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21.
实验以CH3CH2OH和H2 为气源,用微波等离子体CVD法沉积金刚石膜,并用金相显微镜(×400)观察其沉积效果,X射线衍射仪表征其成膜质量,最后分析反应气压对金刚石膜的影响. 相似文献
22.
Shen-shui Lü 《高分子科学》2006,(5):441-447
Two kinds of water-soluble metallophthalocyanines, binuclear cobalt phthalocyanine (Co2Pc2) and binuclear ferric phthalocyanine (Fe2Pc2), were synthesized through phenylanhydride-urea route and characterized by elemental analysis and FT-IR spectra. Binuclear metallophthalocyanine derivatives (Mt2Pc2) were immobilized on silk fibers and modified viscose fibers to construct bioactive fibers of mimic enzyme. Mt2Pc2 was used as the active center of bioactive fibers, viscose and silk fibers as the microenvironments. The catalytic oxidation ability of bioactive fibers on the malodors of methanthiol and hydrogen sulfide was investigated at room temperature. The experimental results indicated that the catalytic activity of such bioactive fibers was closely correlative to the types ofbioactive fibers and substrates. 相似文献
23.
能谱法和催化光度法测定无机纤维中铁含量的比较研究 总被引:1,自引:0,他引:1
本文研究了铁(Ⅲ)在酸性介质中催化抗坏血酸(Vc或H2A)还原4-硝基-3’-甲基-氨基偶氮苯的褪色反应,拟定了反应的最佳条件,探讨了反应机理,建立了催化动力学测定痕量铁的新方法,该方法的检出限为2.98×10~(-11)g·mL-1,线性范围为0-200 ng·(25 mL)-1。比较了X射线能量色散谱法和催化光度法在玄武岩纤维样品中铁含量的测定,结果误差为2.89%。 相似文献
25.
陈贵兰 《中国新技术新产品精选》2007,(6):32-35
在世界知名的高等学府清华大学,有着这样一片沃土滋润着理想和希望,孕育着成功和收获——清华创业园,科技型中小企业的孵化基地。创建于1994年的清华科技园发展中心是一个研究开发型园区。为突出和强化其企业孵 相似文献
26.
双金属催化剂是一类重要的多相催化剂。其中d电子在催化活性方面起着重要的作用.本文在Co_3[Fe(CN)_6]_2的工作基础上,进一步研究了该配合物在硅胶、氧化铝、以及氧化镁上的热性质,同时考察了CN~-在Co-Fe体系双端基配位的活化加氢,探讨了载体的影响. 相似文献
27.
以铝酸镧(001)单晶为基片,采用两步法制备Tl2Ba2CaCu2Oy(Tl 2212)高 温超导薄膜.首先,利用脉冲激光沉积(PLD)工艺沉积Ba2CaCu2Ox非晶前驱体薄膜;然后,前驱体薄膜在高温(720—850℃)下密封钢容器里铊化结晶形成Tl 2212薄膜.XRD结果表明Tl2212 薄膜是沿c轴方向生长的,其相组成为Tl 2212,摇摆曲线(0012)的半高宽为0.72° ,SEM图像显示其表面光滑平整,其零电阻温度为106.2K.
关键词:
Tl 2212超导薄膜
脉冲激光沉积 相似文献
28.
用改进的离子束增强沉积方法和恰当的退火从V2O5粉末直接制备了VO2多晶薄膜.实验测试表明,薄膜的取向单一、相变特性显著、结构致密、界面结合牢固、工艺性能良好,薄膜的电阻温度系数(TCR)最高可达4.23%/K.从成膜机理出发,较详细地讨论了离子束增强沉积 VO2多晶薄膜的TCR高于VOx薄膜的TCR的原因.分析认为,单一取向的VO2结构使薄膜晶粒具有较高的电导激活能,致密的薄膜结构减少了氧空位和晶界宽度,使离子束增强沉积 VO2多晶薄膜结构比其他方法制备的VOx薄膜更接近于单晶VO2是其具有高TCR的原
关键词:
VO2多晶薄膜
离子束增强沉积
热电阻温度系数 相似文献
29.
研究了不同衬底-阴极距离、直流电压和H2流量对a-CH薄膜沉积速率的影响。结果表明:衬底-阴极距离必须大于0.5cm,随着该距离的增加,薄膜的沉积速率减少;直流电压达550V时沉积速率最大;随着H2含量的增加,CH4含量相对减少,沉积速率随之降低。用AFM观察了以该方法制得的448.4nm CH薄膜的表面形貌,表面粗糙度约为10nm。最后测出了不同条件下CH薄膜的UV-VIS谱,由此可以计算得到薄膜的禁带宽度及折射率。 相似文献
30.