首页 | 本学科首页   官方微博 | 高级检索  
文章检索
  按 检索   检索词:      
出版年份:   被引次数:   他引次数: 提示:输入*表示无穷大
  收费全文   419篇
  免费   89篇
  国内免费   217篇
化学   307篇
晶体学   15篇
综合类   1篇
物理学   157篇
无线电   245篇
  2024年   6篇
  2023年   6篇
  2022年   11篇
  2021年   14篇
  2020年   13篇
  2019年   11篇
  2018年   7篇
  2017年   9篇
  2016年   16篇
  2015年   17篇
  2014年   28篇
  2013年   18篇
  2012年   19篇
  2011年   24篇
  2010年   28篇
  2009年   27篇
  2008年   29篇
  2007年   34篇
  2006年   33篇
  2005年   21篇
  2004年   35篇
  2003年   31篇
  2002年   23篇
  2001年   13篇
  2000年   23篇
  1999年   32篇
  1998年   28篇
  1997年   8篇
  1996年   19篇
  1995年   40篇
  1994年   19篇
  1993年   9篇
  1992年   15篇
  1991年   15篇
  1990年   16篇
  1989年   15篇
  1988年   2篇
  1987年   2篇
  1986年   1篇
  1985年   2篇
  1984年   4篇
  1983年   1篇
  1981年   1篇
排序方式: 共有725条查询结果,搜索用时 15 毫秒
161.
P—350萃取色层分离测定定岩石中痕量镓和铟   总被引:1,自引:0,他引:1  
钱程 《分析试验室》1989,8(3):69-70
  相似文献   
162.
163.
MP—1溶出分析仪的联机卡尔曼滤波分辨重叠极谱波   总被引:2,自引:0,他引:2  
利用PC微机的并行打印口和MP-1溶出分析仪的绘图仪端,通过接口电路实现微机对MP-1仪的数据采集,在对读入微机的极谱信号进行预处理后,用联机卡尔曼滤波方法实现了In,Cd重叠极谱波的分辨,结果表明,当In,Cd两组相对浓度比为1:16~13:1时,在本联机系统上可满意地用卡尔曼滤波法实现双组分同时测定。  相似文献   
164.
近年来,研究各种杂质对碲镉汞单晶电物理性能的影响的兴趣日增。尤其在进行研究过程中已经表明,为了获得电导性,可适当地利用或镓这些Ⅲ族元素作为熔合杂质。这些杂质扩散相当快,能取代金属晶格中的汞或镉原子,起到施主中心的作用。本研究表明,在离子熔合和后继热处理相结合的一定条件下,也是呈现出受主特性。  相似文献   
165.
本文论述了在InP衬底上用InP、InGaAs和/或InAlAs构成的异质结双极晶体管的现状及展望。着重强调了超高电子速度的重要性。阐述了自对准制造技术,提出了适于微波功率应用的宽禁带集电区器件和适于数字应用的低开启电压Vbe器件。用这些器件构成的分频器可工作到17GHz。  相似文献   
166.
三乙基铟中杂质元素的ICP—AES测定   总被引:2,自引:0,他引:2  
研究了基体对15种杂质分析元素谱线的背景影响和光谱谱线干扰。采用基体匹配-电感耦合等离子体发射光谱法测定了三乙基中的15种杂质元素。样品分析方法检出限大部分低于1μg/g,相对标准偏差均小于2%。  相似文献   
167.
Self-organized InAs quantum wires (QWRs) were fabricated on the step edges of the GaAs (331)A surface by molecular beam epitaxy. The lateral size of InAs QWRs was saturated by the terrace width (i.e., 9Ohm) while the size along the step lines increased with the increasing thicknesses of the InAs layers, up to 1100nm. The height of InAs QWRs varied from 7.9nm to 13nm. The evolution of the morphology of InAs QWRs was attributed to the diffusion .andsotropy of In adatoms.  相似文献   
168.
InAs薄膜Hall器件的材料生长与特性研究   总被引:1,自引:0,他引:1  
本文在国内首次报道了利用InAs外延薄膜制作霍尔器件,通过分子束外延技术在GaAs衬底上生长的InAs薄膜具有较高的迁移率和较好的温度特性.用这种材料制作的霍尔器件在每千欧姆内阻条件下灵敏度与GaAs平面Hal器件相比提高了50%.  相似文献   
169.
应变超薄层结构的组分、厚度、应变状态的直接检测,对于器件应用具有重要的意义,本文中,利用MOCVD方法得到高质量的InGaAs/GaAs量子阱材料,采用双晶衍射方法的弱信号收集技术,结合运动学理论模拟,得出同时包含几个不同阱宽的InGaAs/GaAs量子阶结构的重要参数,其检测结果与光致发光(PL)、透射电子显微镜(TEM)等方法的测试结果基本一致,表明X射线双晶衍射方法是检测超薄层应变量子阱结构的一个有效方法.  相似文献   
170.
设为首页 | 免责声明 | 关于勤云 | 加入收藏

Copyright©北京勤云科技发展有限公司  京ICP备09084417号