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901.
采用溶胶-凝胶(sol-gel)旋涂法在常规玻璃衬底 上生长了In掺杂浓度分别为1at%、2at%、3at%、4at%、5at%的ZnO薄膜。借助X射线衍射仪(X RD)、扫描电子显微镜(SEM)、紫外- 可见分光光度计(UV-Vis)对样品的晶粒生长、结构以及光学性能进行表征。结果如下:所 制 备的薄膜均沿(002)方向择优生长,且随着In3+掺杂浓度增加 ,衍射峰的峰型及半高宽均呈 先降低后升高的趋势;In3+掺入后,ZnO薄膜晶粒由原来的六边形状发展成类似蠕虫 状,同 时粒径变小且大小不一;与本征样品相比,掺杂后的ZnO光透过率提高了10%,且吸收边向短 波长方向偏移,同时随着In3+的掺入,薄膜的光学带隙值从3.49 eV增加到3.80 eV。当In3+掺 杂浓度为4at%时,薄膜(002)峰的峰形最为尖锐、峰值最大,晶粒较为均匀、 晶格间距更小,光透过率最高,光学带隙值相对较大为3.77 eV。 相似文献
902.
双波段红外光纤增透膜的研究 总被引:1,自引:0,他引:1
介绍了双波段 ( 3~ 5μm和 8~ 1 2 μm)红外光纤端面镀增透膜的重要性及其研制过程。 相似文献
903.
The computation of probabilistic testability measures has become increasingly important and some methods have been proposed, although the exact solution of the problem is NP-hard. An exact analytical method for singleoutput combinational circuits is extended to deal with multi-output circuits. Such circuits are reduced to singleoutput ones by introducing a dummy gate, the X-gate, and applying to the resulting graph the analysis based on supergates. 相似文献
904.
905.
镁合金表面激光熔覆纳米三氧化二铝 总被引:4,自引:0,他引:4
镁合金由于密度小、比强度高、良好的导电和导热性而成为工业结构工程和运输工具中非常有应用前景的工程材料.但由于镁合金的耐磨性差,成为阻碍镁合金应用与汽车工业或其他工程部件中作为转动部件的一大障碍.为提高镁合金的表面耐磨性.各种表面处理技术应运而生.其中激光表面改性处理技术比较引人瞩目.为提高镁合金的表面耐磨性.采用激光熔覆纳米Al2O3颗粒的办法对ZM5镁合金进行了表面改性处理.激光改性是采用500 W脉冲Nd:YAG熔化预置在ZM5表面的纳米三氧化二铝进行处理的.激光熔覆后,对改性层的显微结构进行了分析.同时对显微硬度与激光加工参数之间的关系以及耐磨性均进行了测试.改性层的显微硬度可以高达350 HV,而基材的显微硬度只有100 HV.激光改性处理层的耐磨性与基材相比也得到了显著的提高. 相似文献
906.
907.
In this paper, measured and calculated non-isothermal DC characteristics of silicon carbide MPS devices are investigated, with special attention paid on critical parameters, such as maximum current and junction temperature at which a thermal runaway may occur. Electro-thermal transient states in single MPS devices (forward surge current tests) and in the simple Greatz rectifier are simulated and compared to measurements. Various electro-thermal models of SiC SBDs, with a simplified, effective procedure for calculations of junction temperature are proposed. 相似文献
908.
909.
Masakazu Katsuno Noboru Ohtani Tatsuo Fujimoto Hirokatsu Yashiro 《Journal of Electronic Materials》2005,34(1):91-95
The effect of off-orientation growth has been investigated in terms of stacking fault formation during physical vapor transport
(PVT) growth of silicon carbide (SiC) single crystals on the (11
0) seed crystal surface. Occurrence of stacking fault formation is largely dependent on the direction of off-orientation,
and basal plane stacking fault density is significantly reduced by growing the crystals on a (11
0) seed crystal off-oriented toward 〈0001〉. The density of the basal plane stacking faults rapidly decreases from 100–150
cm−1 to ∼10 cm−1 as the degree of off-orientation is increased from 0 to 10 deg. The results are interpreted in the framework of microscopic
facet formation during PVT growth, and the introduction of off-orientation of seed crystal is assumed to prevent (01
0) and (10
0) microfacet formation on the (11
0) growing surface through modification of the surface growth kinetics and to suppress the stacking fault formation.
An erratum to this article is available at . 相似文献
910.
激光熔覆WCp/Ni-Cr-B-Si-C自熔合金复合涂层的显微结构及干滑动磨损 总被引:12,自引:0,他引:12
运用激光熔覆技术在45#钢表面制备了WCp增强Ni-Cr-B-Si-C复合涂层。含量为30vol-%WC典型涂层的XRD,SEM和TEM分析表明,WCp在熔覆的熔化阶段发生部分溶解和分解。激光熔体凝固时形成的微观组织由Ni+Ni3B共晶基体上分布的杆(或薄片)状α-W2C,块状β-W2C和四方形η1碳化物M6C相组成。这类碳化物主要含W,并含大量Cr。销-环式干滑动磨损试验表明,当WCp含量约为30vol-%时,磨损抗力最大 相似文献