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571.
572.
利用SPRITE探测器的截止波长研究了布里奇曼、Te溶剂和固态再结晶3种方法制备的HgCdTe体晶组份的均匀性。实验结果表明:3种方法生长的HgCdTe晶片的组份均匀性大致相当。用任意一种材料研制的一个8条SPRITE探测器,其任意2条的截止波长差不大于0.8μm的概率大于98%。 相似文献
573.
574.
研究了能量在100到300 keV区间的低能宽幅电子束从真空引出到空气中的特性。利用EGS5程序模拟了电子束穿过不同厚度钛箔后,在空气中距离钛箔5~10 cm距离处的能量损失、束流损失和束流分布均匀性等。模拟结果显示,对于低能电子,钛箔厚度应该在10 μm左右为宜,其透射率与能量直接相关,在距离钛箔5 cm的位置,电子束的分布不均匀度低于±2%,优于工业应用±10%的标准(特殊情况下要求为5%),完全满足工业辐照要求。In order to investigate the characteristics of extracting low-energy electron beam from vacuum into air, EGS5 is used to simulate the energy loss, beam loss and spatial distribution uniformity at the irradiation position, which is 5~10 cm to titanium foil with different thickness. The simulation results show that the transmittance is directly related to the incent energy of low-energy electron. When the titanium foil thickness is 10 μm, the inhomogeneity about the energy beam spatial distribution is below 5% on the treatment plane 5 cm away from the titanium foil. And totally meet the industrial needs. 相似文献
575.
采用低压化学气相沉积(LPCVD)技术在大面积的玻璃衬底上制备了B掺杂ZnO(BZO)透明导电薄膜,研究了不同B2H6掺杂量对BZO薄膜微观形貌、导电能力及其均匀性、透光率等性能的影响.结果表明,所制备的BZO薄膜表面具有自生长的绒面结构;B2H6掺杂量由30 sccm增加到60 sccm,BZO薄膜的方阻由28.6Ω/□减小到14.1 Ω/□,导电能力显著增强,同时方阻均匀性也明显提升;BZO薄膜在长波区的透光率随B2H6掺杂量的增加而明显降低,综合透光率结果,最佳B2H6掺杂量控制在60~ 90 sccm之间. 相似文献
576.
均匀颜色空间在跨媒体颜色管理中起着重要的作用。本文以D65光源下的孟塞尔系统、Ebner和Fairchild恒常色相数据的CIEXYZ三刺激值作为输入值,利用三个模型预测相应的明度、彩度、色相的值,并根据预测值评价了常用色貌空间CIELab、CIECAM02-Jab、IPT的均匀性。实验结果表明,在明度均匀性方面,CIELab和IPT的明度均匀性较好,预测明度与孟塞尔明度V基本成线性关系,CIECAM02-Jab的均匀性稍差,预测相同孟塞尔明度的颜色得到的明度值并不完全相同;在彩度均匀性方面,CIELAB的均匀性最好,IPT均匀性最差;在色相均匀性方面,IPT的均匀性要优于CIECAM02-Jab和CIELab的均匀性,而CIELab的色相均匀性较差。 相似文献
577.
片状纳米氧化锌单晶的制备和表征 总被引:6,自引:0,他引:6
本文提供了一种应用二步法制备片状纳米氧化锌单晶的实验方法--首先,以尿素为沉淀剂宿主,以氯化锌、碱式碳酸锌为原料,应用均匀沉淀法获得纳米氧化锌的片状纳米级前驱物;然后通过控温热分解前驱物制备出片状纳米氧化锌单晶.用扫描电镜观测了制备的ZnO单晶的形貌,并通过红外光谱对其进行了表征;讨论了溶液中生成纳米氧化锌的前驱物的热力学趋势,并对氧化锌制备过程进行了结晶动力学分析.结果表明:实验制备的氧化锌均为无色透明的片状单晶,结晶形貌为正六边形、五边形、矩形以及其它不规则形状,单晶直径在3~30μm之间,厚30~60nm;影响纳米氧化锌单晶制备的主要因素是反应物料配比、沉淀剂宿主尿素的浓度(1∶6)以及反应温度(70~85℃).此外,乙醇的含量对片状纳米ZnO前驱物的形貌影响很大,过高(>40;)或过低(<10;)的乙醇含量都不利于形成片状纳米氧化锌单晶的前驱物. 相似文献
578.
备受关注的LED显示新技术 总被引:1,自引:0,他引:1
LED显示屏和LED灯饰的应用越来越广泛,显示技术也不断提高,总的目标是进一步提高显示图像的质量,降低成本和开辟新的应用领域。文章讨论了近期LED显示业界关注的新技术。 相似文献
579.
以GH4169高温合金为材料, 在Deform-3D软件中建立了壁厚渐变锥形回转件热强力旋压有限元模型. 通过正交试验法, 研究分析各工艺参数对工件整体壁厚偏差影响程度的先后次序, 并得到最优工艺参数组合. 结果表明, 各工艺参数对工件整体的壁厚偏差影响的主次关系依次为: 旋轮圆角半径、旋压温度、旋轮进给比、芯模转速; 最优工艺参数组合为: 旋压温度1000℃, 旋轮圆角半径4mm, 芯模转速240r?min-1, 旋轮进给比0.3mm?r-1. 通过热强力旋压实验, 对比分析实验结果和仿真结果发现, 两者趋势相同, 整体壁厚偏差平均值误差为14%, 表明仿真模拟可靠, 可为壁厚渐变锥形回转件精确成形提供参考. 相似文献
580.
为了对TFT((Thin Film Transistor)光刻DICD(Develop Inspection Critical Dimension)均一性进行改善,分析了光刻DICD存在差异性的原因,并建立了改善循环流程。对循环流程改善原理及方法进行说明。首先,根据处于光刻系统最佳焦平面位置光刻胶吸收光强最大,DICD最小(DICD_(min))原则,提出了调整光刻平面,使其与系统最佳焦平面趋势一致,可减小DICD差异性。接着,计算出各光刻区域与最佳焦平面位置处的DICD差值(DICD-DICD_(min)),并通过结合光刻区域台板平坦度,判断DICD-DICD_(min)各差值的正负性。然后,采用最小二乘法对光刻区域DICD-DICD_(min)进行平面方程拟合,该平面即为光刻趋势平面,并反映了光刻平面与光刻系统最佳焦平面的差异。最后,以此平面方程作为光刻机台板高度调整平面方程,并对光刻区域台板高度进行调整,从而使得实际光刻平面趋于系统最佳焦平面。结果表明:该方法连续实验3次,DICD均一性可改善30%以上。 相似文献