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991.
992.
研究施加轴向压缩力于悬臂梁压电双晶片端部以增大端部输出位移和力的问题,对其进行了有限元分析,并推导了弹性力学解析解及模态方程,得到了符合程度较好的结果。研究结果表明,在120V电压及5.5N轴向力作用下,端部阻塞力达0.25N,输出位移较原来增大3倍以上(达5mm),而一阶特征频率随轴向力增大而加速减小。当轴向力达到一阶临界屈曲时,一阶特征频率趋于0,但当轴向力取一阶屈曲力的70%时,其1阶固有频率仍有45Hz,相较于普通伺服舵机有较大的优势,可有效提高微小型飞行器的操稳性。 相似文献
993.
薄膜体声波谐振器(FBAR)的谐振频率会受外界环境温度的影响而产生漂移,对于FBAR滤波器而言,这种温度-频率漂移特性会导致其中心频率、插入损耗、带内纹波等性能发生变化,降低其在电学应用中的可靠性。应用ANSYS有限元分析软件,对一个典型Mo-AlN-Mo结构的FBAR进行温度-频率漂移特性的仿真,在-50+150℃温度范围内得到其温度频率系数为-33.6×10-6/℃。通过在FBAR结构中添加一层正温度系数的补偿层,分析了补偿层厚度对FBAR温度-频率漂移特性、谐振频率和机电耦合特性的影响。设计的温度补偿FBAR其温度频率系数为0.872×10-6/℃,比未添加补偿层时有很大改善。 相似文献
994.
995.
非晶碳化硅薄膜的结构及其光学特性研究 总被引:1,自引:0,他引:1
采用等离子体增强化学气相沉积系统制备非晶碳化硅薄膜,通过控制反应气体中甲烷和硅烷的流量比R来调节薄膜中的碳/硅比,获得具有不同碳/硅比的薄膜结构.采用Raman、XPS以及FT-IR等技术手段对样品的结构进行表征.通过对样品吸收谱的测量,对样品的光学特性进行了研究.研究结果表明,薄膜中C-H键以及Si-C键含量的增加引起薄膜的光学带隙展宽,在R=10时薄膜的光学带隙达到2.4 eV. 相似文献
996.
997.
The motion of domain walls is a crucial factor in piezoelectric properties and is usually related to the irreversible and hysteretic behaviors. Herein, we report on the investigation of inverse and transverse piezoelectric coefficients of capacitor-based and microcantilever-based Pb(Zr0.52Ti0.48)O3 films with a change in the DC bias and the AC applied voltage. A large inverse piezoelectric strain coefficient of about 350 p.m./V, and a low strain hysteresis of about 7.1%, are achieved in the film capacitors under a low applied voltage of 2 V (20 kV/cm) which can benefit the actuators for motion control in high-precision systems. The field-dependences of the transverse piezoelectric coefficients, obtained from four-point bending and microcantilever displacement, are in good agreement with each other. The results also reveal that the irreversible domain-wall motion is attributed to the nonlinearity in the field-dependent piezoelectric strain and cantilever displacement. 相似文献
998.
采用化学方法腐蚀部分 c-面蓝宝石衬底,在腐蚀区域形成一定的图案,利用 LP-MOCVD 在此经过表面处理的蓝宝石衬底上外延生长 GaN 薄膜.采用高分辨率双晶X射线衍射(DCXRD)、光致发光光谱(PL)、透射光谱分析GaN薄膜的晶体质量和光学质量.分析结果表明,CaN 薄膜透射谱反映出的 CaN 质量与 X射线双晶衍射测量的结果一致,即透射率越大,半高宽越小,结晶质量越好;对蓝宝石衬底进行前处理可以大大改善GaN薄膜的晶体质量和光学质量,其(0002)面及(1012)面XRD半高宽(FWHM)分别降低到 208.80arcsec 及 320.76arcsec,而且其光致发光谱中的黄光带几乎可以忽略. 相似文献
999.
本文在微晶硅材料性能研究的基础上制备了微晶硅薄膜晶体管(TFT).发现微晶硅的柱状生长模式会导致其结构和电学性能的不均匀性.由于材料的柱状生长模式使得其晶化百分比、晶粒尺寸和暗电导受到薄膜厚度的调制.平行于衬底和垂直于衬底方向的电导率随着材料沉积条件的变化呈现出不同的变化规律,后者始终保持在 10-6 s/an~10-5 s/cm 量级.确定了用于 TFT 有源层的微晶硅薄膜沉积条件中的硅烷浓度应高于 2%,晶化百分比应为40%~50%左右.制备的微晶硅 TFT 器件具有良好的稳定性,开态电流的衰退和阈值电压的漂移分别为 25%和1 Ⅴ,进而还发现了一种新颖的自恢复现象. 相似文献
1000.
一种用于碳纳米管FED的荧光粉SiO2包膜处理 总被引:1,自引:0,他引:1
针对用于 FED 的荧光粉应该是适合 FED 特殊工作机理的专用阴极射线激发发光材料,提出一种以绿色荧光粉ZnS:Cu,Al 为基质,采用溶胶一凝胶法在其表面包覆一层 SiO<2 薄膜作为 FED 用荧光粉.通过对包膜过程中的工艺条件,主要是 TEOS 浓度、溶液的 pH 值和回流温度的改变,在可拆卸式 FED 中研究生成 SiO2 薄膜包复的荧光粉对FED发光性能的影响,从而得到可获得高发光性能 FED 的包复 SiO2薄膜的最佳工艺条件. 相似文献