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181.
首先应用Skolem序列及Langford序列等直接构作了图G4=K6\K4的2个无穷类图设计,进而将这2个构作方法推广到更广泛的图类Gm=Km 2\Km上,给出了Gm-GD(2(2m 1)t 1)与Gm-GD(2(2m 1)t)的直接构造.其中m与t为任意正整数(前者中m奇且t≡2,3(mod4)的情形除外)。  相似文献   
182.
温强 《应用科技》2003,30(11):46-49
针对现有井壁取芯器带有机械运动部件或不能进行双向通讯的弊端,研制了一种采用电源自调制数据远动技术进行半双工数字通讯、采用可控硅阵列进行电子选发的全数字井壁取芯控制仪、由于硬件电路和控制软件都采用了多项抗干扰措施,提高了该控制仪的可靠性,目前,该控制仪已在大庆油田完成实验,效果令人满意.  相似文献   
183.
微珠状热敏电阻作为球形热源传热模型的基础上,提出适用于较宽温区生物组织导热系数测量的方法,同时为解决小尺度生物组织的测量提供了有效途径。对标准样品在233—313K温度范围导热系数测量的最大误差为5.1%。在233—293K温度范围内对家兔新鲜离体器官心脏、肝脏、肾脏和颈动脉血管的导热系数进行了实验测定,结果表明生物组织在低温下的导热系数与冰的相差很大。  相似文献   
184.
CMP润滑方程的多重网格法求解   总被引:5,自引:1,他引:5  
化学机械抛光(chemical mechanical polishing,CMP)是用于获取全局和局部高级别平面度的技术,其作用机理包含流体动力作用.求解CMP的润滑方程有助于对其作用机理的了解和认识.文中利用线松弛技术和多重网格技术进行求解,并考察了不同输入参数下的载荷与转矩等的变化情况.  相似文献   
185.
基于多步法绘制原理和Brensenham算法,提出一种新的关于抛物线的线性化裁剪算法。该算法首先线性化计算,由给定抛物线生成绘制时所需的两个数组,然后考虑到各种裁剪情况,利用两数组实现抛物线与窗口裁剪线的求交运算,得到相应的裁剪数据,最后再绘制出所求的裁剪图形。  相似文献   
186.
致癌机理的双区理论发现,绝大多数环境中的致癌剂,均通过引起DNA股间互补碱对的共价交联而启动细胞的癌变.DNA碱稀释过滤法证明:致癌物中的霉菌毒素即黄曲霉素G 1 ,N-亚硝基化合物中的亚硝基二乙胺,二丁胺,吗啉和四氢吡咯、偶氮染料中的4-二甲氨基偶氮苯和含氮杂环化合物中的喹啉,均剂量相关地引起DNA股间交联.而相应类型的非致癌剂黄曲霉素B 2 、亚硝基二苯胺、4'-溴-4-二甲氨基偶氮苯和异喹啉,均不能引起此种交联.用DNA交联24h修复实验,首次提出测定DNA股间交联中、互补碱对交联比率的方法.证明:DNA非互补碱对交联被完全修复,但互补碱对间的交联则难以修复,而互补碱对交联的比率与其致癌强度相关.致突变谱数据证明:突变即点突变和移码变异都是由交联的互补碱对所指导.因此,双区理论是化学、内源物和物理致癌作用的合理机理.  相似文献   
187.
针对已有的基于RoI的图像压缩方法的不足,提出在初步分割出目标后,进一步在目标的语义方面进行改善,不仅保留对视觉有重要作用的边缘信息,而且基于图像的内容以及目标的语义,保留与目标相关的区域信息.并把这部分区域与已分割出的目标构成广义ROI,最后,对广义的ROI和背景分别用不同的压缩方法进行压缩.对广义ROI采用无损压缩以保留区域信息,对其余部分采用有损压缩以保留边缘信息.实验证明本文方法允许目标近无损分割,并能在不降低压缩比的前提下增强对重建目标的理解.  相似文献   
188.
研究了利用背面Ar^ 轰击改善n沟金属-氧化物-半导体场效应晶体管(n-MOSFET)线性区的特性,用低能量(550eV)的Ar^ 轰击n-MOSFET芯片的北面,能有效地改善其线性区的直流特性,如跨导,沟道电导,阈值电压,表面有效迁移率以及低频噪声等,实验结果表明,随着轰击时间的增加,跨导,沟道电导和表面有效迁移率光增大,然后减小,阈值电压先减小,随后变大;而低频噪声在轰击后明显减小,实验证明,上述参数的变化是硅-二氧化硅界面态密度和二氧化硅中固定电荷密度在轰击后变化的结果。  相似文献   
189.
提出了t2阶Kirkman三连系的构造方法,阐明了t2阶Kirkman三连系构造的基本理论,介绍了9×9阶Kirkman三连系构造的过程.  相似文献   
190.
麻雀端脑听区的纤维联系   总被引:1,自引:0,他引:1  
在氨基甲酸乙酯麻醉的麻雀上,用辣根过氧化物酶(HRP)顺、逆行追踪方法研究端脑听区(L)的纤维联系,结果发现:端脑听区(L)的纤维投射到端脑上纹状体腹侧尾核(HVC),并且接受丘脑卵园核(OV)的纤维投射,这就提示:端脑听区(L)除接受听觉的传导路中第四级中继站——丘脑卵园核(OV)的纤维投射外,还发现纤维投射到发声控制的高位中枢——端脑上纹状体腹侧尾核(HVC).也就是说端脑听区(L)既是听觉的高位中枢,也与发声学习关系密切.  相似文献   
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