化学气相沉积法制备光谱选择性碲膜

用化学气相沉积法制备碲薄膜,其步骤为：通过电化学方法制得碲化氢,碲化氢在室温下分解后在聚乙烯塑料箔上沉积得到碲薄膜.用傅里叶红外光谱仪、紫外/可见/近红外光谱仪、X射线衍射仪及扫描电镜表征碲薄膜的光学性能和结构.结果表明,化学气相沉积法在Mn-O覆盖的聚乙烯塑料箔上沉积得到的碲薄膜在大气窗口（8～13μm）光谱区域具有很高的透过率,同时能阻挡几乎所有的太阳光谱,表明碲薄膜是适用于辐射制冷装置的太阳光辐射屏蔽材料.     

La1-xPrxMnO3(x=0.1,0.2)薄膜庞磁电阻性质的研究

一种新的庞磁电阻氧化物薄膜La1-xPrxMnO3(x=0.1,0.2)薄膜用脉冲激光沉积(PLD)方法生长在(100)SrTiO3单晶基底上.XRD结果显示薄膜具有很好的外延单晶取向.电输运和磁性质的研究表明薄膜具有显著的庞磁电阻效应(CMR)效应,其中磁电阻比率达95%(在5T的磁场下).X射线光电子能谱(XPS)的结果表明薄膜体系中Pr离子的价态为+4价,因此该薄膜很可能是电子掺杂的庞磁电阻体系.     

泥沙冲刷漏斗自由边界问题及其计算

本文分析了水库排沙孔前泥沙冲刷所形成的漏斗状自由边界问题,建立了二维不可压缩理想势流孔口泥沙冲刷漏斗自由边界问题的数学模型,并利用局部试验自由边界的有限元方法与边界元方法对这一问题作了计算,迭代收敛较快。计算结果与实验数据比较吻合,从而也验证了这一数学模型适用于坝前不出现降水曲线的泥沙冲刷问题。     

电化学沉积Cu-In-Se薄膜

采用电化学沉积方法在钼箔上制备Cu-Se、In-Se和Cu-In-Se薄膜,对电沉积的工艺参数进行了测试,发现Cu-In-Se是一种诱导共沉积,虽然沉积膜不具备化学计量比,但具有一定的光电性能.     

论砂金矿物的表面生长结构和砂金矿床成因

经对采自砂金矿床，金矿床氧化带和块金（狗头金）样品的观察研究，特别是采用电子显微镜进行精细矿物学研究后发现，所研究的样品无一例外地均具有代表性，它是表生电流动溶液中生成的表面生长结构图象，证明它们均是在天然水系和开放式物化环境中白含金溶液不断的淀积作用生成的。因而砂金颗粒均属表生条件下形成的溶液沉积矿物，砂金矿床从成因上说应属表生化学沉积矿床。砂金颗粒是在原地生成的。金粒表面生长结构应作为标型特征。     

热丝CVD生长金刚石薄膜喇曼散射研究

本文报道热丝化学气相沉积法（ＨＦＣＶＤ）生长金钢石薄膜的喇曼散射结果。选取多种峰型，对金钢石薄膜喇曼谱（１１０－１８００ｃｍ－１）采用最小二乘法进行非线性拟合，得到最佳拟合模型，其计算得到的拟合曲线怀实验谱图符合得较好。该模型揭示，石墨Ｄ峰（１３５５ｃｍ－１）是金刚石薄膜喇曼谱中不可缺少的一个组份，并且结合石墨Ｄ峰和金刚石喇曼的空间相关线型，可以解释金刚石喇曼区特殊峰形的物理机制，拟合参量的进一步     

福建莆田海岸沙丘岩——Ⅰ.沉积构造与古风

福建莆田后石井海岸沙丘岩由三个沙脊组成。本文记述了这些沙脊的形状与沉积构造,并在讨论其成因的基础上重建了古沙丘类型与古风向。本文认为,它们是中全新世末盛行的东北季风吹扬海滩沉积物再堆积所形成的有植被沙丘与风影沙丘,古今风向未发生明显的变化。     

电沉积富铁Fe-Ni合金箔工艺的研究

对硫酸盐-氯化物电解液中电沉积富铁Fe-Ni合金箔的工艺进行了研究,讨论了电解液组成、电流密度、温度及pH值等因素与合金箔组成之间的相互关系,得到了制备富铁合金箔的最佳镀液组成及工艺条件,并通过实验确定在阴阳极比为1:2时,镍铁联合阳极配比为1.5:1.通过扫描电镜,能谱和X-衍射对富铁Fe-Ni合金箔的形貌及结构进行分析表明合金箔晶粒细致,尺寸均匀,结构紧密,表面光滑平整,无孔洞和裂纹,晶粒结构为(111),(200),(311)及(222)织构,并表现为较强的(111)择优取向.     

硅氧化合物化学蒸气沉积法精细调变沸石分子筛

本文报告了用化学蒸气沉积法精细调变沸石孔径的结果，着重考察了正硅酸乙酯和六甲基硅醚沉积条件的关系。间二甲苯和均三甲苯的吸附动力学实验表明，用Ｓｉ－（ＯＥｔ）４制得的ＳｉＨβ和ＳｉＨＺＳＭ－５上的吸附速率及吸附量明显下降，证实沸石的孔口得到了调变。正己烷的吸附等温线和异丙醇探针反应，沸石孔容和孔道内酸性未受孔口调变的影响。结果还表明Ｓｉ（ＯＥｔ）４未进入沸石孔道，而六甲基硅醚分子则进入Ｈβ沸石孔道，     

电流密度对钙磷沉积层组成和结构的影响(英文)

用X射线衍射、激光拉曼光谱以及等离子体原子发射光谱等技术研究了电化学沉积钙磷陶瓷过程中 ,电流密度对电沉积层组成和结构的影响 .实验表明阴极表面得到的沉积物是几种钙磷盐组成的混合物 ,且其成份随电流密度的改变而发生较大的变化 .在电解液温度为 75℃条件下 ,当控制电流密度较低时 ,沉积层主要由CaHPO4· 2H2 O (DCPD)和Ca8H2 (PO4) 6· 5H2 O (OCP)组成 ;随着电流密度的增加 ,阴极表面逐渐生成Ca3 (PO4) 2 ·nH2 O (TCP)和Ca10 (PO4) 6(OH) 2 (HAP) .当电流密度大于 5mA/cm2 时 ,电沉积层的主要成份为羟基磷灰石 (HAP) .