衍射研究在基片和靶间距离固定的情况下不同的溅射功率对薄膜结构的影响。结果表明:过低的溅射功率下淀积的薄膜有畸变的X射线衍射特征峰,特征峰强度小,半峰全宽大。而比较高溅射功率得到的薄膜有比较尖锐的X射线衍射特征峰,强度高和半峰全宽非常窄。研究表明,X射线衍射特征峰强度小和半峰全宽大的薄膜结构疏松,而强度高和半峰全宽非常窄的薄膜结构致密。  相似文献   
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