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151.
光电变色器件用纳米晶氧化钛薄膜的微结构与特性   总被引:2,自引:2,他引:0  
唐洁影  张旭苹  孟莉莉 《光学学报》2003,23(12):502-1506
纳米晶TiO2薄膜在光电变色器件中具有很重要的作用。它的微结构直接影响染料的吸附、光的散射以及电荷输运的特性。因此,探索TiO2薄膜的微结构(如粒径、表面形貌和厚度等)及光电性能是非常有意义的。采用电子束蒸发工艺制备了光电变色器件用纳晶TiO2薄膜,利用原子力显微镜、X射线衍射、俄歇电子能谱等手段对纳米晶TiO2薄膜的表面形貌、结晶状态及组分进行了分析。从理论上研究和讨论了纳米晶TiO2薄膜晶粒尺寸对光电性能的影响,并用量子限制效应解释了吸收光谱峰值波长随粒径减小而发生蓝移的现象。  相似文献   
152.
A new scheme of optical film sensor is presented. The sensor is based on p-polarized reflectance, consisting of a sensing coated substrate, is easily optimized for maximum sensitivity in different applications. The resolutions of refractive index nf, extinction coefficient kf and thickness hf of the sensitive films are predicted to be 10−7, 10−5 and 10−3 nm, respectively. Experimentally, we selected the sol–gel derived SnO2 films as gas-sensitive films and conducted preliminary gas-sensing test. The results indicate that novel optical film sensor scheme has higher sensitivity, and the detection sensitivity is available to 10−1 ppm on the condition of optimum optical parameters and incident angle.  相似文献   
153.
We have studied the spectral properties and morphology of thin films (TVD films) formed by thermal vacuum deposition of 4,4′-bis[(E)-1-(1,3-benzoxazol-2-yl)-2-ethenyl]-1,1′-biphenyl and its substituted derivatives. We have shown that introducing bulky 2,2′-oxyhexyl substituents into the biphenyl units leads to a shift of the fluorescence maximum for the TVD films toward shorter wavelengths, a decrease in their photostability, and aggregation of the films during storage. __________ Translated from Zhurnal Prikladnoi Spektroskopii, Vol. 74, No. 3, pp. 300–303, May–June, 2007.  相似文献   
154.
掺铝氧化锌(AZO)导电薄膜的研究进展   总被引:1,自引:0,他引:1  
综述透明导电薄膜的性能、种类、制备工艺、研究及应用状况,重点讨论掺铝氧化锌(AZO)薄膜的结构、导电机理、光电性能和当前的研究焦点。并指出,为了进一步提高透明导电薄膜的性能,应从以材料选择、制备工艺、多层膜光学设计等方面深入研发,以满足尖端技术的需要。  相似文献   
155.
DDI法测薄膜光学常数   总被引:1,自引:0,他引:1  
谷晋骐  郑永星 《中国激光》1996,23(10):915-919
双光束双波长激光干涉(DDI)法采用自行设计的可调双波长氦氖激光器作光源,可在同一光路中通过两次测量获得薄膜样品两个波长(0.633μm,3.39μm)下的光学常数,即折射率、消光系数和厚度。论述了测量原理、测量装置和测量结果。  相似文献   
156.
本文研究了用金属有机物热发解法制备PLT8薄膜的工艺过程和基片对薄膜结构的影响,并且给出了铁电性能的测量结果。  相似文献   
157.
采用自行研制的LB自动提膜装置,制备出大面积(10×8cm2)、高质量的PMMA超薄抗蚀剂膜,并将其用于高分辨率铬掩模版的研制。通过电子束曝光,湿法蚀刻,制作了分辨率优于0.5μm,特征线宽0.38μm的4(100mm)铬掩模版。  相似文献   
158.
利用变温和变磁场霍尔测试对在空气室温环境长期存放的碲镉汞液相处延晶膜作了定期的检测,结果表明,晶膜的电学性质随时间有明显的改变,本文采用非均匀晶膜的层状模型对晶膜的不稳定性作了详细的分析。  相似文献   
159.
酞菁钴薄膜的折射率及吸收特性   总被引:3,自引:1,他引:2  
陈启婴  顾冬红 《光学学报》1996,16(2):07-211
通过真空镀法在单晶硅片上制备了酞菁钴薄膜,在波长扫描和入射角可变全自动椭圆偏振光谱仪上研究了CoPc薄膜的椭偏光谱并分析了其电子结构。  相似文献   
160.
金属迁移能导致混合微电路发生灾难性失效。本文介绍一种简单易行的测试方法-水滴试验法,来测量厚膜电路的实际金属迁移率。用引方法测量时,发现Pd-Ag导体的迁移率最大,Pt-Au导体的金属迁移率最小。  相似文献   
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