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11.
Gd2O3:Eu纳米晶的制备及其光谱性质研究   总被引:5,自引:2,他引:3  
以EDTA为络合剂,聚乙二醇为有机分散剂,用络合溶胶—凝胶法制备出Gd2O3:Eu纳米晶。用XRD,SEM,X—射线能量色散谱仪(EDS),荧光分光光度计等分析手段对Gd2O3:Eu的纳米晶结构、形貌、组分的均匀性以及发光特性进行了研究。结果表明:EDTA—M凝胶仅在800℃焙烧即可得到颗粒细小、组分均匀、纯立方相的Gd2O3:Eu纳米晶,颗粒基本呈球形,粒径为30nm左右。对样品的激发光谱、发射光谱测定表明:Gd2O3:Eu纳米晶在269nm光激发下发红光,发射光谱谱峰在611nm,与体材料基本相同;激发光谱中电荷迁移带(CTB)明显红移,从体材料的255nm移至269nm,移动了约14nm;猝灭浓度从体材料的6%提高到8%。  相似文献   
12.
纳米凝胶粒径和形貌的控制一直是纳米凝胶领域的研究热点。本研究利用光聚合的方法,无需其他有机添加剂,合成出5~100nm范围的聚酰胺凝胶。其粒径分布范围可控制在10nm以内。通过SEM对纳米凝胶形貌进行了表征。从结果看,可在纳米尺度上对凝胶的形状进行控制,并合成出树枝状、球状、核壳结构的纳米凝胶。这些结果未在文献中报道过。  相似文献   
13.
本文利用溶胶.凝胶法制备了CaO-P2O5-SiO,系统生物活性玻璃,并以其为原料制备了用于骨修复及骨组织工程支架的块状生物活性材料。利用体外实验方法(invitro)结合x射线衍射(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)和傅立叶变换红外光谱分析(FTIR)技术对不同烧结工艺制备的材料结构、晶相和生物活性的影响进行了分析研究。研究表明,经800℃和1100℃烧结5min的两种材料均有硅磷酸钙Ca5(PO4)2SjO4微晶相析出。烧结温度越高,析出微晶相的体积比例越大,材料的生物活性则越低。在模拟生理溶液中碳酸羟基磷灰石(HCA)只在烧结体中的玻璃颗粒表面形成,而在其硅磷酸钙Ca5(PO4)2SiO4微晶相表面未发现HCA形成。  相似文献   
14.
锆酸铅薄膜的生长特性与表面化学态   总被引:1,自引:0,他引:1  
以醋酸铅和异丙醇锆为原料,乙二醇甲醚为溶剂。通过溶胶-凝胶法和快速退火工艺在Pt(111)/Ti/SiO2/Si(100)基片成功地制备出不开裂的钙钛矿PbZrO3薄膜。用XRD和原子力显微镜测量了薄膜随退火温度变化的结构和表面形貌特征,用XPS测试了650℃退火PbZrO3薄膜的表面化学态。  相似文献   
15.
介绍1种独特的超大容量电容器,主要用于大电流脉冲放电和需要短期电源维持时间的场合。给出主要技术参数及其测试方法,举例说明其具体应用,并给出碳凝胶电容器的系统设计方法。  相似文献   
16.
采用溶胶 凝胶法制备了Zn2SiO4∶Mn薄膜并结合毛细管微模板技术实现了薄膜的图案化,利用X射线衍射(XRD),原子力显微镜,光学显微镜,发光光谱等手段对Zn2SiO4∶Mn的结晶过程、发光性质进行了研究。XRD结果表明,溶胶 凝胶法合成的样品在800℃时已开始结晶,在1000℃时可得到纯相的Zn2SiO4∶Mn,这比传统的固相法的烧结温度低150℃。Zn2SiO4∶Mn薄膜的激发光谱在220nm和280nm之间有一个强的吸收峰,峰值位于248nm,发射光谱的最大值位于522nm,为绿光发射。从原子力显微镜照片可知组成薄膜的粒子比较均匀,其平均直径为220nm。我们获得了四种图案化宽度,分别是5,10,20,50μm。光学显微镜的结果表明,图案薄膜烧结后相对于烧结前有10%~20%的收缩。  相似文献   
17.
氧化硅气凝胶的超临界制备及纳米结构   总被引:8,自引:0,他引:8  
沈军  王珏 《物理》1995,24(5):299-303
简要介绍了用溶胶-凝胶法制备新型功能材料氧化硅气凝胶的方法,着重阐述了氧化硅气凝胶的各种干燥过程对其纳米结构的影响,说明了超临界干燥工艺在保持气凝胶的纳米多孔结构方面的突出重要地位,同时,用比表面积测量,扫描电镜,小角X射线菜射等研究了这种轻质纳米多孔非晶固态材料的结构特性,介绍了这种材料的应用前景。  相似文献   
18.
溶胶-凝胶过程是制备包括光学涂膜在嵛大类氧化物制品的通用手段。为激光系统涂膜所进行的研究已持续近3年,早期的工作由于破坏阈值低和价格昂贵而受阻,然而最近的一些改善已导致特别成功地制出四分之一波长烧结二氧化硅减反膜,该膜已用于高功率激光聚变系统,其激光破坏阈值高于其他方法制备的膜2 ̄3倍,前不久研究制备的1/4波长高低折射率交替多层高反膜虽没有减反膜那么好,但与和其竞争的材料相比,仍有其优越必,此法  相似文献   
19.
溶胶—凝胶法制备SiO2基片Er^3+:Al2O3光学薄膜   总被引:1,自引:1,他引:0  
用溶胶—凝胶法在SiO2基片上提拉制备了掺Er^3 :Al2O3光学薄膜。采用扫描电子显微镜、原子力显微镜、差热—热重分析仪、X射线衍射仪研究了掺Er^3 :Al2O3光学薄膜的肜貌和结构特性。在900℃烧结后,SiO2基片上提拉15次形成厚度8μm掺摩尔比0.01Er^3 的面心立方结构γ-Al2O3薄膜具有明显(110)择优取向,掺摩尔比0.01Er^3 对γ—Al2O3的品体结构和结晶生长过程木产生显著影响。薄膜具有均匀多孔结构,平均粒径为30~100nm,平均孔径为50~100nm,表面起伏度为10~20nm。掺摩尔比0.01Er^3 :rAl2O3薄膜,获得了中心波长为1.534μm(半峰全宽为36nm)的光敛发光谱。  相似文献   
20.
介绍了用溶胶-凝胶法(sol-gel)在Pt/Ti/SiO2/Si衬底和石英衬底上制备Ba(Zr0.3Ti0.7)O3铁电薄膜的基本原理、工艺过程及工艺特点;Sol-gel制备的Ba(Zr0.3Ti0.7)O3铁电薄膜表面平整、厚度均匀.  相似文献   
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