Adams谱序列中α~s(n)h0hk的收敛性

证明了(i)在p≥ 5,2≤s≤p- 1 ,k≥ 2时, β_sh₀h_k+1收敛到E_∞ ;(ii)在p≥7,3≤s≤p-1,k≥3时, γ_sh₀h_k+1收敛到E_∞.     

HL—1M托卡马克中的硼化

用碳硼烷加氢直流辉光放电，在ＨＬ－１Ｍ托卡马克内壁上原位涂覆了含碳硼膜，平均厚度５０－７０ｎｍ硼碳比约为１：６。硼化后器壁条件有了本质的改善，对器壁上氧源的抑制特别显著，也增强了石墨表面抗氢离子和氢原子化学蚀刻能力。硼化显著了改善了等主子体性能和提高了等离子体参数。扰动显著减小，放电稳定性和重复性提高。硼化为低混杂波电流驱动实验创造了良好的壁条件。     

HL—1装置辅助加热等对能量约束的影响

在ＨＬ－１托卡马克上进行了辅助加热，加料，电流驱动的物理实验研究。在改善等离子约束方面，某些实验取得了较好的结果。在适当的稳定放电条件下，低杂波电流驱动和弹丸注入辅助加料，均能使等离子体能量约束得到一定程度的改善，与相同密度条件下的欧姆加热放电相比，能量约束时间提高了约３０％。在电子回旋共振加热等离子体实验中，等离子体总能量明显增加，但与相同密度条件下的欧姆加热放电相比，能量约束时间减少了约２０％     

Precise Asymptotics for Lévy Processes

Let {X（t）, t ≥ 0} be a Lévy process with EX（1） = 0 and EX^2（1） 〈 ∞. In this paper, we shall give two precise asymptotic theorems for {X（t）, t 〉 0}. By the way, we prove the corresponding conclusions for strictly stable processes and a general precise asymptotic proposition for sums of i.i.d. random variables.     

AFTEX—3000F型ECR溅射装置

电子回旋共振(ECR)等离子体法广泛用于SiO_2、Si_3N_4膜等的低温CVD技术,以及MOS器件的微细栅极刻蚀技术。在ECR等离子体法中,由于低气压下生成高离子化的等离子体,故以低能量、大的离子电流照射而能持续进行表面反应,然而以往的技术无法实现高质量的薄膜工艺。由于用固体靶溅射,靶材供给容易,进而把上述技术作为基础,开发了ECR溅射技术。     

高稳定度CPM飞秒激光特性的研究

利用最优化动力学参数的方法,获得了高稳定度的CPM飞秒激光器运转特性。激光器输出平均脉宽43fs,中心波长624nm,平均功率20mW,脉宽不稳定度±3.3％,频率不稳定度小于10~(-6)。     

热设备衬里损伤的红外诊断及特征识别

阐述了热设备衬里损伤的红外诊断及特征识别的基本原理和方法。在此基础上，研制开发的红外诊断软件包，在石油一厂１２０万吨／年催化裂化装置上进行了应用，在可靠性与实用性得到验证的同时，为企业创造了明显的经济效益。     

小空间、小系统、大作为——试听意力Cinema 05家庭影院系统

德国ELAC(意力)成立于1926年,其初期的主要业务是为德国军方生产回声器、声纳等精密水底探测装置,随后于和平时期转型生产民用音响器材。依靠其生产声纳探测器材而积累的高超技术,意力在这76年间发展成为德国产销量最大的高级音响厂商,特别以扬声器产品极负盛名。JET喷射式高音、铝膜、纸盆“三文治”式中低音单元、NXT平面喇叭等,无一不是领先世界科技之作,产品足以反映出勇于创新、制作精工、行事果断的日耳曼民族精神和德意志传统作风。