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A 10-bit 30-MS/s pipelined analog-to-digital converter (ADC) is presented. For the sake of lower power and area, the pipelined stages are scaled in current and area, and op amps are shared between the successive stages. The ADC is realized in the 0.13-μ m 1-poly 8-copper mixed signal CMOS process operating at 1.2-V supply voltage. Design approaches are discussed to overcome the challenges associated with this choice of process and supply voltage, such as limited dynamic range, poor analog characteristic devices, the limited linearity of analog switches and the embedded sub-1-V bandgap voltage reference. Measured results show that the ADC achieves 55.1-dB signal-to-noise and distortion ratio, 67.5-dB spurious free dynamic range and 19.2-mW power under conditions of 30 MSPS and 10.7-MHz input signal. The FoM is 0.33 pJ/step. The peak integral and differential nonlinearities are 1.13 LSB and 0.77 LSB, respectively. The ADC core area is 0.94 mm2. 相似文献
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着重研究了γ辐照后,不同偏置情况下,N—Sub MOS电容的高频C—V曲线随B_2~+注入剂量的变化,并对实验结果进行了分析讨论。 相似文献
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近年来,集成铁电学(integrated ferroelectrics)迅速发展。铁电体是一种特殊的电介质,在不存在外场的情况下,它仍然可以保持一个自发的极化强度。其极化方向在外电场的作用下可以发生反转,表现出特殊的非线性介电行为,即电滞回线。文章讨论了铁电电容模型的SPICE实现。首先介绍电容模型的实现,然后结合2T-2C铁电存储单元的工作原理,验证了该模型。最后,给出了一个完整的32位铁电存储器的电路仿真结果。该结果可以非常容易地推广到更大容量的铁电存储器中。 相似文献
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CaF2 layers have grown by molecular beam epitaxy on bothn-type andp- type Si(111). Capacitance-voltage (C-V) and current-voltage (I-V) measurements have been made on metal-insulator-semiconductor
(MIS) capacitors to characterize these structures. For devices onp-type Si, C-V characteristics show only the insulator value of the capacitance over a wide range of applied voltages, indicating
an accumulated surface. At room temperature, C-V characteristics ofn-type devices show the minimum value of the capacitance (corresponding to inversion) for small voltages, but modulation of
the capacitance at larger voltages. At 200 K, this modulation is no longer present in the C-V curves. I-V curves show a rapid
increase in the leakage current at relatively low fields at room temperature, and this leakage decreases dramatically with
temperature. These results are largely independent of cleaning procedure, growth temperature, and the degree of misalignment
of the substrate. The characteristics are modeled by assuming the Fermi level to be pinned at the valence-band edge, and the
modulation in the C-V characteristics ofn-type samples to be driven by leakage currents.
Work done at GE while a graduate student in the School of Electrical Engineering, Cornell University. Present address: Jet
Propulsion Laboratory, 4800 Oak Grove Dr., Pasadena, CA 91109. 相似文献