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81.
82.
地球存在着地磁场,地磁场对彩色显像管(CPT)的色纯度影响很大.为了减小地磁场对CPT色纯度的影响,通常在CPT内部装有磁屏蔽组件(简称为内屏蔽).本文介绍一种无内屏蔽组件的CPT,它既降低了CPT的成本,又不影响CPT的品位,还能满足全球地磁场的兼容性. 相似文献
83.
利用超晶格解理面方法制备定位生长的InAs量子线.首先以分子束外延技术在OaAs衬底上生长GaAs/AlGaAs超晶格,然后将样品取出外延系统进行解理,对解理面进行预处理之后在(110)解理面上进行二次外延.实验结果显示超晶格解理面的预处理方法对二次外延有重大影响,其中择优腐蚀比自然氧化更有利于量子线的定位生长,过高温度的脱氧除气会导致解理面的GaAs部分出现坑状结构,表明(110)面上的Ga原子容易脱附.同时,Ga原子在(110)面上的迁移长度比较大,原子的择优扩散方向为[001]方向. 相似文献
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85.
86.
强激光的计算模拟:平顶高斯光束模型 总被引:2,自引:1,他引:2
基于广义惠更斯-菲涅耳衍射积分,将平顶高斯光束作为一个整体光束,对其基本性质和变换特性作了统一研究。推导出了平顶高斯光束通过有线性增益(损耗)的近轴ABCD光学系统、无光阑和有光阑ABCD光学系统后解析形式的传输方程。对平顶高斯光束的相似变换以及与超高斯光束的一致性也作了分析。所得结果对强激光的模拟提供了一个有用的计算模型。 相似文献
87.
88.
CaF2 layers have grown by molecular beam epitaxy on bothn-type andp- type Si(111). Capacitance-voltage (C-V) and current-voltage (I-V) measurements have been made on metal-insulator-semiconductor
(MIS) capacitors to characterize these structures. For devices onp-type Si, C-V characteristics show only the insulator value of the capacitance over a wide range of applied voltages, indicating
an accumulated surface. At room temperature, C-V characteristics ofn-type devices show the minimum value of the capacitance (corresponding to inversion) for small voltages, but modulation of
the capacitance at larger voltages. At 200 K, this modulation is no longer present in the C-V curves. I-V curves show a rapid
increase in the leakage current at relatively low fields at room temperature, and this leakage decreases dramatically with
temperature. These results are largely independent of cleaning procedure, growth temperature, and the degree of misalignment
of the substrate. The characteristics are modeled by assuming the Fermi level to be pinned at the valence-band edge, and the
modulation in the C-V characteristics ofn-type samples to be driven by leakage currents.
Work done at GE while a graduate student in the School of Electrical Engineering, Cornell University. Present address: Jet
Propulsion Laboratory, 4800 Oak Grove Dr., Pasadena, CA 91109. 相似文献
89.
90.
偏振分光镜分光性能非理想对激光外差干涉非线性误差的影响 总被引:2,自引:2,他引:2
为了减小激光外差干涉纳米测量的非线性误差,必须明确偏振分光镜(PBS)分光性能非理想对非线性误差的影响机制.推导出非理想情况下偏振分光镜透射率和反射率的激光外差干涉非线性误差模型,建立了偏振分光镜分光性能非理想对非线性误差二次谐波的影响模型.仿真结果表明,偏振分光镜的透射率和反射率非理想对非线性误差的影响为一次谐波,且偏振分光镜分光性能越差,其对非线性误差的影响也越大.在偏振分光镜反射率为0.90的情况下,偏振分光镜透射率从1减小到0.90时,非线性误差由0.62 nm增大到1.24 nm.当存在偏振分光镜旋转角度误差时,偏振分光镜分光性能非理想引起的非线性误差不增加二次谐波分量,但增大了非线性误差一次谐波分量,严重影响非线性误差的大小.当偏振分光镜旋转角度误差为5°时,偏振分光镜透射率从1变为0.90,非线性误差从0.39 nm增大到1.41 nm. 相似文献