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981.
沈耀文  黄美纯 《物理学报》1992,41(9):1523-1530
用线性丸盒轨道原子球近似(LMTO-ASA)超元胞法计算(Ba1-xKx)BiO3立方超导相x=0.25与x=0.5的电子结构,作为对照同时计算立方结构x=0.75的电子结构。计算结果表明,用超元胞法可以得到比“刚带近似”较精确的电子结构参数。给出Fermi面上的能带参数随组分的变化趋势。讨论了不等价的氧原子与周围金属原子价轨道的杂化特征。 关键词:  相似文献   
982.
廖严  何慧娟 《光学学报》1992,12(8):93-696
本文报道板条激光器的热稳运行,在150W至10000W的泵浦功率下输出发散角基本保持不变,最大输出功率大于150W;并绘出了腔内插入柱面镜,以压缩输出激光发散角的初步结果.  相似文献   
983.
张家騄 《应用声学》1992,11(3):11-11
中国科学院声学研究所齐颖勇,在语言声学专业取得硕士学位后,在美国俄亥俄州立大学获得博士,现在亚利桑那大学言语和听觉科学系任助理教授。由于他在言语科学领域中工作成绩突出,于1991年美国声学学会秋季大会上,成为克拉特(Dennis Klatt)纪念奖的第一位得主。 克拉特是国际知名的语言声学家,他在言语合成方面做出了突出的贡献。他研制的文语转换系统DEC-Talk是大家公认的最好的一种。不幸他于1989年逝世。为了纪念他对言语科学的贡献,由美国言语-语言-听觉基金会和美国声学学会联合设立了克拉特纪念基金。首次2000美元奖金授予一位取得博士学  相似文献   
984.
大学物理课程实验是培养学生实验能力、科学研究思维的重要课程.因此研究和分析如何改善我国大学物理实验教学水平,就显得尤为重要了.本文主要从设计性物理实验对于大学生教学的主要意义和必要性入手,阐述了如何运用信息技术手段,不断的开展和完善大学物理设计性实验教学工作,以期为大学物理实验教学提供新的思路.  相似文献   
985.
高功率、长脉冲是高功率微波技术发展的趋势,提高微波器件的功率容量成为一项重要的任务,使用过模器件可以有效提高微波源的功率容量,然而却会带来微波源中同时存在多种模式的问题。为了识别一个X波段长脉冲过模高功率微波源的输出主模TM01模式,设计了一种在线选模定向耦合器,进行了理论分析和模拟优化设计。当频率范围为9.2~9.6 GHz时,模拟结果显示该选模耦合器对TM01模的耦合度为-54 dB,在400 MHz带宽内定向性大于35 dB,对TM02模的抑制度大于15 dB,功率容量可达到3 GW以上。  相似文献   
986.
李强  刘昂  高波  徐凯源  柴立群 《应用光学》2013,34(3):463-468
绝对测量技术去除了干涉仪参考面面形误差,可实现光学材料光学不均匀性的高精度测量。对现有主要光学材料光学不均匀性绝对检测技术进行了总结比较,针对像素错位、干涉图分辨率、干涉仪测量重复性、样品厚度以及折射率测量等因素对光学不均匀性绝对检测的影响进行了实验分析。实验结果表明:干涉仪重复性是光学不均匀性测量的主要误差。样品翻转测量法、样品直接透射测量法、平行平板样品测量法3种测量方法均可实现光学不均匀性(RMS)10-8检测精度。  相似文献   
987.
TDICCD拼接相机的像元响应非均匀性校正方法   总被引:1,自引:0,他引:1  
宁永慧  郭永飞 《中国光学》2013,6(3):386-394
为了解决光学TDICCD成像系统在拼接模式下的像元响应非均匀性问题,研究了TDICCD像元校正的原理和实现方法。提出了视频处理器在不同增益、不同偏置和TDICCD在不同积分时间下进行像元校正的方法,设计了在现场可编程门阵列(FPGA)平台下进行了程序实现和验证的方法。实验数据分析表明:成像系统单片TDICCD的非均匀性由4.72%降低到0.27%,恶劣环境下TDICCD成像系统的图像非均匀性可以降低2.55%。该像元级校正算法简单,可靠性高,能够满足星上成像的要求;在不同的增益、偏置和积分时间下能够很好地解决TDICCD成像系统的像元响应非均匀性问题。  相似文献   
988.
KDP晶体的折射率不均匀性将导致光束的空间分布存在不同程度的相位失配,从而使得三倍频系统的转换效率下降。为了得到KDP晶体折射率非均匀性的高精度检测结果,基于正交偏振干涉法,采用ZYGO MST大口径干涉仪,测量得到了大口径KDP晶体折射率非均匀性分布,其测量精度达到10-7,并通过实验研究了晶体面形对测量结果的影响。对晶体e光折射率非均匀性的高精度检测,为大口径晶体材料生长工艺、加工工艺等改进和提高提供了定量的检测依据。  相似文献   
989.
在大学物理设计实验中对学生进行元认知训练探索表明,元认知训练对培养学生独立完成设计性实验的动手能力以及自主创新意识的形成有着显著的作用。  相似文献   
990.
临界电流密度Jc是评价超导薄膜质量的重要参数之一,采用Jc测量装置可以准确、快速、无损检测Ф2~3英寸双面膜的Jc均匀性。该装置是利用高温超导薄膜的超导转变对线圈内感应电压产生的变化这一原理,测量线圈由初级和次级组成,所用信号频率为20kHz,次级信号在同样频率下由锁相放大器检测,测量过程全部由计算机控制,对于超导微波滤波器应用所要求的高质量Ф2~3英寸双面超导薄膜材料,必须具有高的Jc和低的Rs值,采用该装置测量超导薄膜的Jc均匀性,与Rs对应关系进行分析,将有助于超导薄膜的质量控制。  相似文献   
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