首页 | 本学科首页   官方微博 | 高级检索  
文章检索
  按 检索   检索词:      
出版年份:   被引次数:   他引次数: 提示:输入*表示无穷大
  收费全文   1619篇
  免费   228篇
  国内免费   150篇
化学   491篇
晶体学   14篇
力学   49篇
综合类   24篇
数学   12篇
物理学   778篇
无线电   629篇
  2024年   1篇
  2023年   16篇
  2022年   35篇
  2021年   43篇
  2020年   42篇
  2019年   16篇
  2018年   38篇
  2017年   49篇
  2016年   54篇
  2015年   72篇
  2014年   76篇
  2013年   98篇
  2012年   82篇
  2011年   104篇
  2010年   75篇
  2009年   94篇
  2008年   78篇
  2007年   103篇
  2006年   117篇
  2005年   85篇
  2004年   88篇
  2003年   110篇
  2002年   64篇
  2001年   84篇
  2000年   68篇
  1999年   64篇
  1998年   34篇
  1997年   56篇
  1996年   31篇
  1995年   26篇
  1994年   26篇
  1993年   22篇
  1992年   13篇
  1991年   9篇
  1990年   11篇
  1989年   2篇
  1988年   6篇
  1987年   2篇
  1986年   1篇
  1981年   1篇
  1957年   1篇
排序方式: 共有1997条查询结果,搜索用时 359 毫秒
61.
采用电磁场有限元方法,数值模拟了孔径型扫描近场光学显微镜(aperture Scanning Near-field Optical Microscopy,a-SNOM)在照明模式下的工作过程.针对金偶极天线结构,改变天线长度和纳米间隙尺寸,计算了a-SNOM探针孔径的远场辐射速率随探针端面中心坐标变化的扫描曲线,实现了超越a-SNOM探针通光孔径尺寸的天线金属纳米间隙的超分辨测量,对于100nm通光孔径的探针,可分辨最小尺寸为10nm(0.016倍波长)的金属间隙.通过对比金属和介质偶极天线的a-SNOM探针远场辐射速率测量的计算结果,表明天线金属纳米间隙的超分辨测量的实现是由于金属间隙表面等离激元的激发.  相似文献   
62.
Titanium dioxide thin films have been deposited by metalorganic chemical vapor deposition (MOCVD) over sodalime glass substrates at substrate temperatures ranging from 250 °C to 450 °C. The effect of deposition temperature on the structure and microstructure of the obtained films has been studied by x-rays diffraction (XRD) and scanning electron microscopy (SEM), respectively. Diffraction patterns show the existence of a pure anatase phase beside a texture change with the increase of deposition temperature. Micrographs show grain fragmentation with the increase in deposition temperature. UV–Vis. spectra have been recorded by spectrophotometery. The optical energy gap has been calculated for the deposited films from the spectrophotometrical data. Photocatalytic experiments have been carried out. The photocatalytic activity has been found to decrease with the increase in deposition temperature.  相似文献   
63.
64.
介绍了激光扫描共聚焦显微镜(laser scanning confocal microscopy,LSCM)的原理和构造,分析了LSCM的优点和缺点,并以花粉为例,详细介绍了共聚焦针孔直径、光电倍增管检测器增益、激光强度、扫描速度、扫描方式和Z轴步距等重要参数设置对共聚焦成像的不同影响。探讨了正确使用LSCM的方法与技巧,如获取高质量的图像、图像保存及图像处理,以便为科技人员利用LSCM开展更多植物学与环境科学相关的研究提供参考。  相似文献   
65.
柳毒蛾的触角结构与感受器扫描电镜观察   总被引:1,自引:0,他引:1  
本文利用扫描电镜对柳毒蛾成虫触角的结构进行观察,结果表明,柳毒蛾成虫触角存在6种感受器,即毛形感器、腔锥形感器、刺形感器、锥形感器、鳞形感器、栓锥形感器。其中,以毛形感器最多,栓锥形感器最少。经观察,柳毒蛾雌雄成虫的触角一般形态结构无明显差异,其感器类型及分布具有性二型性。  相似文献   
66.
胶体金免疫电镜技术检测番茄环纹斑点病毒   总被引:1,自引:0,他引:1  
本实验利用胶体金免疫电镜技术检测番茄环纹斑点病毒( tomato zonate spot virus, TZSV),分别以TZSV的N 蛋白多克隆抗体及TZSV的Gn蛋白多克隆抗体为一抗,然后以胶体金标记羊抗兔IgG?gold(10 nm)为二抗对病毒进行胶体金标记,电镜观察用TZSV Gn蛋白抗体标记的胶体金颗粒能很好地结合到病毒粒体上。结果表明该方法可以实现对TZSV更为准确可靠地检测。  相似文献   
67.
68.
69.
Two mesogenic homologous series, 2-[4-(4-n-alkoxybenzoyloxy)-2-methylphenylazo]-naphthalenes (I) and 2-[4-(4-n-alkoxybenzoyloxy)-3-methylphenylazo]naphthalenes (II) with a lateral methyl group have been synthesized. Both series are purely nematogenic. The mesomorphic properties of both series are compared with each other and also with the properties of other structurally related series to evaluate the effect of the lateral methyl group on mesomorphism. The chiral nematic (N*) mesophase was induced in the system by doping with a derivative of naturally occurring chiral menthol.  相似文献   
70.
To systematically evaluate the quality of SiNx films in multi-stacked structures, we investigated the effects of post-deposition annealing (PDA) on the film properties of SiNx within the SiO2/SiNx/SiO2/Si stacked structure by performing X-ray photoelectron spectroscopy (XPS), X-ray reflectivity (XRR), Fourier transform infrared (FT-IR) spectroscopy, and scanning transmission electron microscope–electron energy loss spectroscopy (STEM-EELS) analyses. The XPS results showed that PDA induces the oxidation of the SiNx layer. In particular, new finding is that Si-rich SiNx in the SiNx layer is preferentially oxidized by PDA even in multi-stacked structure. The XRR results showed that the SiNx layer becomes thinner, whereas the interface layer between the SiNx layer and Si becomes thicker. It is concluded by STEM-EELS and XPS that this interface layer is SiON layer. The density of N–H and Si–H bonding within the stacked structure strongly depends on the PDA temperature. Our study helps elucidate the properties of SiNx films in stacked structures from various perspectives.  相似文献   
设为首页 | 免责声明 | 关于勤云 | 加入收藏

Copyright©北京勤云科技发展有限公司  京ICP备09084417号