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41.
浸没式光刻的优势和可行性 总被引:3,自引:2,他引:3
SoichiOwa HiroyukiNagasaka 《电子工业专用设备》2004,33(2):10-14,18
浸没式光刻通过高折射率的液体充入透镜底部和片子之间的空间使光学系统的数值孔径具有显著的优势。在193nm曝光系统中,水(折射率为1.44)被选作最佳的浸入液体。通过成像模拟,现已证明ArF穴193nm雪浸没式光刻(NA=1.05~1.23)与F2穴157nm雪干法穴NA=0.85~0.93雪光刻具有几乎相同的成像性能。结合流体力学和热模拟结果,讨论了ArF浸没式曝光设备的优势和可行性。 相似文献
42.
43.
讨论了制作大面阵矩底拱面状微透镜阵列的工艺条件,给出了氩离子束刻蚀制作红外焦平面用面阵微透镜的离子束刻蚀速率的经验关系式,通过实验获得了光电材料几种常用的氩离子束刻蚀速率与氩离子束能量之间的关系曲线,用扫描电子显微镜测量了所制微透镜阵列的微结构形貌特征。 相似文献
44.
地球存在着地磁场,地磁场对彩色显像管(CPT)的色纯度影响很大.为了减小地磁场对CPT色纯度的影响,通常在CPT内部装有磁屏蔽组件(简称为内屏蔽).本文介绍一种无内屏蔽组件的CPT,它既降低了CPT的成本,又不影响CPT的品位,还能满足全球地磁场的兼容性. 相似文献
45.
硅基液晶(LCOS)空间光调制器件的特点是反射光成像,要求照明光束发散角小,均匀性好。对此,设计了由抛物型反光碗、复眼透镜、偏振分光棱镜、聚光镜等组成的用于LCOS的照明系统,对抛物反光碗以及复眼透镜各参数的设计原理做了详细分析,具体包括光源出射角度,光源的总体长度,所需均匀照亮的尺寸,抛物反光碗各参数对出射角度的影响,其实现原理主要包括复眼透镜匀光理论。设计要求光源出射角度小于10°,总体长度为220 mm,均匀照明面积为20 mm×20 mm,最后给出聚光透镜组的设计结果,使光线聚焦到LCOS表面,照度值要达到0.35 lx/m2,其不均匀度在15%以内。进一步使用Lighttools软件,对其进行仿真,由照度曲线图和照度栅格图可知,设计结果满足设计要求。 相似文献
46.
本文利用费涅耳标量衍射理论和光学模成像法则,讨论了具有内透镜的谐振腔。导出了等效谐振腔的基本结构。计算与分析表明,具有内透镜的平行平面腔可以等效为平球型谐振腔。当腔镜与透镜的配置满足本文所推导的公式时.该腔是热稳腔。本文还讨论了这类谐振腔的选模特性和一些设计实例。 相似文献
47.
48.
49.
介绍了衍射微透镜阵列的设计原理与制作工艺方法,在此基础上研制出适用于 3~5 μm波长256×256 PtSi红外焦平面的 8相位 256×256硅衍射微透镜阵列,阵列中微透镜的孔径为 50μm,透镜 F数为 f/2.5,微透镜阵列的中心距为 50μm。实测衍射效率大于 80%,能在红外波前传感器中较好应用。 相似文献
50.
作者采用多碱光电阴极、静电聚焦的电子透镜系统、背照CCD、高密度引脚的玻封结构以及超高真空处理技术,成功研制出了具有实时电子成像功能的电子轰击电荷耦合器件(Electron Bombarded Charge-CoupledDevice,简称EBCCD)。该器件的主要结构和性能参数为:有效光阴极直径18 mm、光谱响应范围400~850nm、光电阴极灵敏度200μA/lm、CCD像素数512×512、暗信号不均匀性18%。图1为该EBCCD样管实物照片,图2为该样管所输出的图像。图1制成的EBCCD样管的实物照片图2 EBCCD的输出图像电子轰击电荷耦合器件是一种对微弱光信号敏感的成像型… 相似文献