移动IP的关键技术

本详细描述了移动IP的工作过程，并介绍了移动IP的隧道技术和IPSec，最后对移动IP技术中存在几个热点问题进行了讨论。     

带间耦合多有源区大功率980nm半导体激光器

提出利用隧道结实现带间耦合再生多有源区大光腔大功率的半导体激光器。该激光器能够在小的电流下输出大的光功率；同时可以使出光端面成倍增加，减少了端面光密度，克服端面灾变性毁坏（COD）。由于耦合形成大光腔，提高了光输出的质量。制备4个有源区带间耦合大功率980nm半导体激光器。在2A注入电流下输出功率5W，阈值电流172mA，斜率效率3.24w/a，阈值电流密度273A/cm^2。     

半导体异质结界面能带排列的实验研究

本文综述半导体异质结界面能带排列的实验研究情况。介绍了九种目前已成功用于这方面研究的实验方法,这包括C—V测试、光致发光谱测量和光电子能谱测量,并讨论了Al_xGa_(-x)As/GaAs、InAs/GaSb、Ge/Si和Ge/GaAs等几种典型系统的一些研究结果。     

动态VPN解决方案

在现有的IP VPN组网方案中，一般采用GRE隧道、L211P、IPSec等方式。但是这些方案都存在一个弊端，就是必须是按照事先的配置进行组网，并且要完成一个全联通的网络时(如图1所示)，结构和配置就变得复杂。由于要建立一对一的连接，所以当有N个网络设备进行互联     

High-k材料MOS器件的PISCES-II模拟

High-k材料是指介电常数k高于SiO2的材料。使用high-k材料做栅绝缘层,是减小MOS器件栅绝缘层直接隧道击穿(DirectTunneling,DT)电流的有效方法。文章在二维器件模拟软件PISCES-II中添加了模拟以high-k材料为栅绝缘层的MOS器件模型,并对SiO2和high-k材料的MOS晶体管器件特性进行了模拟比较,成功地验证了所加high-k材料MOS器件模型的正确性。改进后的PISCES-II程序,可以方便地对以各种high-k材料为栅绝缘层的器件性能进行模拟。     

6to4与ISATAP技术相结合的IPv6网络实现

在IPv4向IPv6过渡期间,多种过渡技术可以互相支持、互相组合使用,以达到互利互助。简要介绍了其中2种隧道技术:6to4技术和ISATAP技术,提出了1种基于两者结合的新型实验网络的实现方案。具体讨论了在Linux下如何组建这种新型实验网络平台,详细阐明了如何配置IPv6主机以及双栈路由器,为IPv4过渡到IPv6提供1个可行的方案。     

超短强激光脉冲在等离子体隧道中传输的理论与数值模拟研究

研究了超短强激光脉冲在非扰动抛物型部分电离的预等离子体隧道中的传输特性.从Maxwell方程出发得到了两个包含衍射、三阶强度非线性、等离子体散焦、等离子体隧道聚焦以及相对论自聚焦等效应在内的激光场演化方程，即折射率方程和哈密顿-雅可比方程.在此基础 上得到了激光在等离子体隧道中传输的包络方程以及光斑半径与传输距离、隧道宽度等初始 参量的关系. 关键词： 等离子体隧道聚焦 相对论自聚焦 势阱     

小面积PN结的光电特性

用Ｐ型硅材料制作了小面积ＮＰ结光电二极管，测试了二极管的光电特性．若按杂质扩散区的受光面积计算，在同样的光照下，小面积光电二极管的光电流密度是常规面积光电二极管光电流密度的１００倍以上．究其原因，在于杂质扩散区周边一个少数载流于扩散长度范围内，光生载流子对光电流的贡献．因此，当杂质扩散区为一个点时，光敏感区的面积趋于恒定值πＬ，有效光吸收区体积趋于（ＺπＬ）／３．     

MIM隧道结的电子输运特性和发光研究

论述作为一种新型发光器件的ＭＩＭ隧道结的发光机理，报告了该器件的发光现象和Ｉ－Ｖ特性曲线中负阻现象的实验观察。数据显示，结中表面等离极化激元（ＳＰＰ）与粗糙度的耦合是引起光发射的主要方面，ＳＰＰ对隧穿电子的阻塞作用导致了电子输运中的负阻现象。此外，还观察到了直接辐射的紫外峰。