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121.
OCT图像散斑的形成机理和清除方法 总被引:4,自引:1,他引:3
根据光相干层析成像(OCT)的光学和光电检测系统特点,结合现有的理论模型,分析了OCT成像和散斑形成机理。指出失去相干性的多次散射光部分会被滤波电路排除,散斑是由高散射组织相干长度之内的不同散射截面上的若干具有nπ光程差的相干散射光彼此叠加形成的。最后讨论了消除散斑的方法。 相似文献
122.
基于对地观测激光回波特征的目标特性研究 总被引:5,自引:0,他引:5
本文研究了对地观测激光回波特征与地面目标特征之间的关系模型,分析了分类地面目标的激光回波特征,提出一种基于查表法的目标特性计算方法并给出了仿真结果。 相似文献
123.
基于扩展分形和CFAR特征融合的SAR图像目标识别 总被引:3,自引:0,他引:3
研究了多信息融合技术在SAR图像目标识别中的应用。将扩展分形特征(Extended Fractal)与双参数恒虚警特征(Double Parameter CFAR)形成的多信息进行融合处理。运用Dempster-Shafer证据理论,在决策层对SAR图像中的像素进行识别分类。实验结果表明通过融合对像素分类的准确性明显好于单特征的检测结果,减少了虚警概率,提高了系统的识别能力。 相似文献
124.
提出一种视频点播系统传送数据的结构,结合单播与群播两种数据传送的方法,通过动态改变群播与单播的频道分配比例,让大部分的使用者无需等待即可开始观看影片,进而减少整体使用者的等待时间. 相似文献
125.
126.
The possibility of realizing SASE Free Election Laser in x-ray waveband with EM-wave wiggler is studied in this paper. SASE effect including saturation length, saturation power and nonlinear process is explored through a 3-D simulation code. A utilization of seed light from laser plasma x-ray is also analyzed, which demonstrates the feature of shortening the interaction length for saturation. The results show that sizeable output power of x-ray laser would be generated with a middle energy electron beam. 相似文献
127.
Woo‐Seok Cheong 《ETRI Journal》2003,25(6):503-509
Selective epitaxial growth (SEG) of silicon has attracted considerable attention for its good electrical properties and advantages in building microstructures in high‐density devices. However, SEG problems, such as an unclear process window, selectivity loss, and nonuniformity have often made application difficult. In our study, we derived processing diagrams for SEG from thermodynamics on gas‐phase reactions so that we could predict the SEG process zone for low pressure chemical vapor deposition. In addition, with the help of both the concept of the effective supersaturation ratio and three kinds of E‐beam patterns, we evaluated and controlled selectivity loss and nonuniformity in SEG, which is affected by the loading effect. To optimize the SEG process, we propose two practical methods: One deals with cleaning the wafer, and the other involves inserting dummy active patterns into the wide insulator to prevent the silicon from nucleating. 相似文献
128.
129.
CMP系统技术与市场 总被引:3,自引:1,他引:2
葛劢冲 《电子工业专用设备》2003,32(1):17-24
概述了CMP系统技术的发展历史、发展趋势以及在IC生产中的重要性,介绍了国外CMP设备主要制造厂家的设备型号和性能及CMP设备市场分布和需求,阐述了CMP系统技术的基础研究、关键技术和国内研究概况。 相似文献
130.