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991.
Cu-Zr-Al非晶合金成分设计与激光熔覆 总被引:1,自引:0,他引:1
在采用团簇线判据优化设计Cu-Zr-Al非晶合金成分的基础上,采用激光熔覆技术在AZ91HP镁合金表面制备了Cu-Zr-Al合金涂层。研究结果表明,合金涂层是由非晶、Cu8Zr3和Cu10Zr7相所组成。通过X射线峰位分离计算表明,随着扫描速度增加,由于熔覆区冷却速率增大,稀释度降低,致使合金涂层中非晶相的相对含量上升,其最高质量分数可达61%。同时,由于金属间化合物的增强作用随着扫描速度的增加而减弱,致使合金涂层的硬度、弹性模量、耐磨性降低,而耐蚀性增高。 相似文献
992.
以Ti, 陶瓷粉末和镍基自熔合金粉末按一定比例配置的混合粉末作为预置合金涂层,采用CO2气体激光进行多层熔覆,在Ti600合金表面制备出摩擦磨损性能沿厚度方向呈梯度变化的钛基功能梯度材料(FGM)。利用扫描电镜(SEM)及X射线能谱仪(EDX)分析了材料的微观组织和成份。结果表明,采用合适的合金粉末成份和激光熔覆工艺参数,可以获得原位自生TiC增强颗粒弥散分布且其含量呈梯度变化的钛基功能梯度材料。熔覆层组织均匀细密,各熔覆层之间无明显界限,且与基体呈良好冶金结合。 相似文献
993.
激光微细熔覆电子浆料技术是一种新型的柔性布线技术,采用激光精密加工系统对电子浆料进行处理以制备导线,具有柔性化程度高、电路图形设计、修改简捷、适合小批量生产等优点。特别是可以制备最小线宽为20 μm左右的导体,突破了传统丝网印刷工艺制备导线宽度的极限。利用激光微细熔覆工艺在单晶硅基板上制备出了银导线。所制备导线的最小宽度在30 μm左右,其电阻率和块状银在同一个数量级,能够满足应用要求。利用悬挂法测定其与硅基板的结合强度在兆帕数量级,与传统丝网印刷工艺相当。相关的工艺实验还表明,导体线宽随激光功率密度的增加而增加,随激光扫描速度的增加而减小;对于特定厚度的浆料预置层,激光扫描参数存在一个最佳的范围。激光扫描之后的高温热处理工艺有利于导线导电性能及其与硅基板的结合强度的进一步提高。 相似文献
994.
995.
K418合金激光熔覆Ni-Cr-Ti-Al涂层的组织研究 总被引:1,自引:0,他引:1
采用机械球磨法获得混合均匀的Ni-Cr-Ti-Al熔覆材料;并利用CO2激光器在K418镍基高温合金表面制备了不同化学成分的Ni-Cr-Ti-Al涂层;采用光学显微镜(OM)、扫描电子显微镜(SEM)及X射线衍射仪(XRD)等手段探讨了不同成分涂层与基体合金的结合情况。分析比较了Ni,Ti和Al含量对熔覆涂层的组织特征的影响。结果表明,在熔覆过程中,Ti,Al合金元素与Ni相互作用将形成Ni2TiAl,Ni3(Al,Ti),Ni3Ti和NiAl金属间化合物相;Ni-Cr-Ti-Al熔覆涂层以Ni3(Al,Ti)相形成的枝晶组织为主,Ni2TiAl,Ni3Ti及NiAl相分布在Ni3(Al,Ti)枝晶间;其中,Ni66.11Cr7.35Ti14.39Al12.15熔覆涂层形成了TiAl合金与K418合金之间成分和性能的良好过渡,为实现TiAl合金/K418合金异种合金间的扩散连接提供了良好的组织基础。 相似文献
996.
997.
WANG-Jing JIANG Wen-long LIU Chun-ling WANG-Jin LIU Shi-yong 《光电子快报》2007,3(5):353-355
We have designed a new structure blue emission device with doped Alq3 of 3% in hole transmission layers of NPB. The CIE coordination of the devices is (0.17,0.19). The maximum electroluminescence efficiency is 4.1 cd/A at 11 V, the brightness is 118.8 cd/m^2 at 7 V, and the maximum brightness is 10770 cd/m^2 at 13 V. 相似文献
998.
999.
一.印制电路板用覆铜箔层压板(简称覆铜箔板、覆铜板)简介
1、覆铜箔板概述
覆铜箔板的生产制作,是将增强材料浸以树脂,一面或两面覆铜箔,经热压而成的一种板状材料,增强材料和树脂构成绝缘基体,铜箔是形成印制电路板导电线路或平面印制电路元件的材料。其中绝缘基体从0.1mm到3mm或更厚的,一般为1.6mm,而铜箔一般为0.018-0.035mm,也有0.012mm或更薄的。[第一段] 相似文献
1000.