内燃结构氢氧合成氧化不均匀的原因及对策

从流体力学和传热学的角度，分析了在口径氧化炉中，采用内燃结构进行了氢氧合成氧化，造成硅片氧化层厚度不均匀的原因。并根据流体力学和传热学的原理，提出了解决这一问题的方法－设计了扰了流隔热装置。     

亚微米ULSI无鸟喙封闭界面局部氧化技术

研究了一种适用于亚微米特大规模集成电路(ULSI)的封闭界面局部氧化隔离技术;作者把等离子增强化学汽相淀积工艺用于Si_3N_4/SiO_2/Si_3N_4复合结构的生产中;这种掩蔽结构,对垂直封闭以及在硅选择氧化期间通过掩模夹层边缘封闭氧化剂十分有效。为了在芯片制造过程中形成完全平坦的图形,生长了全开槽和半开槽的场氧化物。本文报道了一种适用于ULSI的无鸟喙LOCOS工艺。     

3,3',5,5'-四甲基联苯胺在SnO2:F膜光透电极上的薄层光谱电化学研究

3,3',5,5'-四甲基联苯胺(TMB)在不同pH的B-R缓冲溶液中有不同的电氧化行为.文中以自制的SnO2:F膜光透薄层光谱电化学池对TMB的电氧化性质进行了研究.TMB在pH 2.0至pH＜4.0的B-R缓冲溶液中为一步两电子电氧化过程,在pH 4.0～pH＜7.0的B-R缓冲溶液中为分步的两个单电子氧化过程,且在pH 6.5时则先为分步的两个单电子过程,随后其氧化产物进一步转化为偶氮化合物.实验中应用了薄层循环伏安法、薄层循环伏安吸收法、薄层恒电位电解吸收光谱法、单电位阶跃计时吸收光谱法、双电位阶跃计时吸收光谱法、单电位阶跃开路弛豫计时吸收光谱法等技术;测得了在各pH值的B-R缓冲溶液中TMB电氧化相应的克式量电位E0',电子转移数n以及有关的化学反应速率常数.     

铜滴定分析的进展

由于铜在工业、农业、国防、科研及首饰等领域中都有重要的应用,因而有关铜的分析,人们作了相当广泛的研究,其中常量的铜多以滴定法进行测定,尽管已有的几种主要滴定反应基本定型,方法及技术已比较成熟,但近年来,国内外仍在研究新的指示剂、滴定剂、掩蔽剂、新方法与新技术,使铜的滴定分析不断发展与完善。本文着重评述1989～1994国内外在铜滴定分析方面有意义的研究工作进展,还引用少数1989年以前的文献。 1 新方法与新技术 在准确滴定诸如紫铜一类的高含量物质量时,产生滴定误差的主要原因是滴定管的最小加入量及准确读数的限制,为了满足紫铜分析的误差要求(≤0.03％),必须设法扩大滴定管的“量程”以提高滴定分析的分辨率和准确度。为此,袁秉鉴在研究“百实量计     

K对Mn—Co—O的结构及氧化活性的影响

利用XRD,TPD,TFD-MS及催化氧化反应等实验技术,研究了K对Mn-Co-O的结构及氧化活性的影响。XRD结果表明,Mn-Co-O系已形成反尖晶石型的MnCo_2O_4结构;K-Mn-Co-O系中除MnCo_2O_4型结构外,还有新相KMnO_2存在。根据O_2的TPD-MS及吡啶的TPD结果,Mn-Co-O中添加适量的K能提高供氧活性和增加供氧数目,但酸中心数目减少,强度降低。K对Mn-Co—O催化剂氧化活性的影响随反应物分子结构的不同而异,对乙酸乙脂、苯甲酰氯等极性有机物的完全氧化反应,K能提高氧化活性,但对苯、正己烷等非极性有机物的完全氧化反应,K使其活性降低。     

甲烷制取中CaO-Mx(O)n催化氧化研究

甲烷制取是大学基础有机化学中一个重要实验内容[1,2],其制取方法文献至今仍有争议,据不完全的统计,国内从70年代至90年代有近30篇的文献用CaO-Mx(O)n来催化制取CH4[3,4],同现有催化氧化理论相矛盾,利用CaO-Mx(O)n催化制取甲烷产气量低.为探究其问题实质,本文在50多次的CH4制取实验基础上,对其系统研究,并从CaO-Mx(O)n与CH4反应的FMO能量,制取反应的△GT,及催化剂的活性角度进行探讨,提出一些不同的看法.本研究在教学上、理论研究上及对我国丰富的天然气资源的应用上都具有重要的现实意义.