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51.
The effect of the temperature factor, that is, the ratio of the body temperature to the freestream stagnation temperature, on the structure of the separated flow formed in the presence of a concave corner in a supersonic stream is studied. The strong influence of the temperature factor on the separation zone length and the flow-generated aerodynamic characteristics is established. It is shown that for fairly large deflection angles this flow cannot be described by free interaction, or triple deck, theory.  相似文献   
52.
本文采用二维Ffowcs Williams&Hawkings(FW-H)方程对平行剪切层远声场辐射特性进行了研究。近流场时间精确数据通过计算气动声学(Computational Aeroacoustics,CAA)技术数值模拟获得,声远场信息则通过FW-H方程对近流场内的可穿透积分面进行积分获得。该方法首先采用具有解析解的涡/尾缘干涉问题进行了校核,进一步采用CAA/FW-H匹配技术对二维平行剪切层声辐射问题进行了预测,计算结果表明,积分解与计算域内的CAA数值解吻合较好。  相似文献   
53.
在聚酰胶片上以13%SDBS(十二烷基苯磺酸钠)+7%Triton X-100〔聚乙二醇-对-(1.1,3,3-四甲基)丁基苯基醚〕+(2+3)氨水(1+5+1)为展开剂,用胶束薄层色谱法分离和测定了柠檬黄、亮蓝、苋菜红、胭脂红和赤藓红。测定波长分别为440、632、535、525和528 nm,线性范围分别为0.1~2、0.05~1、0.05~1、0.05~1和0.05~1μg/斑点。方法用于测定软饮料糖果及药用胶囊中的合成色素,获得了满意的结果。此外,还对展开剂的最佳组成进行了单纯形法优化。  相似文献   
54.
采用自行研制的LB自动提膜装置,制备出大面积(10×8cm2)、高质量的PMMA超薄抗蚀剂膜,并将其用于高分辨率铬掩模版的研制。通过电子束曝光,湿法蚀刻,制作了分辨率优于0.5μm,特征线宽0.38μm的4(100mm)铬掩模版。  相似文献   
55.
Atomic layer epitaxy or ALE has proven to be useful for the growth of epitaxial layers of high uniformity, good quality, and well-controlled thickness. In this study, we have carried out in-situ monitoring during the atmospheric pressure ALE of CdTe on GaAs (100) substrates using spectroscopic ellipsometry (SE). The susceptor temperature, reactant partial pressures, as well as the flow and flush duration for each precursor are crucial process variables for ALE growth. Growth was carried out for 20–25 cycles under different sets of these process conditions during the experiment and in-situ SE was used to verify the presence of layer-by-layer growth, which enabled the quick determination of the process window. We observed ALE growth of CdTe at 300°C, supporting the explanation that the growth of CdTe occurs via a surface catalyzed decomposition of the Te precursor di-isopropyltelluride (DIPTe). Investigation of ALE mode growth behavior for different susceptor temperatures and DIPTe flush times indicated that the growth was limited by competition between desorption and reaction of the adsorbed DIPTe species on the Cd terminated surface.  相似文献   
56.
We estimate the blow‐up time for the reaction diffusion equation utu+ λf(u), for the radial symmetric case, where f is a positive, increasing and convex function growing fast enough at infinity. Here λ>λ*, where λ* is the ‘extremal’ (critical) value for λ, such that there exists an ‘extremal’ weak but not a classical steady‐state solution at λ=λ* with ∥w(?, λ)∥→∞ as 0<λ→λ*?. Estimates of the blow‐up time are obtained by using comparison methods. Also an asymptotic analysis is applied when f(s)=es, for λ?λ*?1, regarding the form of the solution during blow‐up and an asymptotic estimate of blow‐up time is obtained. Finally, some numerical results are also presented. Copyright © 2007 John Wiley & Sons, Ltd.  相似文献   
57.
A K Sinha  A Bhattacharjee 《Pramana》1989,33(4):493-503
A layer of stratified combination composed of selected radiation shielding materials acquires better shielding property. Albedo is used in such measurements as an integral measure ofγ-ray scattering. The stratified slabs of alternating heterogeneous layers have been found to have a virtual homogeneous property with a definite effective atomic number. The angular distribution of back-scattered photons as well as the total number albedo values for iron, aluminium and concrete in stratified combination for 662 keV and 1250 keV photons are reported.  相似文献   
58.
本文用光弹理论,在全面考虑了超晶格中两种材料的声速,质量密度和光弹常数存在差别的基础上,计算了Ge_xSi_(1-x)/Si超晶格中折迭纵声学声子的喇曼散射强度,在高达50cm~(-1)的频率范围内,理论值和实验符合得很好。  相似文献   
59.
InGaAs(P)分别限制应变单量子阱激光器的优化设计   总被引:1,自引:0,他引:1  
针对较常用的InGaAs(P)分别限制应变单量子阱激光器,给出了为得到最大净增益的优化设计参数。对于激射波长为1.55μm的无应变激光器,最佳的光限制层波长为1.24μm,厚度为100nm。当阱材料引入压缩应变后.由于价带的有效状态密度减小,量子阱激光器的微分增益变大,阱深的增大对增大线性增益的效果更加明显.所以最佳光限制层的波长将变短,为1.20μm  相似文献   
60.
Microstructure and related properties of hydrogenated silicon samples, Si:H, treated at high-temperature (HT) up to 1270 K under hydrostatic argon pressure (HP) up to 1.1 GPa are investigated. To prepare Si:H, Czochralski grown 0 0 1 oriented single crystalline Si wafer with 50 nm thick surface SiO2 layer was heavily implanted with hydrogen using the immersion plasma source of hydrogen ions with energy 24 keV.The surface of HT-HP treated Si:H was characterised by scanning electron microscopy. Reflectivity pattern measurements in the wavelength range of 350-2000 nm have been performed to analyse their surface and bulk properties. The volume averaging method for a model of layer-like structure has been used to simulate the HT-HP treated Si:H. The analysis of Si:H samples suggests the multi-layer structure composed of Si, Si:H, SiO, SiO2, and of porous Si layers in the sub-surface region. The porous Si:H samples model is in good consistency with experimental data from reflectance measurements.  相似文献   
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