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31.
潘丽 《电子世界》2004,(1):75-75
故障现象 一台快乐HC2061AR彩电,无光栅。分析与检修 查电压和行扫描电路正常,显像管灯丝已亮,屏幕上有字符,三个阴极电压均在170V左右,测量三个视放管基极和发射极电压均为7.6V左右,反偏截止;将显像管加速极电压调高后,出现纯净的白光栅,但有回扫线,说明显像管供给中、高电压正常,判断故障在解码和亮度电路。该机为东芝TA二片机(TA7680AP和TA7698AP),微处理器为TMP47C433AN。查扫描、解码电路TA7698AP的脚12V供给电压正常(见附图),亮度控制端脚电压为4V左右,且随亮度调整上下变化, TA7698AP内部亮度电路输出端23脚电压为8…  相似文献   
32.
吴勇  黄国策  刘芸江 《移动通信》2004,28(Z1):156-158
目前Ka波段固定卫星通信的衰减主要通过自适应技术来消除。本文首先对固定卫星信道衰减的几个主要因素进行了分析,其次介绍了目前的各种抗衰减的自适应技术,最后就自适应调制技术进行了详细分析并给出了其带来的性能改善结果。  相似文献   
33.
许参  艾晓辉  王超 《电子器件》2003,26(2):122-124
设计了GMSK(Gauss Minimum Shift Keying,高斯最小频移键控)无线接收终端的硬件与软件系统。硬件的射频电路对空中信号进行接收与滤波,再由以MX589构成的解调模块解调,输出数字信号;数字硬件以单片机GMS97L5为核心。软件系统设计了对IC卡AT88SCl608加密卡的认证以及对串行数据的接收与处理的中断程序。终端系统接收数据快、性能稳定。  相似文献   
34.
智能天线是目前移动通信中的热点话题之一,也是提升网络容量和改善传输质量的关键技术。本文简要介绍了智能天线基本概念,原理及其在无线网络中的重大作用。  相似文献   
35.
基于均匀光纤光栅的DWDM系统PMD补偿方法   总被引:4,自引:4,他引:0  
提出一种基于均匀光纤Bragg光栅(FBG)的透射型密集波分复用(DWDM)系统多信道偏振模色散(PMD)补偿方案。当FBG受到横向挤压时,会产生双折射现象。当一波长的光信号从光栅带隙附近透射时,就会在快轴和慢轴之间产生时延差(DGD)。通过改变外力的大小来调节DGD的大小可以实现对PMD的补偿。通过将多个补偿光栅级联,就可以实现对DWDM系统多信道PMD的补偿。在100N外力作用下,5cm长的光栅最大可以补偿121ps的PMD,而对相邻0.8nm的信道,只引入0.2ps的DGD。  相似文献   
36.
凌永发  王杰  陈跃斌 《通信学报》2004,25(10):45-50
采用支持向量机(SVM)对网络业务流数据进行预测估计,通过训练样本,从而获得样本以外数据的分布规律。在此基础上,设计了一种网络排队队列缓存的预估模型。实验表明,该模型具有较高的训练效率和很高的估计精确度。  相似文献   
37.
用溶胶-凝胶技术在Bi(100)衬底上制备了单层和渐变型多层的BaxSr(1-X)TiO3薄膜,其膜层组分分别为:Ba0.7Sr0.3TiO3,Ba0.8Sr0.2TiO,Ba0.9Sr0.1TiO3,BaTiO3,对生长制备出的多层BaxSr(1-X)TiO3薄膜进行了变角度椭偏光谱测量,通过椭偏光谱解谱分析研究,首次得到了BaxSr(1-X)TiO3多层膜结构不同膜层的膜厚和光学常数,其结果显示:椭偏光谱分析得到的不同膜层的膜厚与卢瑟福背向散射测量得到的结果基本相符;渐变型多层膜中BaTiO3薄膜的折射率比单层BaTiO3薄膜折射率大许多,与体BaTiO3的折射率相接近,这说明渐变型多层膜中BaTiO3薄膜的光学性质与体材料的光学性质接近。  相似文献   
38.
本文研究了双基地空时自适应处理(STAP)的性能,文中指出一般的双基地杂波环境具有不稳定性,这种不稳定性会阻碍STAP的实施。文中举例说明,如果不采取正确的措施,协方差估值误差所带来的信号干扰噪声比(SINR)损失可达30dB,但是如果使用了局域化STAP算法并结合时变加权处理,大部分性能损失还是可以挽回的。  相似文献   
39.
在单基侧视机载或星载雷达系统中,空时自适应处理是一种成熟可行的慢速移动目标检测方法。在双基雷达系统中,由于杂波的非平稳特性,空时自适应处理无法获得理想的性能。为了揭示双基雷达杂波的非平稳特性,文中推导出了方位-多普勒曲线,研究了一种基于AD曲线配准的杂波非平稳特性的消除方法,给出了此种方法的处理步骤和性能分析。通过仿真发现,该方法处理算法不太复杂且性能优良。  相似文献   
40.
发射尖是液态金属离子源(LMIS)的关键部件之一,其性能的优劣直接影响到整个离子源的工作稳定性。通过对系统软件和硬件的设计,开发了一套发射尖自动腐蚀装置,该装置可以对发射尖腐蚀过程中的速度和深度以及腐蚀电压进行控制,实现发射尖腐蚀工艺的重复性、可靠性,从而为液态金属离子源以及聚焦离子束系统的研制、开发提供了一个有效的辅助工具。  相似文献   
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