CHBr薄膜制备的初步研究

碳氢（cH）及其掺杂材料常被用作ICF实验靶丸烧蚀层材料。制备CH薄膜及其掺杂材料的方法有很多，诸如：离子束辅助沉积、离子溅射沉积、低压等离子体化学气相沉积（LPPCVD）等。近年来，详细研究了LPPCVD法制备CH薄膜的制备方法与工艺，形成了比较成熟的技术路线与工艺路线，并为“神光”实验提供了一系列实验靶丸。     

薄膜偏振分光镜的研究

概述薄膜偏振分光镜的研究现状及其主要特点，重点分析薄膜偏振分光镜的设计原理,并利用等效折射率的方法计算中心波长的反射率．     

Morphology of Platinum Nanowire Array Electrodepostied Within Anodic Aluminium Oxide Template Characterized by Atomic Force Microscopy

Unifrom platinum nanowires were synthesized by electrodepositing the platinum under a very low altering current frequency(20Hz) and increasing voltage(5-15V）in the proes of anodic aluminium oxide(AAO) template. Atomic force microscopy observation indicates that the template membranes we obtained have hexagonally clse-packed nanochannels.The platinum nanowires have highly ordered arrays after partially dissolving the aluminium oxide membrane.With the increasing dissolvoing time,the platinum nanowire array collapsed.A concave topography of the aluminium substrate was observed after the aluminium oxide membrane was dissolved completely and the platinum nanowires were released from the template.Platinum nanowires were also characterized by transmission electron microscopy and the phase structure of the Al/AAO/Pt composite was proven by x-ray diffraction.     

日本挠性印制电路板用原材料技术的新发展（3）——FPC用聚酰亚胺薄膜基片的技术发展

薄轻短小化已成为电于产品，特别是携带型电子产品的技术发展的潮流。在这一发展潮流中，挠性印制(FPC)成为了电子产品所用的多种类型PCB中的一个“宠儿”。制造FPC用的抗性覆铜板(FCCL)是由铜箔(充当导电体)、薄膜(充当绝缘片)、粘接剂(在三层FPC中作为薄膜与铜箔的粘接材料)组成的。在这篇论述挠性印制电路板用原材料技术的新发展为内容的连载章中，此章主要以日本钟渊化学工业公司的挠性覆铜板的重要原材料——薄膜绝缘基片新产品为主要例，来论述FPC用原材料的技术新发展。     

道康宁拓展热界面材料的供应——三种新产品为电子行业器件提供更多的控热选择

道康宁公司宣布拓展了其为电子业提供的热管理解决方案，即推出了三种新型热界面材料(thermal interface materials，简称TIMs)。其中的两种新型材料一道康宁TP-1600薄膜系列和道康宁TP2400衬垫系列是道康宁在去年战略性收购了Tyco Electronics’ Raychem Power Materials Business U—     

纳米薄膜的分类、特性、制备方法与应用

介绍了纳米薄膜的分类以及纳米薄膜的光学、力学、电磁学与气敏特性;综述了现有的溶胶鄄凝胶法、LB鄄膜法、电化学沉积法、化学汽相沉积、低能团簇束沉积法、真空蒸发法、溅射沉积、分子与原子束外延、分子自组装等纳米薄膜制备技术;概括了纳米薄膜的应用。     

液晶显示屏项目落户南通开发区

南通经济技术开发区国际电子工业园首个IT项目投资签字仪式日前上午在开发区管委会举行，萨尔摩业（英属）联诚有限公司将投资5000万美元在开发区电子工业园内生产薄膜型液晶显示屏模块（TFT-LCD）终端及相关光电产品。     

LaNiO3薄膜热稳定性的研究

LaNiO3导电金属氧化物薄膜在现代应用科学研究中作为电极和过渡阻挡层倍受青睐，它具有很好的导电特性和稳定性。该文采用射频溅射法制备了具有(100)择优取向的赝立方结构LaNiO3-x薄膜，并进行了原位热处理。实验结果表明，在265℃的处理条件下，LaNiO3薄膜表现出不稳定性，晶格中的氧在2h内失去了2.7％。氧的损失对品格结构没有明显影响，但薄膜的导电性能明显下降，折射率和消光系数也具有相同幅度的下降。对薄膜的应用具有一定的影响。该文从LaNiO3薄膜的导电机理方面对实验现象给出了分析和解释。