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微波消解ICP-AES法同时测定花岗石中铜、镉、铬和砷 总被引:9,自引:3,他引:6
本文采用微波消解和ICP-AES法,同时测定花岗石样品的铅、镉、铬、砷4有害元素,检出限分别为0.0008、0.0007、0.0018、0.0012μg.mL^-1,回收率为93.4%-102.5%,RSD为1.3%-3.6%,该法准确、快速、简便,结果令人满意。 相似文献
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本文对目前广泛使用的旧式彩色电子管发射机实现自动化控制的可行性进行了比较详细的理论分析及对控制过程进行了较为详细的介绍。 相似文献
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ICP-AES测定饮用水源中的Cu、Mn、Pb、Cd、Zn 总被引:7,自引:2,他引:5
用ICP-AES法同时测定饮用水源中的Cu、Mn、Pb、Cd、Zn等重金属元素,具有基体效应小、测量范围宽等优点。检出限为0.2-4.0μg/L,回收率为91.5%-103.9%,相对标准偏差为0.29%-1.5%,测定密码样与实际样品,结果令人满意。 相似文献
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Suppression of Chaos and Phase Locking in Two Coupled Nonidentical Neurons under Periodic Input
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Dynamical behaviour of two coupled neurons with at least one of them being chaotic is presented. Bifurcation diagrams and Lyapunov exponents are calculated to diagnose the dynamical behaviour of the coupled neurons with the increasing coupling strength. It is found that when the coupling strength increases, a chaotic neuron can be controlled by the coupling between neurons. At the same time, phase locking is studied by the maxima of the differences of instantaneous phases and average frequencies between two coupled neurons, and the inherent connection of phase locking and the suppression of chaos is formulated. It is observed that the onset of phase locking is closely related to the suppression of chaos. Finally, a way for suppression of chaos in two coupled nonidentical neurons under periodic input is suggested. 相似文献
136.
高固体分羟基丙烯酸树脂的合成 总被引:1,自引:0,他引:1
以过氧化二苯甲酰(BPO)/过氧化二异丙苯(DCP)(质量比为2:3)为复合引发剂,二甲苯为溶剂,选用适量含羟基单体和分子量调节剂,以减缓树脂合成聚合反应中的自动加速现象,合成了分子量为3000-4000,多分散性指数d〈2的高固体分羟基丙烯酸树脂.该树脂与缩二脲多异氰酸酯(HDI)的配漆实验证明,所得漆膜鲜映性好、丰满度高、色泽好、雾影值低、综合性能较好. 相似文献
137.
基于傅立叶变换轮廓术的物面相位提取 总被引:1,自引:0,他引:1
采用傅立叶变换轮廓术,针对基频提取的关键技术采用逐行傅立叶变换,准确提取基频信息的方法恢复相位信息.在此基础上,以未畸变条纹为基准,得出被测物体的真实位相值.该方法只需一幅条纹图,节约了测量时间.实验证明可实现无接触面型的自动传感. 相似文献
138.
线阵CCD在双棱镜测光波波长中的应用 总被引:1,自引:0,他引:1
CCD是一种以电荷量表示光量的大小,用耦合方式传输电荷量的新型光电传感器件,其基本部分由MOS光敏元列阵和读出移位寄存器组成.具有体积小、重量轻、功耗低、光谱响应范围宽、分辨率高、精度高、稳定性能良好等一系列优点,与计算机配合使用,使得由CCD采集到的大量数据的处理变得非常容易.对测量数据的处理可以经过存储、自动补偿和校正,最后打印输出,现今已在航天、遥感、军事设备、自动控制、雷达、医学、生物、化学、颜色测量等方面得到了广泛的应用[1].我们将其用在实验教学中,取得了很好的效果. 相似文献
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对以本征Si及重掺杂p型和n型Si作为中间层的Fe/Si多层膜的层间耦合进行研究,并通过退火,增大Fe,Si之间的扩散,分析界面扩散对层间耦合的影响. 实验结果表明,层状结构良好的制备态的多层膜,Fe,Si之间也存在一定程度的扩散,它是影响层间耦合的 主要因素,远远超过了半导体意义上的重掺杂,使不同种类的Si作为中间层的层间耦合基本 一致.进一步还发现,在一定范围内增大Fe,Si之间的扩散,即使多层膜的层状结构已经有了相当的退化,Fe/Si多层膜的反铁磁耦合强度基本保持不变.
关键词:
Fe/Si多层膜
层间耦合
界面扩散 相似文献
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