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81.
82.
陈伟  石磊 《半导体学报》1996,17(5):376-379
本采用高频溅射方法,在抛光Si(111)衬底上制备出碳化硅薄膜,了薄膜的高温真空退火勺,实验表明,退火后的薄膜具有较淡理想的结晶取向和发光性质。  相似文献   
83.
84.
本文通过对光致亚稳缺陷产生动力学的唯象分析,及与光致光电导变化的实验结果的比较,讨论对光致亚稳缺陷的产生起主导作用的光生载流子的复合机构.  相似文献   
85.
锥形阀压电薄膜泵的初步研究   总被引:3,自引:2,他引:1  
程光明  铃木胜义 《压电与声光》1998,20(5):300-303,346
提出一种适应高频工作状态的压电薄膜泵结构,实步分析了所采用的锥形阀的工作原理与作用,设计了试验泵结构,加工了样机,通过试验证明了锥形阀的有效性,为进一步的研究打下了基础。  相似文献   
86.
本文根据光传输理论导出介导消光系数,折射率与介质电磁参数,光波频率,电偶极子浓度及迁移率等的关系,分析了光激发与增加气敏介质的氧吸附的规律,结合实验说明气敏薄膜的光学变化机制。  相似文献   
87.
本文报道用真空热蒸发法淀积的非晶态硒化镉薄膜作光敏介质制备超快光电导探测器。用对撞脉冲锁模Nd:YAG激光器产生的超短光脉冲序列对探测器的响应时间进行检测,结果表明a-CdSe薄膜对皮秒(10-12秒)级的超短光脉冲作用具有良好的瞬态响应光电特性,探讨a-CdSe薄膜快速弛豫过程的内在机理。  相似文献   
88.
电子回旋共振(ECR)等离子体法广泛用于SiO_2、Si_3N_4膜等的低温CVD技术,以及MOS器件的微细栅极刻蚀技术。在ECR等离子体法中,由于低气压下生成高离子化的等离子体,故以低能量、大的离子电流照射而能持续进行表面反应,然而以往的技术无法实现高质量的薄膜工艺。由于用固体靶溅射,靶材供给容易,进而把上述技术作为基础,开发了ECR溅射技术。  相似文献   
89.
90.
激光消融与光化学蒸气沉积1.引言最近激光消融和光化学蒸气沉积作为生产各种薄膜的可能沉积法而受到重视。在激光消融中,强脉冲激光束将固体靶表面气化,并在真空室内沉积到基片上成为薄膜。激光消融的原始概念,在1960年激光问世不久就想到了[‘]。此后进行了一...  相似文献   
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