首页 | 本学科首页   官方微博 | 高级检索  
文章检索
  按 检索   检索词:      
出版年份:   被引次数:   他引次数: 提示:输入*表示无穷大
  收费全文   465篇
  免费   74篇
  国内免费   77篇
化学   319篇
晶体学   5篇
力学   7篇
综合类   8篇
数学   6篇
物理学   102篇
无线电   169篇
  2024年   2篇
  2023年   12篇
  2022年   14篇
  2021年   13篇
  2020年   13篇
  2019年   21篇
  2018年   6篇
  2017年   14篇
  2016年   11篇
  2015年   18篇
  2014年   30篇
  2013年   19篇
  2012年   29篇
  2011年   28篇
  2010年   34篇
  2009年   27篇
  2008年   37篇
  2007年   30篇
  2006年   33篇
  2005年   26篇
  2004年   20篇
  2003年   20篇
  2002年   11篇
  2001年   17篇
  2000年   11篇
  1999年   6篇
  1998年   10篇
  1997年   8篇
  1996年   6篇
  1995年   9篇
  1994年   11篇
  1993年   9篇
  1992年   16篇
  1991年   19篇
  1990年   9篇
  1989年   10篇
  1988年   3篇
  1987年   1篇
  1986年   1篇
  1985年   1篇
  1984年   1篇
排序方式: 共有616条查询结果,搜索用时 13 毫秒
61.
建立了分散固相萃取-液相色谱-串联质谱同时快速测定化妆品中81种非法添加糖皮质激素(GCs)的分析方法。样品用水分散后加乙腈超声提取,经十八烷基键合硅胶(C18)和N-丙基乙二胺(PSA)净化,待测物选用具有多重色谱保留模式的Poroshell 120 PFP色谱柱(100 mm×2.1 mm,2.7μm)分离,以0.2%(v/v)乙酸水溶液-乙腈为流动相梯度洗脱,在电喷雾正离子模式下以动态多反应监测方式测定,内标法定量。81种待测物在各自的浓度范围内线性关系良好,相关系数均大于0.99,在3个不同的添加水平下,平均回收率为68.8%~105.3%,RSD为2.9%~13.1%(n=6),方法的检出限(S/N≥3)和定量限(S/N≥10)分别为0.002~0.006μg/g和0.005~0.020μg/g。筛查了137个化妆品样品,发现16个阳性样品,含量为16.9~158μg/g。结果表明,该法简便快速,灵敏可靠,适用于化妆品中81种GCs的同时快速定性定量筛查分析。  相似文献   
62.
双站方位时差定位系统精度分析   总被引:1,自引:0,他引:1  
针对测向定位精度低,时差定位需要3个接收站以及精确时统的要求,提出方位时差联合定位体制。首先建立双站方位时差联合定位数学模型,列举测量方程组,分析方位线与时差线的交会性能,并提供解析解。然后在具体的模拟场景中,绘制了定位误差的分布效果图,根据直观特征,总结了方位时差联合定位系统的误差分布规律。又从测量方程组出发,通过微分关系,推导出理论定位精度几何稀释,并分析2种特殊情形下的定位效果。最后提供3种定位体制的定位误差对比数据,对实际工程应用中的布站设计具有指导意义。  相似文献   
63.
加入同位素标记物的动物源性样品(龙虾、肠衣),在酸性条件下用2-硝基苯甲醛,使样品中呋喃唑酮、呋喃西林、呋喃它酮、呋喃妥因实现衍生。经乙酸乙酯提取浓缩、用甲醇水溶液溶解过滤后,滤液用液相色谱-串联质谱定量。在0.5,1.0和2.0μg/kg3个浓度水平上进行添加回收试验,回收率为80.1%~92.2%,检出限(LOQ)...  相似文献   
64.
针对防焊出现的显影不净问题,通过实际的生产跟进分析验证,找出造成显影不净的主要因素:无尘房的温湿度、油墨本身的性能、油墨在产线(开油到显影的停放时间)。为解决此类问题提供思路。  相似文献   
65.
66.
大功率半导体器件是机电一体化不可缺少的基础元件,光致诱蚀无显影气相DFVP光刻具有分辨高、钍孔密度低、光刻流程短、设备简单、经济上节约等优点。因此将DFVP运用于晶闸管器件的生产具有重要的意义。研究的技术关键是要解决厚SiO2层的刻蚀、刻蚀的曝光量及速度问题。本课题对DFVP机理作了进一步研究,从而研究了两种新的光致诱蚀剂;已大大缩短曝光时间(约1分钟),并能刻蚀含杂质镓且厚达1.4μm的SiO2  相似文献   
67.
在以前还只是处于想象境地的抗蚀剂干显影(等离子体显影)已展示了实现的可能性。一方面开发了能够干显影的抗蚀剂,另一方面还发展了能对现有抗蚀剂作干显影的新工艺。本文简述了至今为止所发表的抗蚀剂的干显影技术方法和技术动向,也介绍了我们所做的有关工作。  相似文献   
68.
姚可夫  阮芳 《中国物理快报》2005,22(6):1481-1483
We report that binary bulk metallic glasses can be made up to 6ram in diameter in a Pd Si ahoy system by air cooling at slow cooling rate (about 8 K/s). The high stability of the undercooled liquid and the large glass-forming ability (GFA) of the binary alloy are contributed to the removing of heterogeneous impurities in the alloy melt by employing the fluxing technique. It has been found that decreasing cooling rate can increase the supercooled liquid region and thermal stability of the glassy alloy. After fluxing, a wider supercooled liquid region (△T = 58 K) and higher glass-forming ability have been obtained in a Pd81Si19 binary glassy alloy prepared by slow cooling rate.  相似文献   
69.
70.
文章结合过显侵蚀干膜的原理,试验设计不同的显影条件,分析干膜线路和蚀刻线路的情况,确定显影关键点及其对精细线路制作的影响。  相似文献   
设为首页 | 免责声明 | 关于勤云 | 加入收藏

Copyright©北京勤云科技发展有限公司  京ICP备09084417号