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裴圣洲 《高等函授学报(自然科学版)》1996,(4):42-44,54
掌握有机化合物性质的一个重要关键,就是必须了解分子中各原子间的相互影响。这种影响归纳起来主要是电子效应和立体效应。电子效应主要包括诱导效应、共轭效应和场效应。前两种效应是讨论分子中原子间通过σ键或π键的传递而产生的影响,后者是讨论非键合原子间通过空间传递所产生的影 相似文献
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采用固相反应合成了四羟基苯基卟啉与与Fe^2+,Co^2+金属离子的配合物,在室温下,将其与分子O2作用,提纯后得到两种固态氧合配合物.通过元素分析、红外光谱(IR)、核磁共振氢谱(^1HNMR)、电导、热分析(TG/DTA)、紫外光谱(UV)等测试手段确定了氧合配合物的组成为[Co·THPP·O2](NO3)2·2H2O、[Fe·THPP·O2]Cl2·2H2O],可知1mol配合物吸收了1molO2,采用失重法测定了氧合配合物中的配位氧,确定1mol金属配合物吸收1molO2形成超氧配合物. 相似文献
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Mach-Zehnder干涉仪适用于研究气体密度迅速变化的状态。由于气体折射率的变化与其密度的变化成正比,而折射率的变化将使通过气体的光线有不同的光程,因此可通过干涉臂变化对干涉条纹图像效果的影响得到气体密度。实测中,采用图像采集卡和CCD来接收Mach-Zehnder干涉仪产生的条纹图像,再通过计算机对条纹图像的条纹间距进行处理,从而得到气体密度的变化状态。从光干涉理论出发,对Mach-Zehnder干涉条纹图像特征进行了分析,建立了Mach-Zehnder干涉条纹的数学模型,并根据此模型设计了处理Mach-Zehnder干涉条纹图像的算法。算法包括图像的预处理(即图像的噪声提取)、图像的二值化及图像的细化。 相似文献
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通过对防水混凝土的配合比设计和原材料的控制、混凝土的搅拌运输过程等方面进行了阐述,并提出了几点提高防水混凝土抗渗性能的方法。 相似文献
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聚二甲基二烯丙基氯化铵的合成,表征及抗菌性能 总被引:2,自引:0,他引:2
65%的二甲基二烯丙基氯化铵(DADMAC)单体水溶液通过自由基聚合得到分子量约为5000的聚二甲基二烯丙基氯化铵(PDADMAC)均聚物。用红外光谱,核磁共振,X射线衍射仪,粘度法和扫描电镜对PDADMAC进行结构分析和表征。合成聚合物的抗霉菌实验表明,PDADMAC对多种霉菌有抑制作用,具有较宽的抑菌谱;抗细菌实验表明,PDADMAC对金黄色葡萄球菌,大肠杆菌,枯草芽孢杆菌具有不同程度的抑制作用。 相似文献
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We report on the spectral properties of Cr,Yb:YAG crystal co-doped with 0.025 at.% Cr and 10 at.% Yb are reported.Using a continuous wave Ti:sapphire laser as a pumping source,we have demonstrated the self-Q-switched Cr,Yb:YAG laser at room temperature.We obtained an average output power as much as 75mW at 1.03μm with a pulse width (FWHM)as short as 0.4μs.The laser experiment demonstrated that the Cr,Yb:YAG crystal exactly combines the Cr^4 saturable absorber and Yb^3 gain medium.The Cr,Yb:YAG crystal can be a most promising self-Q-switched laser crystal for compact and efficient solid-state lasers. 相似文献
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美国QUIN-T公司研制生产的陶瓷质无机合成纤维纸具有优良的耐高温特性、综合物理性能和电气绝缘性能,尤其在导热性、耐潮性、吸漆性和耐高温老化方面性能表现突出,且与同等级耐高温纸相比,其价格低廉。 QUIN-T陶瓷纤维纸主要有CeQUIN和TufQUIN两大系列十多个品种,它可单独或与其它电工材料复合,用作电机电器中的主绝缘材料,在美国本土的市场占有率达到20%以上,获美国安全实验室UL认证。 随着中国电机电器产品安全可靠性等级的提高,该材料在国内的市场前景看好,目前尚处于推广应用阶段,有待广大用户认识采纳。本文着重对… 相似文献
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对经过阴极还原处理后的多孔硅样片进行了光致发光测试和稳定性测试.实验结果表明这种处理能明显改善多孔硅的发光稳定性,使其表面结构更加稳定.利用原子力显微镜对不同还原时间的多孔硅微结构及形貌进行了比较,在一定范围内随着还原时间的增长多孔硅表面粗糙度增大,PL谱增强. 相似文献