利用CWDM技术升级HFC网络

针对HFC光网络的回传升级改造，提出了“采用CWDM技术升级HFC网络”的建议。文章介绍、分析WDM／DWDM／CWDM技术的技术背景、技术特点；介绍了CWDM技术的特点和在回传光发射机中的应用；针对HFC回传光网络的升级改造介绍了如何利用CWDM技术升级改造HFC光网络。     

SOI光开关速度和损耗的研究

速度和损耗是光开关的两项重要特性指标。章在介绍SOI热光型和电光型开关工作原理的基础上，分析了波导层和埋层二氧化硅厚度、电极材料、载流子寿命以及掺杂、界面质量、模式失配度和对准性等等因素对于速度和损耗的影响，并相应的提出了一些改善方案。     

WDM网络光层保护新算法的探讨

首先介绍了几种按照不同标准划分的WDM网络光层保护方法,然后提出了三种实现光层保护的新算法,对它们的内容和性能做了详细描述。按照提出的算法所求得的解,可以为WDM网络提供新的光层保护方式。     

智能光网络控制平面技术

光网络的智能化是下一代光网络发展的主要趋势,在对智能光网络发展背景进行分析的基础上,对光网络控制平面技术进行了讨论,重点分析了光网络控制平面的功能模型、主要功能、应用协议和控制平面的可靠性等问题。     

PMN-PT陶瓷中的氧缺位及其消除

研究了组成中Pb含量的变化对组成为Pbx(Mg1/3Nb2/3)0.65Ti0.35O3的铌镁酸铅-钛酸铅(PMN-PT)陶瓷压电性能的影响,发现化学计量比组成(x=1)的Pbx(Mg1/3Nb2/3)0.65Ti0.35O3陶瓷经常出现压电性能的大幅度退化现象,而A位适量缺Pb能稳定地获得高性能的Pbx(Mg1/3Nb2/3)0.65Ti0.35O3陶瓷。XPS元素价态分析的结果表明,化学计量比的Pbx(Mg1/3Nb2/3)0.65Ti0.35O3陶瓷中含有较多的氧缺位,氧缺位的产生源于MgNb2O6(MN)合成过程中的气氛差异,A位适量缺Pb能有效地消除这种氧缺位而稳定地获得正常的压电性能,其机理被认为是氧缺位与铅缺位的复合。     

扩宽OMA-Ⅵ同时谱宽的新方法

OMA－Ⅵ存在同时谱宽窄的缺点，本文用一种新方法大幅度地扩宽了它的同时谱宽，且不降低其系统分辨率，应用效果甚佳。     

非线性干涉滤光片开关特性及逻辑功能

应用干涉滤光片作为一种光学双稳器件,演示了光学逻辑开关功能。     

应用于生物医学的光声光谱技术的改进和实验研究

改进的光声光谱归一化技术，避免了普通的分光法归一化光声光谱技术中分束镜以及锁相放大器动态范围的影响和限制，实现宽光谱范围内准确的光谱测量。氙灯光源功率起伏用修正项修正，误差在5％以内，实现各次实验数据的可比性。