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991.
992.
传输线变压器是在短波和超短波频段使用广泛的重要器件,根据传输线变压器原理设计制造的器件具有结构紧凑、功率容量大、频带宽、损耗小等优点.该文研究了利用慢波线原理和相位补偿技术克服传输线变压器对于传输线电长度的限制,使其适用频率向s波段以上扩展的方法.文中给出了1:4阻抗变换器电路的传输损耗和高低端输入阻抗理论公式并对其进行了讨论.对所设计的S波段1:4阻抗变换器及功率合成器进行了仿真分析并设计制作了实物.仿真和实测结果表明,利用慢波线原理和相位补偿后的传输线变压器能够适用s波段及以上微波器件. 相似文献
993.
基于电流与电压复合控制的压电陶瓷驱动器 总被引:1,自引:0,他引:1
针对电压控制型压电陶瓷驱动器存在动态性能差的问题,及电流控制型压电陶瓷驱动器存在在静态下易充电饱和、难以获得稳定输出的问题,该文设计了基于电流与电压控制的复合型压电陶瓷驱动器.该驱动器具有电流电压双闭环反馈,使驱动器可兼具良好的静态和动态特性.在此基础上,分析了复合型驱动器的性能特点和各参数对其性能的影响,通过调整参数可改变驱动器性能,以满足不同需求.实验结果表明,该驱动器驱动行程为10 μm的压电陶瓷时,0~100 V阶跃信号响应时间小于400 μs,满行程带宽可达1.5 kHz,给定直流信号下可获得良好的稳定输出. 相似文献
994.
995.
由于仪表内耗功率不为零所产生的误差称为方法误差。用电流表、电压表测量电流、电压时存在方法误差。方法误差的大小与电流表、电压表内阻有关。适当选择仪表内阻减小方法误差。如没有适当仪表,可用毫伏表或毫安表与已知电阻构成电流表、电压表达到同样的目的。要避免方法误差只能采用比较测量法,运用补偿法的电位差计可以避免方法误差。 相似文献
996.
本文提出了一种简单而有效的具有高频补偿的CMOS MOCCII电路.对于电压传输函数V_X/V_Y,采用源极电容耦合放大器的方式实现高频补偿;对于电流传输函数I_z/I_x、I_(z-)/I_x,采用在电流镜中加一个可调电阻方法,使得电流镜的传输函数由一阶系统变成可调极点的二阶系统,调节电阻大小,使得极点远离S平面原点,从而提高电流镜频带宽度.仿真表明,V_X/V_Y的转折频率由补偿前的92.690MHz提高到补偿后的184.127MHz;I_z/I_x及I_(z-)/I_x的转折频率分别由补偿前的66.708MHz、58.780MHz提高到补偿后的272.965MHz和279.042MHz,而-3dB截止频率分别达到871.936MHz和814.185MHz.最后,从应用方面给出了由补偿前后MOCCII所构成的电流模式滤波器. 相似文献
997.
998.
国外数据通信设备高压直流供电新系统(下) 总被引:1,自引:0,他引:1
分析了数据通信供电的特点,交直流供电系统的可靠性、安全性和工程应用,并对近十年来《国际电信能源会议》(INTELEC)中有关电信和数据通信局的高效节能、高压直流供电系统论文和实施试点进行跟踪,最后介绍了瑞典、日本、法国和美国等有关通信公司近几年来实施的不同系统结构的高压直流供电系统。 相似文献
999.
We report the effect of annealing on electrical and physical characteristics of HfO2, HfSixOy and HfOyNz gate oxide films on Si. Having the largest thickness change of 0.3 nm after post deposition annealing (PDA), HfOyNz shows the lowest leakage current. It was found for both as-grown and annealed structures that Poole-Frenkel conduction is dominant at low field while Fowler-Nordheim tunneling in high field. Spectroscopic ellipsometry measurement revealed that the PDA process decreases the bandgap of the dielectric layers. We found that a decreasing of peak intensity in the middle HfOyNz layer as measured by Tof-SIMS may suggest the movement of N toward the interface region between the HfOyNz layer and the Si substrate during the annealing process. 相似文献
1000.
This paper presents a novel SRAM circuit technique for simultaneously enhancing the cell operating margin and improving the circuit speed in low-voltage operation. During each access, the wordline and cell power node of selected SRAM cells are internally boosted into two different voltage levels. This technique with optimized boosting levels expands the read margin and the write margin to a sufficient amount without an increase of cell size. It also improves the SRAM circuit speed owing to an increase of the cell read-out current. A 256 Kbit SRAM test chip with the proposed technique has been fabricated in a 0.18 μm CMOS logic process. For 0.8 V supply voltage, the design scheme increases the cell read margin by 76%, the cell write margin by 54% and the cell read-out current by three times at the expense of 14.6% additional active power. Silicon measurement eventually confirms that the proposed SRAM achieves nearly 1.2 orders of magnitude reduction in a die bit-error count while operating with 26% faster speed compared with those of conventional SRAM. 相似文献