全文获取类型
收费全文 | 1318篇 |
免费 | 386篇 |
国内免费 | 224篇 |
专业分类
化学 | 253篇 |
晶体学 | 3篇 |
力学 | 50篇 |
综合类 | 2篇 |
数学 | 66篇 |
物理学 | 853篇 |
无线电 | 701篇 |
出版年
2024年 | 14篇 |
2023年 | 17篇 |
2022年 | 36篇 |
2021年 | 52篇 |
2020年 | 42篇 |
2019年 | 43篇 |
2018年 | 55篇 |
2017年 | 72篇 |
2016年 | 77篇 |
2015年 | 103篇 |
2014年 | 134篇 |
2013年 | 126篇 |
2012年 | 114篇 |
2011年 | 132篇 |
2010年 | 98篇 |
2009年 | 119篇 |
2008年 | 109篇 |
2007年 | 97篇 |
2006年 | 110篇 |
2005年 | 83篇 |
2004年 | 46篇 |
2003年 | 39篇 |
2002年 | 39篇 |
2001年 | 37篇 |
2000年 | 23篇 |
1999年 | 13篇 |
1998年 | 17篇 |
1997年 | 8篇 |
1996年 | 14篇 |
1995年 | 7篇 |
1994年 | 8篇 |
1993年 | 6篇 |
1992年 | 8篇 |
1991年 | 3篇 |
1990年 | 4篇 |
1989年 | 3篇 |
1988年 | 3篇 |
1987年 | 3篇 |
1986年 | 1篇 |
1985年 | 7篇 |
1984年 | 1篇 |
1982年 | 1篇 |
1981年 | 2篇 |
1976年 | 1篇 |
1974年 | 1篇 |
排序方式: 共有1928条查询结果,搜索用时 15 毫秒
51.
给出一种新的 RF功率器件结构 -梳状基区结构 .在不增加本征集电结面积的情况下 ,该结构能显著改善 RF功率晶体管散热特性 ,增大器件的耗散功率和输出功率 ,较好地缓解了传统结构中高工作频率与大输出功率之间的矛盾 .模拟分析表明 ,采用该结构 ,器件的雪崩击穿电压能提高到理想平行平面结的 90 %以上 ,器件的大电流特性和频率特性也有所改进 .采用该技术制作的试验样管 DCT375同传统结构器件相比 ,其热电特性得到显著的改善 .这种结构为新型超高频、微波大功率管的研制开辟了新途径 . 相似文献
52.
Design of edge termination for GaN power Schottky diodes 总被引:1,自引:0,他引:1
J. R. Laroche F. Ren K. W. Baik S. J. Pearton B. S. Shelton B. Peres 《Journal of Electronic Materials》2005,34(4):370-374
The GaN Schottky diodes capable of operating in the 300–700-V range with low turn-on voltage (0.7 V) and forward conduction
currents of at least 10 A at 1.4 V (with corresponding forward current density of 500 A/cm2) are attractive for applications ranging from power distribution in electric/hybrid electric vehicles to power management
in spacecraft and geothermal, deep-well drilling telemetry. A key requirement is the need for edge-termination design to prevent
premature breakdown because of field crowding at the edge of the depletion region. We describe the simulation of structures
incorporating various kinds of edge termination, including dielectric overlap and ion-implanted guard rings. Dielectric overlap
using 5-μm termination of 0.1–0.2-μm-thick SiO2 increases the breakdown voltage of quasi-vertical diodes with 3-μm GaN epi thickness by a factor of ∼2.7. The use of even
one p-type guard ring produces about the same benefit as the optimized dielectric overlap termination. 相似文献
53.
为了提高激光诱导击穿光谱技术对物质成分的检测水平,在实验中加入了平面反射镜装置约束激光等离子体。用Nd:YAG纳秒脉冲激光激发产生土壤等离子体发射光谱,测量绘制了元素的定标曲线,定量分析了土壤样品中重金属元素Cr和Pb,并与不加入平面反射镜装置条件下的检测结果进行比较。计算表明,实验中加入平面反射镜装置以后,元素Cr和Pb的测量结果的相对标准偏差与无平面反射镜装置时的相比较,分别从5.22%和8.12%降低到了3.43%和3.94%;而元素分析检出限分别由4.13×10-3%和62.54×10-3%降低到2.61×10-3%和44.22×10-3%。可见,利用平面反射镜装置能够明显提高激光诱导击穿光谱技术的测量精度。 相似文献
54.
6H-SiC单极功率器件性能的温度关系 总被引:1,自引:0,他引:1
基于碳化硅材料电离系数和迁移率的温度依赖性 ,利用有效电离系数的 Fulop近似 ,推出了 6 H- Si C单极性功率器件击穿电压和比导通电阻的温度依赖性解析表达式 .理论预言的击穿电压和临界电场与先前的实验结果基本一致 (误差小于 10 % ) ,验证了理论模型的适用性 相似文献
55.
56.
本文提出了超低比导通电阻(Ron,sp) SOI双栅槽型MOSFET(DG Trench MOSFET)。此MOSFET的特点是拥有双栅和一个氧化物槽:氧化物槽位于漂移区,一个槽栅嵌入氧化物槽,另一个槽栅延伸到埋氧层。首先,双栅依靠形成双导电沟道来减小Ron,sp;其次,氧化物槽不仅折叠漂移区,而且调制电场,从而减小元胞尺寸,增大击穿电压。当DG Trench MOSFET的半个元胞尺寸为3μm时,它的击穿电压为93V,Ron,sp为51.8mΩ?mm2。与SOI单栅MOSFET(SG MOSFET)和SOI单栅槽型MOSFET(SG Trench MOSFET)相比,在相同的BV下,DG Trench MOSFET的Ron,sp分别地降低了63.3%和33.8%。 相似文献
57.
58.
59.
60.
以液体中光击穿所激发声场为研究对象,在等离子体椭球模型的基础上,为方便理论计算,简化等离子体椭球模型,提出了等离子体椭圆盘模型,对光击穿所激发声场进行了理论研究.得到了等离子体椭圆盘辐射声场的声压规律,并利用椭圆坐标变换,依据马修函数特性和模态的正交性,求得了等离子体椭圆盘振动位移的解析表达式. 相似文献