Cu掺杂的ZnO纳米号角的制备、表征和生长机制

本文采用简单的物理气相沉积法制备了形貌新颖、产量较高的Cu掺杂ZnO单晶纳米号角.运用X射线衍射仪(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)、高分辨电子显微镜(HRTEM)和X射线能谱仪(EDS)对纳米号角进行了结构和成分表征,建立了结构模型.号角的六个对称的倒梯形侧壁围成了倒六棱雏的空腔,生长方向是[0001],棱锥面是(01-10)晶面.提出了纳米号角可能的生长机制,指出Cu可能是纳米号角生长的催化剂.     

具有极低导通电阻的20V N通道功率MOSFET

SiR440DP系列功率MOSFET在20V额定电压时具有低导通电阻及导通电阻与栅极电荷乘积,在4．5V栅极驱动时最大导通电阻为2．0mΩ,在10V栅极驱动时最大导通电阻为1．55mΩ。导通电阻与栅极电荷乘积是DC／DC转换器应用中MOSFET的关键优值（FOM）,在4．5V时为87。SiR440DP将在同步降压转换器以及二级同步整流及OR—ing应用中用作低端MOSFET。其低传导及切换损耗将确保稳压器模块（VRM）、服务器及使用负载点（POL）功率转换的诸多系统实现功效更高且更节省空间的设计。     

钒受主能级在n型4H-SiC中的深能级瞬态傅里叶谱和光致发光

借助深能级瞬态傅里叶谱研究了钒离子注入在SiC中引入的深能级陷阱.掺人的钒在4H-SiC中形成两个深受主能级,分别位于导带下0.81和1.02eVt处,其电子俘获截面分别为7.0 × 10-16和6.0×10-16cm2.对钒离子注入4H-SiC样品进行低温光致发光测量,同样发现两个电子陷阱,分别位于导带下0.80和1.6eV处.结果表明,在n型4H-SiC掺入杂质钒可以同时形成两个深的钒受主能级,分别位于导带下0.8±0.01和1.1±0.08eV处.     

GaN转移电子器件的性能与基本设计

基于GaN转移电子器件最基本的工作模式--畴渡越时间模式,计算了GaN转移电子器件的理想最高振荡频率,得到该类型微波转移电子器件的最高振荡频率可达4.7THz,接近GaAs转移电子器件最高振荡频率(0.6THz)的8倍.从理论上计算出GaN转移电子器件的理想最大输出功率,结果表明GaN转移电子器件在功率输出方面具有很大优势.最后还讨论了 GaN转移电子器件在畴渡越时间模式下,能够产生稳定Gunn振荡的两个基本条件,即电子浓度N与器件有源区长度L乘积要大于该器件的设计标准((NL)0=6.3×1012cm2)及有源区的掺杂浓度N要小于临界掺杂浓度Norit(3.2×1017cm-3).本工作揭示出GaN转移电子器件在高频率和大功率输出方面都具有重要优势,作为大功率THz微波信号源将具有广阔的应用前景.     

基于AM-OLED基板的拓展多晶硅薄膜功能层的研究

在有源寻址有机发光二极管(active matrix organic light emitting diode,AM-OLED)显示基板中,将电学功能层--薄膜晶体管(thin film transistor,TFT)有源层材料p型掺杂金属诱导晶化(metal induced crystallized,MIC)多品硅(p+-MIC poly-Si)薄膜的版图适当延伸,来充当OLED的阳极,由于它具有低方块电阻、高功函数的电学特性和半反半透、低吸收率的光学特性.与OLED的金属铝阴极形成了微腔器件,成功地形成了显示基板上的多晶硅薄膜的光学功能层.对这一功能层的厚度进行了优化,比较了不同厚度下TFT器件的电学特性和OLED的光学特性.当其厚度为40nm时为最佳厚度,此时,TFT器件场迁移率、阈值电压、亚阈值幅摆、电流开关比和栅压诱导漏极漏电等性能为最佳,且红光微腔式OLED(microcavity-OLED,MOLED)的出光强度增大,光谱窄化,电流效率与功率效率均有所提高.这不仅使器件的性能有所提高,而且大大地简化了AM-OLED基板的制备流程.     

Analytical modeling of subthreshold current and subthreshold swing of Gaussiandoped strained-Si-on-insulator MOSFETs

This paper presents the analytical modeling of subthreshold current and subthreshold swing of short- channel fully-depleted （FD） strained-Si-on-insulator （SSOI） MOSFETs having vertical Gaussian-like doping pro- file in the channel. The subthreshold current and subthreshold swing have been derived using the parabolic approx- imation method. In addition to the effect of strain on silicon layer, various other device parameters such as channel length （L）, gate-oxide thickness （tox）, strained-Si channel thickness （ts_Si）, peak doping concentration （Np）, project range （Rp） and straggle （op） of the Gaussian profile have been considered while predicting the device characteris- tics. The present work may help to overcome the degradation in subthreshold characteristics with strain engineering. These subthreshold current and swing models provide valuable information for strained-Si MOSFET design. Ac- curacy of the proposed models is verified using the commercially available ATLASTM, a two-dimensional （2D） device simulator from SILVACO.     

无线调频广播自动播出系统“N+1”主控单元的构建实践

由于原调频广播“N+1”自动播出系统出现异常但无备件可更换,技术人员根据原系统运行原理,重建软硬件平台,成功更新了该系统的播出主控单元。对此,介绍无线调频广播“N+1”播出系统的工作原理,描述如何通过Agilent VEE Pro软件来解决更新过程中出现的硬件识别等问题,为设备的维护更新提供参考。     

高性能ZnSnO∶Li/ZnSnO双有源层TFT电学性能的研究

双有源层以迁移率高、开关比高、大面积均匀性好等优点成为近年研究热点。采用射频磁控溅射方法,制备了ZnSnO∶Li/ZnSnO薄膜晶体管(TFT),对其电学特性进行了测试,并研究了器件迁移率提高的原因及其内在的微观机制。研究发现,ZTO∶Li/ZTO TFT表现出了良好的电学特性,其场效应迁移为率为13.98 cm²/(V·s),亚阈值摆幅为0.84 V/dec,开关比为1.13×10⁹。通过XPS对其薄膜进行分析发现,Li的引入导致薄膜中氧和金属结合键的浓度增加,氧空位浓度减少,从而使得TFT的迁移率增大,开关比增大,亚阈值摆幅减小。     

光腔衰荡法测量硅片掺杂特性的仿真和实验研究

光腔衰荡法对腔内介质吸收有着极高的测量灵敏度,可实现腔损耗的精确测量。本文基于自由载流子吸收理论和谐振腔理论,建立了半导体材料特性测量的光腔衰荡理论模型,推导了腔衰荡信号与半导体材料特性参数和光学谐振腔结构参数间的函数关系,并进行了仿真分析和实验验证。仿真结果表明：光腔衰荡法可以实现半导体材料特性的精确测量,如掺杂浓度和电阻率。同时,基于该技术对半导体单晶硅片掺杂浓度和电阻率进行了实验测量,结果分别为(2.65±0.38)×10¹⁶ cm^-3和(0.61±0.07)Ω·cm,说明该方法在半导体材料特性测量中具有很好的应用潜力。     

锂离子电池正极材料LiMnO2的最新研究进展

层状结构的LiMnO2正极材料具有能量密度高、安全性能好、价格低廉和无毒性等优点,是下一代锂离子电池正极材料中强有力的竞争者。介绍了近年来国内外LiMnO2正极材料的的研究现状与进展,并对其结构特性、制备方法、体相掺杂和表面包覆进行了评述,提出了目前LiMnO2正极材料研究中尚存在的一些问题,并对其未来的发展前景进行了展望。