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41.
从防垢剂对碳酸钙晶形分布影响的角度研究防垢机理 总被引:2,自引:0,他引:2
为研究防垢剂的作用机理, 收集了不同防垢剂加入前后出现的碳酸钙垢. SEM分析表 明, 加入防垢剂前, 碳酸钙垢的SEM表现为方解石的六方柱和菱面体; 加入防垢剂后, 碳酸钙垢的形态发生变化, 且防垢剂的效果越好, 垢的形态改变程度越大. 进一步通过FT-IR, XRD对碳酸钙垢进行了定性、定量分析, 发现加入防垢剂后, 垢中除方解石外, 出现了六方方解石和文石, 且防垢率越大, 垢中六方方解石的含量越高. 上述结果说明, 加入防垢剂后垢形态改变的本质原因是垢中碳酸钙晶型分布发生了变化. 结垢过程主要包括不稳定相的生成和消失、介稳相的生成和消失、稳定相的生长三个阶段. 不出现防垢剂时, 介稳相可以转变为稳定相, 碳酸钙垢的主要成分为方解石; 加入防垢剂后, 防垢剂阻止了介稳相的生成和转化, 导致碳酸钙垢中出现了六方方解石和文石. 防垢率越大, 碳酸钙垢中六方方解石含量越高, 说明防垢剂主要通过将结垢过程控制在第二阶段或第一阶段而起到防垢作用. 相似文献
42.
43.
卡尔曼 波—分光光度法用于复方雷锁辛涂剂中苯酚与间苯二酚的测定 总被引:19,自引:1,他引:19
本文研究了卡尔曼滤波-分光光度法及其在多组分混合物同时光度测定中的应用。测定复方雷琐辛涂剂中苯酚与间苯二酚,平均回收率分别为100.86%与98.76%。 相似文献
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介绍了稳定自由基聚合的反应原理、引发剂设计,以及用稳定自由基聚合制备嵌段共聚物的几种方法:连续加料法、双官能团引发剂法和一步法。对于光引发聚合的原理及硫自由基的稳定性对聚合反应的影响也进行了讨论。 相似文献
48.
六甲氧基甲基三聚氰胺-多元醇-丙烯酸酯混杂聚合体系的研究 总被引:3,自引:0,他引:3
六甲氧基甲基三聚氰胺 (HMMM) 多元醇 丙烯酸酯 酸催化剂混杂聚合体系在高温下同时进行缩聚和自由基聚合并表现出协同效应 .体系中的活泼亚甲基在HMMM的催化下被空气氧化成过氧化氢物 ;过氧化氢物在酸催化下分解成自由基进而引发自由基聚合反应 .研究结果表明 ,体系中存在固化加速的协同效应 ;同时体系中还存在热互补效应 ,丙烯酸酯的自由基聚合反应放出的热可以传递给缩聚反应 ,满足缩聚反应吸热的要求 .混杂聚合得到的高分子合金膜具有优良的机械性能和耐溶剂性能 ,这是由于在混杂聚合过程中形成了互穿聚合物网络 (IPN)结构 .使用潜酸催化剂作为酸的来源 ,可以提高体系的储存稳定性 ;交联 引发剂的使用可以拓宽它的使用范围 ;对超枝化聚合物在混杂体系中的应用也进行了初步研究 相似文献
49.
引入离子基团改善聚苯乙烯和热致液晶聚合物的相容性Ⅰ.热性能和形态 总被引:1,自引:0,他引:1
DSC和SEM研究结果表明聚苯乙烯与一种热致液晶聚合物完全不相容。共混体系具有与组分无关的Tg,并且表现出明显的两相结构。将PS进行化学改性,随中和盐离子的变化有;酸式,Li,Na,Zn和Mn盐五种形式。用DSC和SEM对LCP与SPS共混物的热性能和形态进行了分析和表征。 相似文献
50.
4,4'-偶氮二[4-氰基戊酰(对-二甲氨基)苯胺]作为引发剂的嵌段共聚物合成 总被引:4,自引:0,他引:4
his paper describes a new polyfimctional inihator, 4,4'-azobis[4-cyanopentanoyl (p-dimethylandno)anilide] (ACPDA), for the the radical polymerization. It was obtained by the rcaction of 4,4'-azobis(4-cyanopentanoyl chloride) with p-amino-N, N-dimethylaniline' ACPDA contains two reaction centres with different reactvities that are azo-group and N, N-dimethylaniline-group. By the controlled different conditions this initator can be utilized to make block polymers. 相似文献