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11.
12.
13.
14.
取样光栅周期中等效啁啾的实验研究 总被引:2,自引:0,他引:2
在Moire取样Bragg光纤光栅(SBG)的理论基础上,首次通过用相位模板旋转和2次曝光的方法,得出了带有取样啁啾的SBG的各个Fourier级数的等效啁啾率。实验数据和理论值的误差小于9%。 相似文献
15.
小孔矩形腔体屏蔽特性的研究 总被引:3,自引:0,他引:3
本文提出了有孔腔体远、近场电磁屏蔽效能的计算方法,体研究了矩形腔体的屏蔽特性,讨论了各类孔对屏蔽能的影响程度。数值结果表明,理论计算与实验数据吻合较好。 相似文献
16.
Theoretical concerns about the use of cemented and press-fit stems in revision total knee arthroplasty (TKA) include stress
shielding with adverse effects on prosthesis fixation. Radiological studies have showed distal femoral bone resorption after
revision TKA. The revision with use of stems can place abnormal stresses. These stresses can promote the effect of bone stress
shielding and may contribute to bone loss. Experimental quantification of strain shielding in the distal synthetic femur following
TKA is the main purpose of the present study. Three different constructs of TKA were assessed. The first construct included
a stemless femoral component. The other two included a press-fit and a cemented femoral stem. Cortical bone strains were measured
experimentally with tri-axial strain gauges in synthetic femurs before and after in-vitro knee surgery. The difference between
principal strains of implanted and intact femur was calculated for each strain gauge position. This study indicates that the
use of stems in distal femur changes the distribution and magnitude of bone strains. The press-fit stem provoked relevant
bone area (stem length) subjected to strain shielding and also originated the highest reduction of strains in the distal region,
which can potentially induce bone resorption. The stemless implanted femur produced minor bone strain changes relatively to
the intact femur. The use of distal femur stems increases initial stability in the bone, but the observed reduction of strains
in this region, relative to the intact femur, provokes strain shielding that can induce bone resorption and may compromise
the long term implant stability. 相似文献
17.
本文结合我厂μPC三片机的设计布局,探讨黑白电视机电路的电磁兼容设计。通过理论计算,提出中放屏蔽材料选择的理论依据。 相似文献
18.
采用自行研制的LB自动提膜装置,制备出大面积(10×8cm2)、高质量的PMMA超薄抗蚀剂膜,并将其用于高分辨率铬掩模版的研制。通过电子束曝光,湿法蚀刻,制作了分辨率优于0.5μm,特征线宽0.38μm的4(100mm)铬掩模版。 相似文献
19.
20.
本文讨论了非硅微机械工艺和微绞链的研制工艺。我们研制的非硅表面微机械工艺采用两次或三次掩模电镀层,聚酰亚胺和光刻胶分别作为底层和第二、第三层的牺牲层。用这套工艺,研制成功了三种不同种类的微绞链。微绞链能在基片表面作0—180度自由转动。 相似文献