精确控制大数值孔径微透镜列阵面形的显影阈值方法

提出了一种可对大矢高、非球面微透镜阵列面形进行精确控制的新方法。针对不同面形的微透镜阵列，该方法首先对光致抗蚀剂表面的曝光分布进行设计，然后，利用光致抗蚀剂显影过程中的阈值特性，对微透镜的面形实行控制。当抗蚀剂显影速率接近0时，即可获得设计的微透镜面形。该方法不仅大大提高了微透镜阵列矢高的加工范围，而且还减小了光刻材料显影特性对微透镜面形的影响，提高了微透镜阵列的面形控制精度，在实验中获得了矢高达114μm的微透镜阵列。最终实现了大浮雕深度、大数值孔径、非球面微列阵光学元件的面形控制。     

光刻返工引起的MIM电容失效机理和解决方案

针对由金属-绝缘体-金属(MIM)电容金属层光刻返工引起的产品成品率下降10％的问题,开展了一系列工艺实验,分析了引起失效的机理并提出了改进措施.采用扫描电子显微镜对失效样品进行了分析和表征,发现失效样品的氮化硅介电层有空洞,而未经MIM光刻返工的样品均未发现介质层有异常.由于MIM金属层光刻返工时,经过等离子体去胶和EKC溶液清洗表面易对电容介质层造成损伤,引起极板间短路,进而影响器件性能.实验结果表明,采用有机显影溶剂去胶来取代等离子体去胶,可有效改善光刻返工引起的电介质层损伤.采用该方法返工两次以内的成品率均不受影响.同时发现MIM电容层上的钨塞孔链密度在一定程度上影响失效率,分析认为高孔链密度样品更易受到后续孔刻蚀工艺的强电场影响.     

光刻制程参数对光刻胶DICD和锥角的影响

光刻胶经过曝光、显影后的锥角(Taper)和关键尺寸(Develop Inspection Critical Dimension,DICD)是光刻工艺的重要参数。明确影响锥角和DICD的工艺参数,进而控制锥角和DICD,这对工艺制程至关重要。本文结合光刻制程,探究了光刻胶厚度、曝光剂量、Z值、显影时间对锥角和DICD的影响,并结合蒙特卡罗算法对显影制程进行评估。实验结果表明:光刻胶厚度每增加1μm,DICD增加约2.6μm。同时,厚度增加会导致光刻胶顶部的锥角逐渐由锐角向钝角演变。曝光剂量每增加10mJ/s,DICD则减小约0.8μm,锥角则呈阈值跳跃式上升趋势。基板在最佳焦平面曝光,DICD和锥角均一性最好。显影时间每增加10s,DICD下降约0.3m,锥角则增加约1.7°。最终,DICD和锥角呈负相关关系,可以通过调节光刻工艺参数对锥角和DICD进行控制。     

关于长大隧道通风排污优化控制仿真设计

在长大隧道通风排污优化控制系统中,由于受到隧道内车流量改变以及外界环境变化的影响,传统采用的固定论域的模糊控制方法往往无法有效地降低污染物浓度,还极易造成通风风机的不必要浪费。为解决上述问题,提出一种基于粒子群优化算法的变论域模糊控制策略,通过建立隧道内通风风量的数学模型,分析通风排污过程中控制目标的性能指标,利用粒子群优化算法在线对伸缩因子进行寻优,以此动态调整模糊控制器输入、输出量的论域,从而改善隧道环境参数。搭建Matlab/Fuzzy仿真平台完成系统仿真并与传统模糊控制器进行比较,仿真结果显示优化后的控制方法与传统控制方法相比,可以有效地抑制污染物浓度并且达到了较好的节能目的。     

稀释溶液吸光度比值法测定不稳定络合物的稳定常数

本文利用溶液的稀释度与其吸光度的关系,导出一个适用于不稳定络合物稳定常数的测定方法。当络合物的摩尔吸光系数(ε)不能直接测定时,本法可直接求算它的稳定常数及摩尔吸光系数。本文还讨论了方法误差与络合物离解度以及溶液稀释度的关系。     

肌醇在纯水和卤化钠水溶液中稀释过程的热力学性质

应用微量热法测定了298.15 K时肌醇在纯水和卤化钠水溶液中的稀释焓, 根据McMillan-Mayer理论, 计算了肌醇在溶液中的二到四阶焓相互作用系数. 结果表明, 肌醇在卤化钠溶液中的焓对相互作用系数h2均为负值, 并且随着卤素阴离子半径的增大, h2的绝对值呈增大趋势.     

同位素稀释超高效液相色谱-串联质谱法测定人血清中孕酮

建立了超高效液相色谱-串联质谱(UPLC-MS/MS)测定人血清中孕酮的分析方法。血清样品经乙酸乙酯、正己烷液液萃取(LLE)后,采用Acquity UPLC BEH C_(18)色谱柱(2.1 mm×100 mm,1.7μm)进行梯度分离,色谱运行时间为5 min,采用电喷雾(ESI)正离子电离模式和多反应监测(MRM)扫描模式,同位素内标法定量。考察了两步萃取法对孕酮的提取效果,不同流动相的分离效果以及样品稳定性,结果表明以甲醇-0.1%氨水溶液为流动相时分离效果较好。优化条件下,孕酮在10～10 000pg/mL范围内线性关系良好(r~2=0.999 8),方法检出限和定量下限分别为5、10 pg/mL;平均加标回收率为91.5%～106%,日内相对标准偏差(RSD)为1.2%～8.2%,日间RSD为4.1%～9.1%。采用该方法对30个真实血清样品进行测定,孕酮质量浓度为0.050 2～1.363 5 ng/mL,均在正常生理范围内。该方法灵敏度高、准确可靠,可用于临床血清样品中孕酮生理水平的检测。     

聚合物在无显影气相光刻工艺中的作用

研究了聚合物在无显影气相光刻过程中的作用，由此解释了无显影气相光刻过程中曝光区和非曝光区高腐蚀速度差，高分辨率和高腐蚀纵宽比的原因．     

痕量铼的同位素稀释中子活化分析

将同位素稀释法的准确性与中子活性分析（ＮＡＡ）的高灵敏度相结合，建立了一种新的痕量铼的测试方法，实验中对Ｒｅ的检出限为０．００４ｎｇ，全流程空白为０．０５ｎｇ，地于Ｒｅ含量为６４ｎｇ／ｇ的样品，在取样量为５０ｍｇ时，单次测定误差（２σ）为３．１％，测定Ｒｅ一为３０ｎｇ／ｇ的样品，本方法的２σ在３％以内，４次分析的ＲＳＤ为４．１％，而采用一般的ＮＡＡ，结果偏低约２０％，并且ＲＳＤ大于５％。