电子电路中抗EMI设计

电磁干扰(EMI)可分为传导干扰和辐射干扰,消除干扰的方法可以采用硬件方法和软件方法,硬件方法主要有屏蔽、接地、隔离和滤波等,而软件方法主要是滤波。笔者对各种方法进行总结,并指出各种方法所存在的问题以及适用场合,并对一些常用方法提出改进措施。     

一种软件实现虚拟景深的方法

影视后期制作或图像合成中，动态实时改变显示画面的景深能进一步增强画面的真实感，但由于实时性要求较高，软件实现在处理速度方面容易产生瓶颈。为此，采用预处理的办法，分别对前景和背景进行低通滤波，得到前、背景各自的模拟帧序列，通过调节前景和背景帧序列的位置，模拟确定其各自的变焦程度，然后将前景和背景动态合成具有虚拟景深效果的画面。     

不等波纹函数低通原型的理论及应用

本文提出不等波纹函数低通原型，并对其理论进行初步探讨。切比雪夫函数及最平坦型巴特活兹函数皆为其特例。文中给出不等波纹函数的几个性质，最后给出两个应用实例，消除耦合环自感部分的影响；抑制高次模的微带圆盘腔带通滤波器。     

COMPACT COUPLED LINEAR TAPERED LINE BANDPASS FILTER WITH TWO TRANSMISSION ZEROS

A new compact bandpass filter composed of two coupled linear tapered line resonators (LTLRs) is designed. The two resonators are arranged in different layers. The filter has two transmission zeros on both sides of the passband. It has small size and steep response below its passband. It is also shown that this filter has 0.6 dB low insertion loss at the centre frequency and 10.5% 3dB bandwidth. This work was supported by the Development Foundation of Shanghai Educational Committee (217608) and Shanghai Leading Academic Discipline Project (T0102).     

电子束和接触式曝光机的混合曝光技术

Ⅰ线光致抗蚀剂可以同时实用电子束和光学系统曝光，在50kV加速电压下，其曝光剂量为50-100μC/cm^2，曝光后在0.7%NaOH溶液内显影1分钟。其灵敏度比PMMA快5倍，分辩率为0.5μm。采用两方法制备CaAsPHEMT：一种用Ⅰ线光致抗蚀剂，对源、漏及栅全部都采用电子束曝光，制备了0.5μm栅长的GaAs PHEMT；另一种将源、漏及栅分割成两部分，其中精细部分由电子束曝光，其余部分由光学系统曝光，用这种方法制备了0.25μm栅长的GaAs PHEMT。Ⅰ     

直流稳压电源波形演示器制作说明

直流稳压电源可以将交流电压变换为直流电压,并使之稳定,在我们现实生活中应用很广泛,在实验中我们利用的电学知识,设计制造了一种直流稳压电源。本文简要介绍了这种直流稳压电源波形演示器的设计目的和电路原理,重点阐述了它的制作流程、滤波和稳压原理以及性能测试输出波形。     

全光纤反射式马赫曾德尔干涉型多波长滤波器的研究

对反射式的马赫－曾德尔干涉型多波长滤波器的性能作了较详细的研究，得出了两个耦合器的分光比和两臂的臂长差对其输出谱线的影响，结论对设计制作不同性能指标的该型多波长滤波器具有重要的参考价值。实验上用光纤熔融拉锥法制作了该种器件，实验结果与理论相符合。     

用于千兆以太网基带铜缆接收器均衡的甚高频自适应 连续时间Gm-C 二阶带通滤波器的研究和设计

本文设计了用于千兆以太网基带铜缆接收器均衡的甚高频自适应连续时间Gm-C二阶带通滤波器。基于最陡梯度下降算法，带通滤波器的零点在57－340MHz的频率范围内可以自适应地调节，中心频率为1.278GHz。通过外接电阻伺服环路，滤波器中跨导转换器的跨导值不受工艺偏差和温度变化的影响，采用CSMC－HJ0.6μm CMOS工艺器件模型，用Cadence Spectres仿真器仿真了设计的自适应滤波器电路，仿真结果验证了设计原理和设计的电路。系统的最长学习时间为880个参考时钟周期。     

双折射滤光片的色散特性研究

研究了由理想线偏振片和单轴双折射晶体波片组成的双折射滤光片倾斜放置时的二阶色散和 三阶色散特性，包括波片厚度、光线入射角和光轴旋转角的变化对二阶和三阶色散的影响. 还给出了双折射滤光片的群延迟表达式，并就色散特性与GT干涉仪进行了详细比较. 关键词： 双折射滤光片 群延迟 二阶色散 三阶色散     

Laser-induced damage of Ta2O5/SiO2 narrow-band interference filters under different 1064 nm Nd:YAG laser modes

The laser-induced damage (LID) behavior of narrow-band interference filters was investigated with a Nd:YAG laser at 1064 nm under single-pulse mode and free-running mode. The absorption measurement of such coatings was performed with surface thermal lensing (STL) technique. The damage morphologies under the two different laser modes were also studied in detail. It was found that all the filters exhibited a pass-band-center-dependent absorption and laser-induced damage threshold (LIDT) behavior, but the damage morphologies were diverse. The explanation was given with the analysis of the electric field distribution and the operational behavior of the irradiation laser.