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本文研究了鸟瞟呤(Gua)和次黄嘌呤(Hxa)铜络合物在悬汞电极(HMDE)上的吸附作用和电极反应机理,溶液中形成的1:1络合物有强烈吸附性,通过分子结构的比较,推断出Cu~(2+)与Gua和Hxa的咪唑环N(7)和外环氧O(6)原子结合形成封闭的五元环。嘌呤环的π-电子有使分子呈平面吸附的趋势,但是Gua络合物分子优先取“倾斜”定向;随着表面吸附浓度增加,Hxa络合物分子存在从“平面”向“垂直”的再定向作用。本文测定了单层吸附浓度、包含的电量和每个分子占据的面积。络合物吸附得到S形等温线,它与Frumkin吸附等温线接近。本文还列出有关吸附参数B、a、△G_A~O和θ~*的计算结果。 相似文献
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张安康 《电子产品可靠性与环境试验》1996,(1):15-22
本文叙述了VLSI中众多互连失效,分析了失效原因及其对器件性能的影响,介绍了检测接触电阻、互连中电迁移的测试结构,讨论了微测试技术的测试结果。 相似文献
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印制板蚀刻、微蚀刻废液的再生和铜回收的技术及设备 总被引:8,自引:0,他引:8
传统的印制板蚀刻废液处理方法存在着工艺落后、操作不便、二次污染、效益不高等问题,本工艺采用特殊的萃取电解、吸附电解技术,使蚀刻废液得以再生循环利用,铜得以100%回收,低含铜废水铜得到98%回收,整个系统不产生二次污染,获得的铜为高纯度铜板,在实现污染控制的同时,废液废水得到了资源化利用。 相似文献
77.
化学镀多功能铜镀层在电子工业中的应用 总被引:4,自引:0,他引:4
李音 《电子工业专用设备》1998,27(2):27-29,54
论述了多功能铜镀层化学镀液成份的作用及对镀层的影响,并叙述其组成、镀层的表面形态及其在电子工业中的应用。 相似文献
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随着局域网的普及,局域网互连已势在必行,特别是交换式局域网和ATM交换网的出现,为局域网互连提出了新的课题。局域网互连技术包括中继器、网桥、路由器和同关。本文着重对网桥和路由器在局域网互连中的技术实现进行分析比较,并对局域网互连技术的发展进行探讨。 相似文献
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本文利用分子动力学模拟方法,研究了CuN(N=80、140、216、312、408、500、628和736)纳米团簇在热化和冷凝过程中结构和热力学性质的变化,模型采用的是Johnson的EAM作用势.模拟结果表明:铜团簇的熔点和凝固。点随其尺寸线性增加,并逐渐向大块晶体靠拢;所有团簇的凝固。羔都低于熔点,出现凝固过程中的滞后现象;在熔点和凝固点附近,团簇都具有负热容特性,负热容是由相变前后团簇内部结构突变引起的。 相似文献
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100W铜蒸气激光器 总被引:3,自引:0,他引:3
报告了高功率铜蒸气激光器研究的最新进展,给出了我们最近研制成的国内可见波段输出功率最大的100W铜蒸气激光器的一些主要技术参数。 相似文献