CVD金刚石工具膜生长特征SEM观察

本文用不热形变栅状直丝化学气相沉积（ＣＶＤ）法生长金刚石膜，在Ｓｉ及ＷＣ－Ｃｏ硬质合金衬底上金刚石膜晶面显露规律随衬底温度和甲烷浓度而异，经适当表面处理及选择合适的工艺条件，当生长初期衬底上就呈现出良好晶形的沉积膜，衬底与膜之间的粘结力能得到提高。Ｒａｍａｎ谱分析表明此膜仅具有特征金刚石１３３２ｃｍ￣（－１）峰，通过ＳＥＭ观察揭示出盒刚石膜可在表面、侧面及棱上生长，并与衬底有良好的联结。     

非晶金刚石离子镀膜机自动化控制系统的设计

结合非晶金刚石离子镀膜机的工艺特点和要求,介绍了一种成功应用的分布式控制系统的设计,重点讨论了控制系统的硬件配置、软件设计、通信服务程序以及软件编程中的几个控制算法.     

厚膜电阻器的噪声及其测量技术

本文论述了厚膜电阻器中噪声的特点、种类和产生机理，重点介绍了厚膜电阻器噪声测量系统和技术以及分析方法。在以上讨论的基础上，分析了厚膜电阻器中的噪声与结构的关系以及低噪声化技术。     

PECVD制备a-C:H:N薄膜的微观结构研究

非晶含氢碳膜(amorphous ydmgenated arbon a-C：H films)在力学、热学、电学、化学、光学等方面具有优异的性能，被广泛应用于诸多领域，有巨大的应用前景。随着a-C：H薄膜制备技术的进一步完善，在此基础上的改性材料又引起了人们的注意。氮掺杂类金刚石薄膜(a-C：H：N)近年来成为人们研究的     

带有放电去活化膜的新型高清晰度PDP放电体结构

本文介绍为实现高清晰度PDP显示而采用的一种新型放电体(cell)结构。技我们称为DDF(Discharge DeactiVation Film放电去活性膜)的透明Al2O3膜被附着在MgO表面上，它排列在相邻的包括公共电极的显示线之间的边界上。由于Al2O3膜的优良特性和较小的γi，所以在DDF上不发生放电，这对每个放电体的放电绝缘性和提高发光效率都有益处。     

铸膜液溶剂体系的物理参数与BCA不对称膜的透气性

铸膜液的溶剂体系（溶剂和非溶剂）对不对称膜形态的形成有重要作用。为了探索溶剂和透气性间的关系，本文考虑到了制备ＢＣＡ梯度密度不对称膜的各种溶剂的一系列物理参数，得到了一些定性结果，并指出了更全面、明确、解释两者关系的研究方向。