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991.
电阻涂料的施工应用技术   总被引:1,自引:0,他引:1  
电阻涂料的施工应用技术是电阻器生产厂家经常遇到的问题。介绍电阻涂料的涂装工艺、涂装环境、质量检查、涂膜弊病的防止、涂料组分对施工性的影响和防火安全技术 ,为国产电阻器涂料的应用提供方便。  相似文献   
992.
本文重点讨论异型元件的组装工艺,并对异型元件的自动化组装设备,包括技术等方面作了较全面的介绍。  相似文献   
993.
林燕春 《通信世界》2001,(25):64-64
当前、备种机构都在积极推动技术进步和在电子商务方面创立基业,它们面临的最大挑战是维护个极端安全的网络系统,从而可以按照部门、分部、或用户等类别分配各类资源,而且可以接纳日益增多的移动用户。Enterasys业已开发出一种称为UPN的技术,即User Personalized Network(用户个人化网络)。它把一个机构的安全性政策并入网络硬件以便使用户与他们需要的丁具彼此匹配致。  相似文献   
994.
沈新海 《电子工艺技术》2001,22(2):69-70,76
介绍了由片胶印刷涂覆工艺的特点,提供了典型的工艺参数。  相似文献   
995.
SMT生产线的优化   总被引:4,自引:0,他引:4  
SMT生产线要达到最大的产量,必须考虑两个问题:生产线平衡和生产线的效率。生产线的平衡可以通过负荷的优化分配来实现。建立优化程序只是获得了静态的平衡,而生产线的效率要求获得动态平衡。  相似文献   
996.
正如2007版国际半导体技术蓝图(ITRS)所提到的,自动测试设备(ATE)所面临的最紧迫的技术挑战便是“促进良率提高的测试”,特别是对于90、65、45nm和未来工艺节点上的晶圆工艺和器件良率学习。  相似文献   
997.
Renesas于前不久举行的“瑞萨论坛2008”活动中宣布新推出RX CPU,这是Renesas最新的MCU内核——Rx系列产品首次向中国公众进行发布。 RX是Renesas eXtreme(瑞萨终结者)的简称,Renesas希望系统整机厂商能籍此实现性能卓越、使用方便的产品。RX采用CISC架构,通过开发新CPU来解决各种问题,满足市场需求,与现有产品相比,它采用90nm工艺实现工作频率、性能、高代码效率、低功耗的提高。  相似文献   
998.
X射线检测技术和工艺改进系统领先者VJ Electronix日前宣布,其Summit 2200高级工艺改进站已经荣获工艺改进/维修设备类2008年EMAsia创新奖。  相似文献   
999.
业界动态     
<正> 吉时利联合 Stratosphere Solutions 研发65nm以下先进工艺特征分析技术美国吉时利(KeithIey)仪器公司日前宣布将与 Stratosphere Solu-tions 公司(Sunnyvale,CA)合作采用阵列 TEG(测试元件组)技术展开先进工艺研发和监测工作。由于 IC 制造商不断追求制造更小尺寸器件,因此65nm 以下水平上的  相似文献   
1000.
《电子世界》2008,(3):4
美国吉时利(Keithley)仪器公司日前宣布将与Stratosphere Solutions公司(Sunnyvale,CA)合作采用阵列TEG(测试元件组)技术展开先进工艺研发和监测工作。  相似文献   
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