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991.
介绍了俄罗斯OCT 11 073.915-2000标准规定的微型集成电路命名方法,给出器件命名的规则,使用符号及命名中使用的俄罗斯各生产厂家代码. 相似文献
992.
HFC网络中数字电视信号性能参数测试分析 总被引:1,自引:0,他引:1
光纤同轴混合(HFC)网是目前承载数字电视信号的主要传输媒质,HFC网络能否真正满足数字电视传输网络的要求,需要对HFC网络中数字电视信号性能参数进行测试分析.在讨论数字电视信号电平、误码率、调制误差比等主要性能参数的基础上,根据实际运营的有线数字电视HFC网络构建测试模型,测试了数字电视信号的性能参数,分析了数字电视信号在HFC网络中的传输情况.测试分析表明:在目前条件下,HFC网络能适应数字电视信号的传输,有一定的优越性. 相似文献
993.
第二代碳化硅(SiC)肖特基二极管——thinQ!2G是由一个肖特基结构和一个与它平行的独特的低电阻PN结组成,因此具备更加强大的浪涌电流处理能力,同时又继承了第一代碳化硅肖特基二极管所实现的良好的动态性能。 相似文献
994.
有线电视网络由于电视传输是基本的业务,由过去的同轴电缆传输发展到光纤同轴混合网(HFC)传输。HFC网络对多业务传输具有许多优势,也存在一些困惑,如何正确认识优势和困难,以及与业务发展的相关方向的问题呢?以下笔者根据业务要求和营运成本为讨论的基本原则,分析了HFC网络的技术特点和适应性。 相似文献
995.
996.
997.
998.
999.
Jeff Butterbaugh 《集成电路应用》2006,(8):51-51
在集成电路(IC)制造中,需要多次重复去除掩模用光刻胶这一步骤,因此清洁、高效地去胶工艺非常重要。90nm高性能逻辑器件的制造过程使用超过30次光刻工艺。从晶圆表面去除光刻胶的能力在很大程度是由光刻胶性质和工艺历史决定的。在离子注入工艺中,图形化的光刻胶起掩模的作用,特别难以清除。大剂量的离子注入(〉1×l014ions/cm^2)将光刻胶表面脱氢并高度交联,其性能很像非晶碳。改性光刻胶的厚度由注入剂量、注入能量和注入离子种类决定。 相似文献
1000.
作为世界领先的集成电路芯片代工厂之一.中芯国际集成电路制造有限公司已经在中国上海、天津和北京拥有芯片厂.6月底该公司宣布华中地区第一条12英寸集成电路生产线项目正式开工建设.中芯总裁兼总执行长张汝京出席了开工仪式。 相似文献