A Tin(IV) Porphyrin with Two Axial Organometallic NCN‐Pincer Platinum Units

A tin(IV) porphyrin was combined with two axial NCN‐pincer platinum(II) fragments by utilizing the oxophilicity of the apical positions on the tin atom and the acidic nature of the NCN‐pincer platinum derived benzoic acid. The solid‐state structure determined by X‐ray crystallography revealed some close contacts between the pincer complexes and the meso‐p‐tolyl subsitutents of the porphyrin. It was shown by ¹H NMR spectroscopy that these close contacts were not present in solution and that this compound can potentially act as a novel building block for supramolecular architectures.     

Application of N,N‐bis(diphenylphosphino)aniline palladium(II) complexes as pre‐catalysts in Heck coupling reactions

Palladium(II) complexes with N,N‐bis(diphenylphosphino)aniline ligands catalyse the Heck reaction between styrene and aryl bromides, affording stilbenes in good yield. The structures of two of the complexes used as pre‐catalysts have been determined by single‐crystal X‐ray diffraction. Copyright © 2007 John Wiley & Sons, Ltd.     

静电火花法表征塑料导爆管起爆感度探索

提出了塑料导爆管轴向静电火花感度的概念、测试原理。用标准的静电感度测试仪配以一定结构的起爆针 ,建立了可用于导爆管感度测试的实验装置 ,采用升降法测出导爆管起爆所需静电能量并用它来表征导爆管的感度。用三种导爆管进行了感度测试 ,实验条件下其感度值E0 .50 分别为 0 .4 3、1.0 8、1.94J。     

碳纳米管及其批量制备研究进展

从碳纳米管的优异性能和应用出发,综述了碳纳米管的制备方法以及我国目前在碳纳米管研究中面临的问题;分析了碳纳米管产业化对的我国纳米技术产业化发展的积极意义,特别介绍了清华-南风纳米粉体产业化工程中心开发的、具有我国自主知识产权的纳米聚团流态化技术。     

复射线展开法分析圆柱面对平面波散射的精度问题

讨论了用复射线展开法计算圆柱面对入射平面波散射时的计算误差特性，提出了控制其计算精度的复射线展开参数选择方法，证实了通过恰当选择展开参数可以有效地提升计算精度、实现误差控制。     

无线局域网技术及应用

无线局域网技术是目前发展迅速的技术，相对于有线局域网有许多优点。随着无线网络产品性能的提高和价格的不断下降，无线局域网技术有着广泛的应用前景。据此对无线局域网的基本概念、特点及其技术作了简单的介绍，提出了无线局域网面向应用的几种解决方案，并对发展前景作了预测。     

X射线三轴晶衍射法测量半绝缘GaAs单晶的化学配比

采用X射线三轴晶衍射法,根据As间隙原子对作为过量As在GaAs单晶材料中存在的主要形式的模型,可以无损、高精度测量半绝缘GaAs单晶的化学配比.并探讨了引起晶格变化的原因及其与熔体组分的关系,对于制备高质量GaAs单晶及其光电器件具有重要的意义.     

Sn-C60薄膜的紫外吸收光谱和X-射线衍射谱分析

对Sn-C60薄膜进行紫外可见光吸收，X-射线衍射和扫描电镜的测定结果显示，薄膜样品紫外可见光吸收的两个短波段吸收峰比纯C60薄膜的吸收峰显著下降，说明Sn-C60薄膜的电子光吸收跃迁为间接跃迁，能带中有杂质能级的存在；样品的X射线衍射峰则对应于面心立方结构；扫描电镜结果显示薄膜为纳米级颗粒组成。     

阴极还原处理对多孔硅发光性能的影响

对经过阴极还原处理后的多孔硅样片进行了光致发光测试和稳定性测试.实验结果表明这种处理能明显改善多孔硅的发光稳定性,使其表面结构更加稳定.利用原子力显微镜对不同还原时间的多孔硅微结构及形貌进行了比较,在一定范围内随着还原时间的增长多孔硅表面粗糙度增大,PL谱增强.