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151.
通过求解BogoliubovedeGennes(BdG)方程,利用推广的BlonderTinkhamKlapwijk(BTK)理论,计算铁磁绝缘层铁磁d波超导结中的微分电导、平均电流和散粒噪声功率.研究表明,系统的微分电导和散粒噪声与平均电流的比值都随中间铁磁层厚度作周期性振荡,振荡的幅度随绝缘层势垒增高而变大,随铁磁层中磁交换劈裂的增强而变小.
关键词:
微分电导 散粒噪声 磁交换劈裂 相似文献
152.
用射频磁控溅射法在80℃衬底温度下制备出MgxZn1-xO(x=0.16)薄膜,用X射线衍射(XRD)、光致发光(PL)和透射谱研究了退火温度对MgxZn1-xO薄膜结构和光学性质的影响.测量结果显示,MgxZn1-xO薄膜为单相六角纤锌矿结构,并且具有沿c轴的择优取向;随着退火温度的升高,(002)XRD峰强度、平均晶粒尺寸和紫外PL峰强度增大,(002)XRD峰半高宽(F
关键词:
xZn1-xO薄膜')" href="#">MgxZn1-xO薄膜
射频磁控溅射
退火 相似文献
153.
应用相关的存储技术实现模式识别可缩减存储大小,但由此带来的饱和问题严重影响系统正常工作,为解决此问题,本文在分析现有系统的基础上给出了基于一系列逻辑操作的识别技术.该技术的实质是用一形式化的方法增加输入模式间的线性无关性.通过论证与实例验证,该方法是有效而实用的. 相似文献
154.
We have studied antimony and selenium atomization processes including a chemical matrix modifier (palladium-containing activated
carbon) during their determination by electrothermal atomic absorption spectrometry. We have developed and fine-tuned an experimental
setup for determining the kinetic characteristics (activation energy and frequency factor) for element atomization processes
from measurements in the initial section of the analytical signal. We provide a rationale for the most likely mechanism for
the interactions that occur. The results of the kinetic studies of the atomization processes showed that the modifier we developed
was highly effective, as a result of formation of a thermally stable condensed system C-Pd-A (where A is the analyte).
__________
Translated from Zhurnal Prikladnoi Spektroskopii, Vol. 73, No. 4, pp. 530–534, July–August, 2006. 相似文献
155.
讨论了刚性常微分方程组(1)的解析解和数值解,给出了解的一般形式和应用该算法的数值例子. 相似文献
156.
157.
由于储存环中各种元件误差的存在, 机器的实际运行模式与设计模式有一定的偏差. 目前广泛开展的响应矩阵方法研究, 可以分析出磁铁元件以及束流位置测量元件的误差, 使束流基本参数得到校正. 介绍了用响应矩阵分析方法, 在BEPC储存环上进行的局部轨道校正的实验研究, 以及BEPC储存环束流参数校正的模拟研究. 相似文献
158.
对称正交反对称矩阵反问题解存在的条件 总被引:25,自引:1,他引:24
戴华 《高等学校计算数学学报》2002,24(2):169-178
矩阵反问题和矩阵特征值反问题在科学和工程技术中具有广泛的应用,有关它们的研究已取得了许多进展[1,2].[3]和[4]分别研究了反对称矩阵反问题和双反对称矩阵特征值反问题等.本文研究一类更广泛的对称正交反对称矩阵反问题.用Rn×m(Cn×m)表示n×m实(复)矩阵的全体,ASRn×n表示n阶反对称矩阵的全体,ABSRn×n表示n阶双反对称矩阵的全体,ORn×n表示n阶正交矩阵的全体.A+表示矩阵A的Moore-Penrose广义逆.In表示n阶单位矩阵.ei表示n阶单位矩阵的第i列,Sn=[en,en-1, 相似文献
159.
射频MEMS压控电容器 总被引:1,自引:0,他引:1
研究了射频 MEMS压控电容器的设计和制造工艺。压控电容器的制作采用了 MEMS制造技术 ,其主要结构为硅衬底上制作金属传输线电极和介质层 ,然后制作金属膜桥作为电容器的另一个电极。通过改变加在金属膜桥与传输线间的电压达到改变电容值的目的。这种压控电容器可以工作于射频和微波波段 ,具有很高的Q值。测试结果如下 :在 1 GHz、0 V时 Q值达到 3 0 0 ,0偏压电容值为 0 .2 1 p F,当加上驱动电压后 Cmax/ Cmin的变比约为 4∶ 1 相似文献
160.
评述了二极管泵浦内腔倍频激光技术的发展现状,对解决中小功率下‘绿光问题’的理论及实验方案进行了比较分析,对高功率内腔倍频系统亦进行了初步探讨。 相似文献