改进LSB算法及其在BMP图像中的应用

首先分析了BMP图像文件格式，然后根据传统LSB算法在BMP图像文件中应用，提出一种改进的LSB隐藏算法，提高了伪装图像质量。最后通过仿真验证了该算法的优越性。     

提高托盘利用效率的重要手段——电子信息化管理

托盘能否有效运用对物流的畅通与否关系重大,这已经引起了国内外专家和学者们的重视,并就此制定了托盘电子信息化管理系统,旨在更合理地使用托盘,推进托盘一体化和共用系统的建立。而RFID技术在托盘的电子信息化管理的应用更将大大提高物流的效率与准确性,托盘电子信息化管理将成为今后托盘管理的趋势。     

小波变换在光谱特征提取方面的应用

人们在处理高光谱图像时一般要对一些典型地物进行光谱分析、特征波段的提取,以便提取出最大量的有效信息,剔除无用或冗余的信息,然后再进行分类识别.采用小波变换的分析方法,选用合适的小波进行分解,根据分解后的高频分量中包含的重要信息,利用局部相邻的正负极值点找出对应于原始光谱曲线上每个吸收带的左右边界;利用局部过零点,即可比较精确的提取出各个吸收带的中心波长.该方法比传统的光谱特征提取方法更简洁、有效,实验证明为一种比较理想的光谱特征提取方法.     

基于C6711处理器cdma2000 1X系统前向信道信号的处理

在cdma20001x前向信道中,要对一段信号进行传送,一般选用QPSK调制,因为QPSK调制比QAM更适合噪音环境。采用TI6000系列的TMS320C6711芯片处理前向信道信号,可以对复杂性和实时性较高的信号做采集、量化、编码、调制等实时处理,主要功能通过软件编程实现,从而使系统具有结构灵活、可靠性高、可扩展等优点。     

一种新颖的基于非压缩数字视频的水印盲检测算法

数字水印是一种嵌入到多媒体数据中用来进行版权标识的工具。在众多的宿主媒体中，数字视频因具有隐藏容量大、透明性好、鲁棒性强等诸多优点而受到日益广泛的关注。但是很多文献中提到的视频水印都是从数据流中提取单帧图像进行处理，这类算法与静态图像的水印方法如出一辙，没有充分利用视频文件的各种特性。而且对帧平均、视频压缩等常见的运动图像攻击方法十分敏感。针对这些问题，本文以非压缩视频文件为实验对象，结合人类视觉模型和彩色图像场景分割的方法，提出并实现了一种基于视频时间轴的数字水印盲检测算法。实验结果表明算法有效实用。     

MULTICARRIER DS—CDMA WITH ADAPTIVE MODULATION AND POWER ALLOCATION

Adaptive modulation and power allocation is introduced into the multicarrier DSCDMA system to improve the system performance and bandwidth efficiency.First,the system design appropriate for adaptive modulation and power allocation is given,then the algorithm of adaptive modulation and power allocation is applied.Simulation results demonstrate great performance improvement compared with the fixed modulated one.     

机械力化学作用对低介硅灰石瓷料的相变和相组成的影响

采用X射线衍射仪(XRD)、差热分析(DTA)手段详细研究了由氧化物粉末制备硅灰石陶瓷时,机械力化学作用及后续热处理对硅灰石陶瓷相组成和相变过程的影响,分析了机械力化学在球磨过程中的作用机理主要是细化晶粒、使晶格畸变、晶格缺陷增多、非晶化和诱导低温化学反应。结果表明:高能球磨中的机械力化学作用能够有效地降低硅灰石陶瓷的烧成温度(11160~11220℃)。探明了经高能球磨的样品在烧成过程中的晶相转变规律。瓷料最终的晶相为单一的-硅灰石(高温变体)。     

连续波雷达测距中的解模糊技术

研究连续波雷达测距中的距离模糊问题，分析几种常用解模糊方法的性能，并讨论参差比的选取对测距范围的影响。     

双频抽运提高SBS相位共轭保真度

相位共轭保真度是相位共轭镜技术用于强激光系统中的一个重要指标。采用四波混频加强SBS的方法 ,其相干拍频驱动声子场 ,能提高SBS相位共轭保真度。对于双频单池结构 ,使用列阵相机测量激光束能量远场角分布 ,在SBS转换效率最佳时 ,对相干驱动SBS相位共轭保真度进行了实验研究     

Towards implementation of a nickel silicide process for CMOS technologies

In this paper, we review some of the advantages and disadvantages of nickel silicide as a material for the electrical contacts to the source, drain and gate of current and future CMOS devices. We first present some of the limitations imposed on the current cobalt silicide process because of the constant scaling, of the introduction of new substrate geometries (i.e. thin silicon on insulator) and of the modifications to the substrate material (i.e. SiGe). We then discuss the advantages of NiSi and for each of the CoSi₂ limitations, we point out why Ni is believed to be superior from the point of view of material properties, miscibility of phases and formation mechanisms. Discussion follows on the expected limitations of NiSi and some of the possible solutions to palliate these limitations.