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171.
混沌系统延迟反馈控制的理论与实验研究   总被引:19,自引:0,他引:19  
综述了近年来控制混沌的延迟反馈控制技术------DFC控制的相关进展,总结了延迟反馈控制在不动点和不稳定周期轨道镇定方面的局限性和可控性研究的理论成果,介绍了延迟反馈控制在电子线路和磁弹性梁混沌控制方面的实验,并对延迟反馈控制技术未来的研究方向和发展前景进行了预测和展望。   相似文献   
172.
随着光电跟踪设备的大型化,在系统的惯量增大的同时,机械谐振频率一般会降低,此时控制系统的带宽设计将受到限制,而且大型的光电设备更容易受到风阻、地基振动等各种干扰的影响,从而降低系统的控制精度。由于惯性测量元件——加速度计直接感受被测对象的受力情况,通过引入加速度反馈控制回路,在不增大系统带宽的前提下,中低频段的扰动抑制传递函数幅值下降约25 dB。理论、仿真和实验三方面均验证了该控制方式的有效性。  相似文献   
173.
关于系统的状态反馈稳定性问题的研究一直是现代控制理论研究的重要问题之一.广义分布参数系统是比分布参数系统更广的一类系统,在研究复合材料热导体中的温度分布等问题时会出现这样的系统.本文讨论了H ilbert空间中一阶广义分布参数系统的状态反馈稳定性问题.应用泛函分析及线性算子半群理论的方法给出了使闭环广义分布参数系统渐进稳定的充要条件,充分条件及状态反馈的构造性表达式.这对研究广义分布参数系统的状态反馈稳定性问题具有重要的理论价值.  相似文献   
174.
Phenolic compounds from fruits and vegetables have shown antioxidant, anticancer, anti-inflammatory, among other beneficial properties for human health. All these benefits have motivated multiple studies about preserving, extracting, and even increasing the concentration of these compounds in foods. A diverse group of vegetable products treated with High Hydrostatic Pressure (HHP) at different pressure and time have shown higher phenolic content than their untreated counterparts. The increments have been associated with an improvement in their extraction from cellular tissues and even with the activation of the biosynthetic pathway for their production. The application of HHP from 500 to 600 MPa, has been shown to cause cell wall disruption facilitating the release of phenolic compounds from cell compartments. HPP treatments ranging from 15 to 100 MPa during 10–20 min at room temperature have produced changes in phenolic biosynthesis with increments up to 155%. This review analyzes the use of HHP as a method to increase the phenolic content in vegetable systems. Phenolic content changes are associated with either an immediate stress response, with a consequent improvement in their extraction from cellular tissues, or a late stress response that activates the biosynthetic pathways of phenolics in plants.  相似文献   
175.
In this paper, an efficient Cyclic Prefix (CP) reconstruction scheme is proposed for Single-Carrier systems with Frequency-Domain Equalization (SC-FDE) that employ insufficient length of CP at the transmitter. By utilizing a decision feedback filter to cancel the residual InterSymbol Interference (ISI) in the equalized signal, the proposed scheme can effectively lower the low bound of performance for the CP reconstruction schemes and can greatly improve the Bit Error P~te (BER) performance of SC-FDE systems. In addition, the existing methods and the proposed scheme are also optimized. It is shown in the simulation results that, when the Signal-to-Noise Ratio (SNR) exceeds a certain threshold, the proposed scheme can achieve the low bound of performance for the existing methods. Moreover, by increasing the number of iteration or through optimization, the low bound can be outperformed.  相似文献   
176.
一种新型高输出阻抗,高电流匹配精度电流镜的设计   总被引:1,自引:0,他引:1       下载免费PDF全文
曾健平  邹韦华  谢海情  田涛  叶英   《电子器件》2007,30(1):126-128
电流镜是模拟电路设计的基础单元之一,在高性能模拟电路设计中,电流镜的电流匹配精度和输出阻抗是决定电路性能的最重要的参数之一.设计一种新型高输出阻抗、高电流匹配精度电流镜,采用了一种新颖的五级负反馈增益方法来增加电流镜的输出阻抗,同时还通过改进DMCM电路结构提高了电流镜的电流匹配精度,使得设计的电流镜在任何Iin下都保证有较高的电流匹配精度,而且这种新型电流镜也有近似于传统两级共源共栅电流镜的摆幅.采用TSMC 0.18 μm,1.8/3.3CMOS标准工艺,在3.3 V电源下,输出阻抗能达到18 GΩ以上,并且电流匹配精度接近于0.01%,输出电压摆幅为1.28~3.3V  相似文献   
177.
尹莉  恽廷华  唐守龙  吴建辉   《电子器件》2007,30(1):132-135
设计了一种高线性度的宽带CMOS全差分放大器,输入级采用带有电阻共模负反馈的差分电路,输出级则由推挽跨导运算放大器及其反馈环路组成.采用输入级源退化电阻及输出级负反馈技术,使得差分输出峰峰值为1 V时三阶谐波失真达到-60 dB.同时利用反馈环路中反馈电容的欠阻尼滞后补偿作用,使放大器的带宽增大了15%.测试结果表明,在0.25 μmCMOS工艺下,该放大器-3 dB带宽达到150 MHz,噪声系数小于14 dB.  相似文献   
178.
在对几种不同拓扑结构的混合型有源滤波器进行对比分析的基础上,提出了一种改进方案,通过降低有源装置承担的基波电压和减小有源装置输出的基波电流有效降低了有源装置的容量。采用混合型有源滤波器与高通无源滤波器并联运行的方式,克服了原有装置补偿无功不足、有源部分容量大、成本高的缺点。方案运用了谐波分次检测、电容组投切、组合检测方式、谐波电流反馈校正等手段改善系统性能。通过理论分析,论证了该方案的有效性、可行性。  相似文献   
179.
薛娟 《电子质量》2007,(11):9-12
当前的MIMO系统是在假设接收端已知信道信息(CSI)而发射端未知CSI的情况下进行研究的.本文提出的发射天线选择算法是用极小的信息反馈量,即反馈一组最优的发射天线子集,就可使信道容量得到很大的增加,较传统的注水算法而言,反馈量大大减少,而容量只略微减少,从而大大降低了反馈信道的带宽.  相似文献   
180.
首先提出射频反应磁控溅射中薄膜沉积速率同O2流量和溅射功率关系的理论计算模型;其次根据这一理论计算模型,在O2/Ar气氛中,利用射频反应磁控溅射制备氧化铁镍薄膜;最后分别采用台阶仪、X射线衍射(XRD)、X射线光电子能谱(XPS)、电子扫描镜(SEM)和电化学工作站对薄膜进行了表征,并分析了在制备过程中O2含量、工作压强和溅射功率对薄膜的沉积速率、结构、组分和表面形貌的影响.实验验证了所提出的理论计算模型以及Ni3 的存在;得到了膜厚与晶型以及工作压强与形貌的关系;电化学测试结果为:在电流密度为8 mA/cm2时的过电势为284 mV.  相似文献   
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