等离子体显示技术发展综述

等离子电视PDP(Plasma Dis—play Panel)技术可切分为五大技术模块：整机技术、电源技术、视端接口技术、驱动电路技术和等离子屏技术。其中驱动电路和显示屏是最难解决的两大问题。驱动电路属于技术密集型产品，技术突破难度很大；显示屏属于投资密集型产品，国内企业涉足等离子屏生产难度大。中国等离子     

先锋发布新一代等离子电视

2月26日,先锋电子(中国)投资有限公司广州办事处联合广州市泰时电子设备有限公司在广州万怡天伦酒店3楼举行先锋最新等离子电视新产品发布会。先锋新一代的等离于电视PDP-504HDC是先锋公司推出市场的第四代等离子电视,新产品比上一代的PDP-503有了长足的进步,其突出表现在运用了先锋己研制出的“Pure Drive”     

良序套张量积的代数中的强不可约算子

设Ｈ为复的可分无限维Ｈｉｌｂｅｒｔ空间，称有界线性算子Ｔ为强不可约的，如果与Ｔ可交换的幂等算子只有０和Ｉ．王宗尧、蒋春澜、纪有清等人证明了在任何一个套的套代数中都存在大量的强不可约算子，并且找到了它们的酉轨道闭包．本文考虑有限个套的张量积的代数中强不可约算子的存在性问题。证明了：对复平面上任何一个连通完备集σ、总存在一个对角算子Ｎ和它的一个范数可以任意小的紧摄动Ｔ＝Ｘ＋Ｋ，使得Ｔ是一个强不可约算子、Ｔ在有限个良序套的张量积的代数中，并且σ（Ｔ）＝σｌｒｅ（Ｔ）＝σ（Ｎ）＝σｌｒｅ（Ｎ）＝σ进一步，文章还对具有单点谱的算子和良序套与正交补为良序套的张量积的代数进行了讨论，得到了一些结果．     

套代数子空间的端点

设d为套代数AlgN的子空间且包含AlgN的所有一秩算子．利用预零化子d⊥中一秩算子,我们给出了单位球d1中端点的刻画．     

等离子氨化硅应力的研究

氮化硅的应力严重制约着它的应用，但常见资料对氨化硅应力的分析颇略。本文较详细地介绍了ＰＥＣＶＤＳｉｘＮｙ，薄膜应力大小与制备工艺的关系，从而揭示了能有效地抑制ＳｉｘＮｙ应力的工艺途径。文中给出了大量数据，对许多实际问题进行了讨论。     

另类出击 多功能液晶电视推荐

在近年来势鼎沸的电视换代风潮中，一骑绝尘甩开等离子，投影机和背投，液晶电视始终是跑得最欢也最被关注看好的领头羊。经过长期的产能积蓄和技术酝酿，     

超大规模集成电路光学光刻技术的现状与展望

光学光刻是目前超大规模集成电路(VLSI)制备中主要的微米和亚微米的图形加工技术,这一技术将继续保持其主导地位成为90年代VLSI发展的关键。本文综述了近年来光学光刻工艺的发展,主要介绍了G线(436nm)、Ⅰ线(365nm)和准分子激光光刻的现状,并对实现高的光学光刻分辨率所必须解决的透镜设计、套准精度和像场面积等问题作了详细描述。最后展望了发展方向、     

图象识别自动对准

<正> 概 述 在大规模集成电路生产中,自动对准技术是极其关键的一项技术,它主要解决IC生产中的图形刻套问题,以提高产品成品率及生产效率。该技术是西方发达国家对我国微电子工业发展实行技术封锁与控制的重点,也是自七十年代初至今这二十余年来严重困扰和阻碍我国集成电路制造与发展的一项久攻未破的老大难问题。我所作为我国专门从     

GaAs器件工艺中等离子刻蚀及计算机辅助监控技术研究

用Ｎ２气和ＮＦ３反应气体，在较低的刻蚀功率下实现了用薄正性光刻胶ＡＺ１５１８作掩模，均匀、快速刻蚀ＳｉＯ２，ＳｉＯＮ，Ｓｉ３Ｎ４，ＷＮ，Ｗ等材料的等离子刻蚀技术。利用到蚀过程中射频参数的变化和计算机技术，将射频参数的变化在计算机屏幕上实时显示，实现了计算机辅助监控和终点检测技术。     

PDP用防反射滤光膜

最近，在大部分家电商场都专门设置了等离子显示器(PDP)柜台，展示32英寸以上薄型大屏幕显示器。预计2004年PDP市埸规模将达到200万台，2005年为400万台以上。