有线数字电视推播业务系统的设计和实现

提出了以数据轮播为技术框架的新型数字增值业务--推播业务,采用以独立频点支持推播业务的实施方案,完成了推播业务的整体系统设计、工作流程设计.最后,在Broadcom97111平台上完成了系统实现.     

用于数字电视的盲均衡技术研究

对目前在接收端采用均衡技术时常用的CMA算法和子空间算法的原理和性能进行了详细的讨论和说明,并给出各自的适用场合.     

OFDM-CDM系统的分析及研究

主要介绍了OFDM-CDM系统以及它在高速传输下与通常的OFDM系统的比较.OFDM-CDM系统将信号扩展到不同的子载波上,可以达到很好的频率分集的效果.该文详细介绍了OFDM-CDM系统以及对其有效的检测技术,并进行仿真.通过性能的对比,可以看出OFDM-CDM系统比一般的OFDM系统有很大的优势.     

网络信息安全模拟仿真评估方案研究

首先针对我国国防科技工业网络环境的实际情况和安全保密的需求阐述了网络信息安全模拟仿真评估技术研究的目的和意义,提出了技术应用目标;然后论述了主要研究内容及具体实现的技术方案;最后详细介绍了需要实现的关键技术及解决途径。     

脉冲激光沉积法制备ZnO薄膜的研究进展

基于氧化锌薄膜紫外光发光的实现,ZnO薄膜成为新的研究热点。综述了各种沉积条件对脉冲激光沉积(PLD)技术生长的氧化锌薄膜的微结构、光学和电学性质的影响,ZnO薄膜的厚度在超过400 nm时,呈现出了近似块状的性质。采用PLD技术,可以在适当的条件下制备具有特定功能的氧化锌薄膜。     

同质缓冲层对ZnO薄膜光学性质的影响

利用射频磁控溅射技术,在单晶硅衬底上生长出高质量(0002)晶面取向的ZnO外延薄膜。通过XRD、AFM、吸收光谱、光致荧光发光谱的实验研究,发现加入适当厚度的、低温生长的ZnO同质缓冲层,可有效降低晶格失配和因热膨胀系数不同引起的晶格畸变。在衬底温度200℃、沉积时间5min的ZnO缓冲层上,以450℃衬底温度溅射ZnO薄膜主层,得到的ZnO样品的晶体结构、表面形貌和光学性质均有较明显的改善。     

生产工艺对NTC热敏电阻粉料可重复性的影响

NTC粉料的可重复性,取决于粉料加工结果的可重现性和稳定性。故从控制粉料球磨粒度和球磨均匀性的角度,对粉料加工过程中的关键工序进行改良和精确控制,实施主料–掺杂–主料的配料次序,采用圆球状锆质磨介,并根据材料体系区分不同的预烧温度,采用(或者接近)临界球磨速度磨料等一系列改良措施,从而获得(1.0±0.2)μm的可控粒度范围粉料,达到粉料具有良好可重复性的目的。     

低温共烧陶瓷用硼硅酸盐玻璃的研究进展

概述了低温共烧玻璃陶瓷复合材料体系中所采用的硼硅酸盐玻璃的组成、工艺、应用技术参数。比较了锌、铅、钡硼硅酸盐玻璃组成、掺杂量对玻璃陶瓷的烧结特性的影响。指出了不同硼硅酸盐玻璃材料的优缺点和在低温共烧陶瓷技术中的适用范围。     

基于THz-TDR的芯片金属微带线缺陷检测

针对体积小、走线密集、集成度高的封装芯片缺陷检测,目前的主要检测手段存在精度低、周期长等缺点。为弥补传统检测方法的不足,作者结合太赫兹技术与时域反射技术,探究对芯片上金属导线缺陷检测的可行性。首先在不同宽度的金属微带线上加工了不同比例的凸起、凹槽缺陷,模拟集成芯片中金属导线的不完全开/短路等阻抗不匹配情况,利用太赫兹时域反射计采集其时域反射信号。然后根据时域反射脉冲对应的时间分别对不同缺陷程度、不同缺陷类型进行定性分析,并精确计算出了芯片上金属微带线的缺陷位置。最后利用有限元分析法对硅基底上存在缺陷的金属微带线进行仿真分析,与实验结果具有良好的一致性。该研究表明,太赫兹技术与时域反射技术结合能够实现对芯片上金属导线缺陷的诊断检测,为集成芯片的缺陷检测提供了经验参考。     

面向IP和OTN协同的SDN管控技术

针对近些年网络新业务和新技术应用不断增长的趋势,介绍了光网领域应用软件定义网络(SDN)技术的重要性.重点研究分析了2种面向IP和光传送网(0TN)协同的SDN技术——0NF Transport API(TAPI)和0penDayLight Transport PCE(TPCE),包括它们具体的技术细节以及如何实现跨域...