OCT图像散斑的形成机理和清除方法

根据光相干层析成像（OCT）的光学和光电检测系统特点，结合现有的理论模型，分析了OCT成像和散斑形成机理。指出失去相干性的多次散射光部分会被滤波电路排除，散斑是由高散射组织相干长度之内的不同散射截面上的若干具有nπ光程差的相干散射光彼此叠加形成的。最后讨论了消除散斑的方法。     

从图像的二维谱分析现行电视的缺陷

从图像的二维谱可以得出现行广播电视图像为什么不能满足人眼的视觉匹配以及现行电视制度的不足 ,从而对未来的高清晰度电视发展提出要求。     

基于均匀光纤光栅的DWDM系统PMD补偿方法

提出一种基于均匀光纤Bragg光栅(FBG)的透射型密集波分复用(DWDM)系统多信道偏振模色散(PMD)补偿方案。当FBG受到横向挤压时，会产生双折射现象。当一波长的光信号从光栅带隙附近透射时，就会在快轴和慢轴之间产生时延差(DGD)。通过改变外力的大小来调节DGD的大小可以实现对PMD的补偿。通过将多个补偿光栅级联，就可以实现对DWDM系统多信道PMD的补偿。在100N外力作用下，5cm长的光栅最大可以补偿121ps的PMD，而对相邻0．8nm的信道，只引入0．2ps的DGD。     

入射光的偏振和强度对分光镜透／反比的影响

采用能量流分析法推导了一束线偏振光经分光镜分光形成透射／反射光的能量表达式。分别讨论了入射光强度不变而偏振方向变化以及二者同时变化对分光镜透／反比的影响。通过旋转主光路中的偏振片来模拟入射光的偏振方向和强度变化，实验验证了分光比的变化规律。     

半导体制造中的电子显微分析

集成电路的特征尺寸越来越小，电子显微分析在微电子制造中成为不可缺少、不可替代的重要分析手段。本文根据扫描电子显微镜（SEM）及透射电子显微镜（TEM）在实际分析中的特长和局限，主要就仪器分辨率与结果的精确度的问题，讨论如何将两种分析技术有机地结合起来，扬长避短，取得最佳效果。     

透射电镜样品台移动的自动化设计

随着自动化技术的迅速发展，现代的透射电子显微镜技术也步入了自动化或数字化时代。除了成像部分，真空系统等提高了电路的集成度以外，机械运动部分的自动化程度也大幅度提高。但是，目前在国内尚有一批20世纪末期以前的电镜产品，还处于手动或半自动化状态，且仍在发挥着重要作用。如JEM-100CX、JEM-200FX、HT-800等。我们针对     

无纵向电场分量离子波纹激光的小信号增益

在离子波纹摆动器中，改变电子束的入射方向，保证了离子波纹场的纵向分量为零，从而消除了纵向电场对离子波纹激光的不利影响。给出了束电子的运动轨迹，运用Madey定理计算了小振幅条件下该离子波纹激光的小信号增益。     

薄膜的截面TEM样品制备

薄膜材料的厚度仅为微米量级或者更薄，对其微结构的研究十分困难，许多表征方法难以采用。透射电子显微分析（TEM）是薄膜材料微结构研究最重要的手段之一。尽管采用TEM平面样品研究薄膜的微结构在样品制备方面相对容易，但由于薄膜依附于基材生长，且通常具有择优取向和柱状晶生长等微结构特征，因而采用截面样品从薄膜生长的横断面进行观察和研究，可以得到更多的材料微结构信息。但是薄膜的TEM截面样品制备过程较为繁杂，难以掌握。已有的文献主要介绍了Si基片上生长薄膜的TEM截面样品制备方法，对金属基片薄膜截面样品的制备方法介绍不多。     

高压合成Nb1-xB2（0〈x〈0．7）超导体的结构转变、电子结构和超导电性研究

自从MgB2（Tc=39K）超导体发现以来，AlB2型结构的二元化合物在实验和理论研究中都受到了日益广泛的关注。最近，我们利用高温高压方法合成了一系列具有Nb缺位的Nb1-xB2（0〈x〈0．7）化合物，得到了单相AlB2结构的样品。当0．2≤x〈0．5时，样品在8K附近出现明显的超导转变。结构分析表明，随着Nb含量的减少，晶格参数在x≈0．2处发生突变，在a-b面内收缩，沿c轴方向拉长。为了深入理解Nb1-xB2中超导特性与结构转变和电子结构的关系，我们对一系列Nb1-xB2样品进行了电子能量损失谱的测量；并且利用第一原理计算分析了材料的电子结构随成分变化的关系，得到了与实验一致的理论结果。