首页 | 本学科首页   官方微博 | 高级检索  
文章检索
  按 检索   检索词:      
出版年份:   被引次数:   他引次数: 提示:输入*表示无穷大
  收费全文   38184篇
  免费   3098篇
  国内免费   8879篇
化学   14122篇
晶体学   182篇
力学   1009篇
综合类   530篇
数学   4458篇
物理学   6669篇
综合类   23191篇
  2024年   223篇
  2023年   757篇
  2022年   899篇
  2021年   1147篇
  2020年   811篇
  2019年   859篇
  2018年   540篇
  2017年   874篇
  2016年   924篇
  2015年   1170篇
  2014年   2161篇
  2013年   1959篇
  2012年   2073篇
  2011年   2315篇
  2010年   2331篇
  2009年   2494篇
  2008年   2597篇
  2007年   2441篇
  2006年   2259篇
  2005年   2098篇
  2004年   2170篇
  2003年   2033篇
  2002年   1816篇
  2001年   1736篇
  2000年   1377篇
  1999年   1320篇
  1998年   1131篇
  1997年   1088篇
  1996年   996篇
  1995年   973篇
  1994年   833篇
  1993年   669篇
  1992年   711篇
  1991年   606篇
  1990年   545篇
  1989年   524篇
  1988年   277篇
  1987年   169篇
  1986年   105篇
  1985年   56篇
  1984年   32篇
  1983年   30篇
  1982年   14篇
  1981年   2篇
  1978年   3篇
  1963年   1篇
  1962年   2篇
  1959年   2篇
  1957年   4篇
  1936年   1篇
排序方式: 共有10000条查询结果,搜索用时 15 毫秒
951.
郭海君  段宝兴  袁嵩  谢慎隆  杨银堂 《物理学报》2017,66(16):167301-167301
为了优化传统Al GaN/GaN高电子迁移率晶体管(high electron mobility transistors,HEMTs)器件的表面电场,提高击穿电压,本文提出了一种具有部分本征GaN帽层的新型Al GaN/GaN HEMTs器件结构.新型结构通过在Al GaN势垒层顶部、栅电极到漏电极的漂移区之间引入部分本征GaN帽层,由于本征GaN帽层和Al GaN势垒层界面处的极化效应,降低了沟道二维电子气(two dimensional electron gas,2DEG)的浓度,形成了栅边缘低浓度2DEG区域,使得沟道2DEG浓度分区,由均匀分布变为阶梯分布.通过调制沟道2DEG的浓度分布,从而调制了Al GaN/GaN HEMTs器件的表面电场.利用电场调制效应,产生了新的电场峰,且有效降低了栅边缘的高峰电场,Al GaN/GaN HEMTs器件的表面电场分布更加均匀.利用ISE-TCAD软件仿真分析得出:通过设计一定厚度和长度的本征GaN帽层,Al GaN/GaN HEMTs器件的击穿电压从传统结构的427 V提高到新型结构的960 V.由于沟道2DEG浓度减小,沟道电阻增加,使得新型Al GaN/GaN HEMTs器件的最大输出电流减小了9.2%,截止频率几乎保持不变,而最大振荡频率提高了12%.  相似文献   
952.
黎栋栋  周武 《物理学报》2017,66(21):217303-217303
二维原子晶体材料,如石墨烯和过渡金属硫族化合物等,具有不同于其块体的独特性能,有望在二维半导体器件中得到广泛应用.晶体中的结构缺陷对材料的物理化学性能有直接的影响,因此研究结构缺陷和局域物性之间的关联是当前二维原子晶体研究中的重要内容,需要高空间分辨率的结构研究手段.由于绝大部分二维原子晶体在高能量高剂量的电子束辐照下容易发生结构损伤,利用电子显微方法对二维原子晶体缺陷的研究面临诸多挑战.低电压球差校正扫描透射电子显微(STEM)技术的发展,一个主要目标就是希望在不损伤结构的前提下对二维原子晶体的本征结构缺陷进行研究.在STEM下,多种不同的信号能够被同步采集,包括原子序数衬度高分辨像和电子能量损失谱等,是表征二维原子晶体缺陷的有力工具,不但能对材料的本征结构进行单原子尺度的成像和能谱分析,还能记录材料结构的动态变化.通过调节电子束加速电压和电子辐照剂量,扫描透射电子显微镜也可以作为电子刻蚀二维原子晶体材料的平台,用于加工新型纳米结构以及探索新型二维原子晶体的原位制备.本综述主要以本课题组在石墨烯和二维过渡金属硫族化合物体系的研究为例,介绍低电压扫描透射电子显微学在二维原子晶体材料研究中的实际应用.  相似文献   
953.
郭泽堃  田颜  甘海波  黎子娟  张彤  许宁生  陈军  陈焕君  邓少芝  刘飞 《物理学报》2017,66(21):217702-217702
随着石墨烯研究的兴起,二维纳米材料得以迅速发展.在众多的二维纳米材料中,硼烯和碱土金属硼化物二维材料由于具有高费米速度、高杨氏模量、高透光性、高延展性、高度的各向异性、大的泊松比和高的化学稳定性等独特的性质,成为研究人员关注的焦点.本文侧重介绍目前硼烯和碱土金属硼化物二维纳米材料的制备工艺、结构、物性和应用情况.首先总结了目前硼烯的主要结构构型和制备及掺杂工艺;其次介绍了碱土金属硼化物二维纳米材料的理论结构构型和可能的制备路线;最后对硼烯和二维碱土金属硼化物纳米材料的物理特性进行归纳总结,同时预测它们未来最可能实现应用的领域.  相似文献   
954.
设计了一种基于场效应晶体管的量子点场效应单光子探测器(quantum dot field effect transistor,QDFET),建立了二维电子气(two-dimensional electron gas,2DEG)的薛定谔方程和泊松方程,通过对薛定谔方程和泊松方程的自洽求解,对2DEG的载流子浓度进行了模拟。模拟结果显示,AlGaAs的Al组分、δ掺杂层的掺杂浓度以及隔离层的厚度对于2DEG的载流子浓度均有影响。为了使2DEG具有较高的载流子浓度,AlGaAs的Al组分应为0.2~0.4,δ掺杂浓度应为6~8×10~(13)/cm~2,隔离层厚度应在50nm以下。通过对2DEG的载流子浓度进行研究,可以掌握2DEG载流子浓度的影响因素,从而通过优化QDFET结构,可提高2DEG的载流子浓度。这对于高灵敏度QDFET的制备具有重要的意义和应用价值。  相似文献   
955.
通过自制的烟雾腔系统研究羟基启动的异戊二烯光解形成二次有机气溶胶(SOA)过程中环境因素的影响.使用气溶胶粒径光谱仪测量了SOA的粒径分布,通过光解实验研究了光照时间、反应物浓度以及CH3ONO浓度对异戊二烯光解形成SOA的影响.结果表明,异戊二烯光解形成的SOA空气动力学直径在0.4 mm~1.4 mm之间,这些粒子的直径小于2.5μm的微细粒子很容易沉积在人体肺泡内,对人体健康产生很大危害;不管是SOA粒子的粒子数浓度还是质量数浓度都随着反应时间的增长、光照强度的增强和反应物浓度的增加而增加.该研究为大气颗粒物排放源的外场测量提供了非常有用的信息.  相似文献   
956.
罗习刚  吴涛  陈仙辉 《物理》2017,46(8):499-513
1986年高温铜氧化合物超导体的发现开辟了超导研究的新纪元,人们开始大量探索具有非常规超导机制的新型超导材料,以期发现具有更高超导转变温度的超导体。文章将结合作者多年来的研究,简要介绍具有代表性的非常规超导体材料家族及其物性,以及对非常规超导体材料研究的未来展望。  相似文献   
957.
为了满足闪光二号加速器材料热力学效应研究的新需求,设计了一套电容器储能型脉冲强磁场装置。装置主要由储能电容器、半导体放电开关、磁场线圈及高压恒流充电源组成。磁场线圈中心处最大磁感应强度可达5 T,并且可以通过调整磁场线圈与二极管的相对位置实现磁透镜比的调节。通过理论计算和数值模拟相结合的方法对脉冲强磁场的关键参数进行了分析,然后进行了脉冲强磁场的工程设计,最后使用该强磁场装置进行了实验研究。强磁场实验中,当储能电容器充电21 kV时,在磁场线圈中心处获得了5.3 T脉冲强磁场。  相似文献   
958.
该文用NMR方法研究暗霉素T的化学结构.从1D谱和几种2D技术确认了暗霉素T是氨基糖苷类化合物.讨论了化合物的构型,并通过改变溶剂推断了氨基的连接位置.  相似文献   
959.
南蛇藤中倍半萜生物碱的二维NMR研究   总被引:1,自引:0,他引:1  
用DEPT和二维NMR技术包括:1H-1H COSY,1H-13C COSY,NOESY,特别是1H-13C COLOC对两个多酯基取代的倍半萜生物碱的化学及立体结构进行了研究,并对其1H和13C NMR谱峰进行了归属。  相似文献   
960.
崖椒根中两个新化合物的NMR研究   总被引:1,自引:0,他引:1  
江忝  洪美芳 《波谱学杂志》1992,9(4):413-417
从崖椒根有活性的乙醚提取物中分离得到两个新化合物.运用1H、13C NMR谱、APT谱及各种二维NMR谱,结合其它理化数据,首次确定了它们的化学结构,分别命名为崖椒内醐和乙酯氧崖椒内酯。  相似文献   
设为首页 | 免责声明 | 关于勤云 | 加入收藏

Copyright©北京勤云科技发展有限公司  京ICP备09084417号