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薄膜的截面TEM样品制备 总被引:1,自引:0,他引:1
薄膜材料的厚度仅为微米量级或者更薄,对其微结构的研究十分困难,许多表征方法难以采用。透射电子显微分析(TEM)是薄膜材料微结构研究最重要的手段之一。尽管采用TEM平面样品研究薄膜的微结构在样品制备方面相对容易,但由于薄膜依附于基材生长,且通常具有择优取向和柱状晶生长等微结构特征,因而采用截面样品从薄膜生长的横断面进行观察和研究,可以得到更多的材料微结构信息。但是薄膜的TEM截面样品制备过程较为繁杂,难以掌握。已有的文献主要介绍了Si基片上生长薄膜的TEM截面样品制备方法,对金属基片薄膜截面样品的制备方法介绍不多。 相似文献
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在双光束激光直写系统中,衍射光变图像的光刻是逐像素点进行的.本文提出在该系统中采用狭缝获得光栅线来进行衍射图形的直写,利用一种改进的矢量文件格式,使平台沿着垂直光栅线的方向运动,获得连续的多光点同时直写,直写后的衍射光栅线是连续的,系统的运行效率是逐点光刻的几十倍.编写了与DXF文件的接口直写控制程序,给出了实验结果. 相似文献
23.
CrNx 薄膜具有很高的硬度和耐磨性 ,其高温抗氧化性和耐腐蚀性优良 ,不但可作为耐磨涂层用于工模具和切削工具的表面强化 ,而且在表面防腐和装饰等许多工业领域也有重要用途[1] 。同已经得到广泛工业应用的TiN薄膜相比 ,CrNx 薄膜的硬度更高 ,而且具有比TiN更好的耐腐蚀性能[2 ] 。CrNx 薄膜溅射产额比较高 ,有利于大批量的工业生产 ,更具有实用价值[3 ] 。CrNx 薄膜采用SPC 35 0多功能磁控溅射仪制备。在射频阴极 (r .f.)上安装纯Cr靶 (99 99% )作为溅射材料 ,高速钢基片经 1μm金刚石研磨膏抛光后 ,用丙酮… 相似文献
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FRAM是一种新型非易失性存储器。这种存储器可以克服目前现有非易失性存储器的缺陷和限制。介绍其基本工作原理、结构及其特点,并把它与其他非易失性存储器的性能特点作了比较。 相似文献
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近年来,以开关电源用电感为中心的微型磁件的研究取得了很大进展。本文首先讨论论影响薄膜电感和薄膜变压特性的诸要素,重点探讨薄膜材料的趋肤深度参数,并介绍薄膜电感和薄膜变压器的最新开发动向。 相似文献
29.
叙述了真空蒸发金属膜的形成过程和膜层结构,运用金属原子迁移理论分析了挠性力平衡力速度传感器石英摆片导带“断裂”故障,提出了增强可靠性的技术途径。 相似文献
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YBCO超导薄膜临界温度TC的直流测量方法的研究 总被引:1,自引:0,他引:1
国家超导中心组织啊四个单位对YBCO超导薄膜临界温度TC直流测试方法进行了研究。各单位测得的TC的变化系数小于1%。 相似文献